薄膜光学
光学薄膜基础知识介绍
光学薄膜基础知识介绍光学薄膜是一种具有特定光学性质的薄膜材料,通常由多个不同折射率的材料层次交替排列组成。
它以其特殊的折射、反射、透射等光学性质,在光学领域中得到广泛应用。
下面将介绍光学薄膜的基础知识。
一、光学薄膜的分类1.反射膜:反射膜是一种具有高反射特性的光学薄膜,适用于折射率较高的材料上,如金属、半导体、绝缘体等。
2.透射膜:透射膜是一种具有高透射特性的光学薄膜,适用于折射率较低的材料上,如玻璃、塑料等。
二、光学薄膜的制备方法1.蒸镀法:蒸镀法是最常用的制备光学薄膜的方法之一、它通过将所需材料加热至一定温度,使其蒸发或升华,并在基板上形成薄膜。
2.溅射法:溅射法是另一种常用的光学薄膜制备方法。
它通过在真空环境中,使用离子束或电子束激活靶材料,并将其溅射到基板上形成薄膜。
3.化学气相沉积法:化学气相沉积法是一种以气体化学反应为基础的制备光学薄膜的方法。
它通过将反应气体通入反应室中,在基板表面沉积出所需的材料薄膜。
三、光学薄膜的性质和应用1.折射率:光学薄膜的折射率是指光线在薄膜中传播时的折射程度,决定了光的传播速度和路径。
根据折射率的不同,可以制备出不同属性的光学薄膜,如透明薄膜、反射薄膜等。
2.反射率:光学薄膜的反射率是指光线在薄膜表面发生反射的程度,决定了光的反射效果。
反射薄膜广泛应用于光学镜片、反光镜、光器件等领域。
3.透射率:光学薄膜的透射率是指光线透过薄膜并达到基板的程度,决定了光的透射效果。
透射薄膜常用于光学滤波器、镜片涂层、光学器件等领域。
四、光学薄膜的设计与优化光学薄膜的设计与优化是制备高性能光学薄膜的关键。
根据所需的光学性质,可以通过调节不同层次的材料及其厚度,来达到特定的光学效果。
常用的设计方法包括正向设计、反向设计、全息设计等。
通过有效的设计与优化,可以实现特定波长的高反射、高透射、全反射等特性,满足不同光学器件的需求。
总结:光学薄膜是一种具有特殊光学性质的材料,广泛应用于光学领域中。
光学薄膜 (optical coating).
反射型偏光膜片:
• 背光模块产生的光线在背光模块侧的偏光膜片, 大约有一半的光线被吸收形成所谓的光损,如果将背 光模块的所有光线转换成直线偏光,就可以消除在偏 光膜片的光损。 具体方法是在背光模块与吸收型偏光膜片之间, 插入不会吸收的反射型偏光膜片,如此一来与穿透轴 直交的光线会折返至背光模块侧,在背光模块内部反 射时能够消除偏光使光线再度被利用。 合并使用反射型偏光膜片提高辉度,已经成为不 可欠缺的重要技术,根据实验结果证实相同背光模块 可以获得1.5倍的辉度,反过来说相同的辉度只需要 2/3的背光模块亮度即可,它对消耗电力的降低与使用 寿命的延伸具有重大贡献。
光学薄膜的应用
光学薄膜 (optical coating)
光学薄膜是附着在光学零件表面的厚度薄 而均匀为改变光学零件表面光学特性而镀在光 学零件表面上的一层或多层膜。 薄膜光学理论与设计、薄膜工艺技术、薄 膜材料、薄膜特性测量构成了薄膜技术研究的 主要内容。
光学薄膜的原理
光学薄膜经过纳米的光学结构处理,具有高亮度、发光均匀、 成本低、功耗低、简易方便光学薄膜经过纳米的光学结构处理, 具有高亮度、发光均匀、成本低、功耗低、简易方便、轻薄且不 易损坏等性能,保养经济又耐用。光学薄膜的纳米光学结构技术 处理,可收集光线而增加光通量,减少光损耗从而达到高亮度效 果,将光最大利用的优势。 从技术层面来讲,让其显示技术与照明技术相结合,以光学 外罩和光学反射罩为核心,利用光折射与反射的设计原理从而让 其外观千变万化。
偏光膜片的表面处理
• LED液晶显示的对比被定义成黑暗环境对比与明亮环境对比 两种,一般对比是指黑暗环境的对比,此时偏光膜片的偏光度具 有支配性。然而液晶电视等大型显示器,通常是在有照明影的空 间观视,因此明亮环境的对比反而更受重视。 降低外乱光造成的反射光,是明亮环境下高对比化上非常重 要的一环,为控制外乱反射光,在偏光膜片进行可以使反射光扩 散的反强光(Anti-Glare)处理,以及可以削减反射光的强度的反 反射光(Anti-Rrflection)处理,成为非常有效的方式。 AG处理是将微粒子分散在树脂内,利用微粒子的大小与覆 膜制程控制表面凹凸形状;AR处理是在偏光膜片的表面堆栈诱 电体薄膜。
薄膜光学技术-1第一章 薄膜光学特性计算基础
Hi N(k0Ei) HrN(k0Er)
N0 (k0 E0i ) N0 (k0 E0r ) N1(k0 E1t )
N0E0i N0E0r N1E1t
(2)
(1)×N1-(2)得振幅反射系数:
r
E0r E0i
N0 N1 , N0 N1
(1)×N0+(2)得振幅透射系数:
t
E1t E0i
第23页
第三节 单层薄膜的反射和透射
1、等效界面
➢ 入射介质与薄膜和基底组合形成的等效介质之间的界面。
2、等效导纳
➢ 等效界面下等效介质的光学导纳
YH
➢ 等效导纳等于其所等效膜堆的组合导纳。 E
3、等效反射系数
➢等效界面的反射系数
➢ 等效界面的反射系数和反射率等于其所等效膜堆的反射系数
和反射率
r 0 Y 0 Y
1 At
(s)
p 400112
T R A 1
其中,A是能量吸收率。 对于无吸收的全介质薄膜系统
T+R=1。
1
R 2 Rs RT 1
Rp ,
1
T 2 Ts Tp
Rs Rp 1
Ts Tp 1
第21页
垂直入射
倾斜入射
R
N0 N1
T
N0
θ0
N1 a
b
θ1
r N0 N1 N0 N1
r 0 1 0 1
H0 tan= H1 tan ,
E0itan + E0rtan = E1t tan H0itan + H0rtan = H1t tan
0 1
第14页
第二节 单一界面的反射和透射
1、Fresnell’s formulae and modified admittance 振幅反射系数(菲涅耳反射系数): rEr Ei 振幅透射系数(菲涅耳透射系数): t Et Ei
薄膜和多层膜的光学性质
薄膜和多层膜的光学性质薄膜和多层膜是光学材料中非常重要的组成部分,它们的光学性质在科学研究以及工程应用中有着广泛的应用。
本文将探讨薄膜和多层膜的光学性质及其应用。
首先,我们先来了解一下薄膜的基本概念。
薄膜是指在其厚度相比于其它尺寸而言非常小的材料。
一般来说,我们所说的薄膜是在纳米级别或微米级别的材料。
薄膜天然存在于物质的表面,如水的表面存在一个薄膜。
此外,人工制备的薄膜也有很多应用,比如用于光学镀膜、光电子器件等。
薄膜的光学性质是指薄膜对光的吸收、反射、透射等现象。
其中,反射和透射是薄膜最常见的光学性质。
通过反射和透射可以观察到薄膜的厚度和折射率对光学性质的影响。
其次,让我们来了解一下多层膜的光学性质。
多层膜指的是由多个薄膜层次堆叠而成的结构。
多层膜的光学性质与薄膜相比更为复杂多样。
多层膜的光学性质主要与膜层的厚度、折射率以及薄膜的层数有关。
多层膜主要有两种类型,一种是周期多层膜,它由两种材料交替排列而成,如衬底材料和薄膜材料的交替堆叠。
另一种是非周期多层膜,它由多种材料交替排列。
不同类型的多层膜具有各自独特的光学性质。
在多层膜中,不同的薄膜层会产生干涉现象,从而导致光的衍射和透射。
这种干涉现象可以利用在光学器件中,比如反射镜、滤光片等。
利用多层膜的干涉效应,我们可以实现光的波长选择性,即只透过特定波长的光。
这种技术在光通信、激光器、光显示器等领域有着广泛的应用。
此外,多层膜还可以用于光学传感器的设计。
光学传感器是一种通过测量光的特性来获取被测物理量的传感器。
通过设计合适的多层膜结构,可以使光的特性对被测量敏感,进而实现对光学传感器性能的优化。
这在生物医学、环境监测、工业检测等领域的传感器应用中具有重要意义。
总之,薄膜和多层膜的光学性质是一个引人注目且具有广泛应用的研究领域。
通过对薄膜和多层膜光学性质的研究,我们能够深入了解材料的光学行为,进而开发出各种高效的光学器件和传感器。
随着科学技术的不断发展,我们相信薄膜和多层膜的光学性质将会发挥更加重要的作用,为人类社会的进步做出更大的贡献。
第四章 各类光学薄膜设计
19
薄 膜 光 学——典型膜系
1.2 双层增透膜——λ0/4- λ0/2型双层膜 i sin 1 i sin 2 cos cos 1 B 1 2 1 2 C 3 i sin cos i sin cos 1 1 1 2 2 2
n0 Y R n0 Y
2
n 0 2 2 n0 1 2
2 1
2
R最小时,则n1 02
n0 n2
10
薄 膜 光 学——典型膜系
1.1 单层增透膜
11
薄 膜 光 学——典型膜系
1.1 单层增透膜
单层增透膜的出现,在历史上是一个重大的进展,直至 今天仍广泛地用来满足一些简单的用途。但是它存在着两个 主要的缺陷,首光对大多数应用来说剩余反射还显得太高, 此外,从未镀膜表面反射的光线,在色彩上仍保持中性;而 从镀膜表面反射的光线就不然,破坏了色的平衡.其结果是 不可能作出良好的色彩还原,作为变焦距镜头超广角镜头, 大相对孔径等新型透镜系统中的镀层,那更是不能符合要求。 有两个途径可以提高增透效果: 采用变折射率的所谓非均匀膜,它的折射率随着厚度的增 加呈连续的变化; 采用几层折射率不同的均匀薄膜构成多层增透膜;
2 0 2 0 1 ,2 0 4 2 0 2 n3 B 0 i / n1 1 0 1 i n1 C in 0 0 1 n3 1 in1 Y C / B n12 / n3
34
设计的膜层折射率在现实中不 存在的情况
35
改善PMMA基底上的MLAR
物理光学-薄膜光学基础
λ0/4膜系的多层高反射膜示意图 膜系的多层高反射膜示意图
GHLHL…HLHA=G(HL)pHA =
这种膜系之所以能获得高反射率, 这种膜系之所以能获得高反射率 , 从多光束干涉原理看是 容易理解的:根据平板多光束干涉的讨论, 容易理解的 : 根据平板多光束干涉的讨论 , 当膜层两侧介质的 折射率大于(或小于 膜层的折射率时 折射率大于 或小于)膜层的折射率时, 若膜层的诸反射光束中 或小于 膜层的折射率时, 相继两光束的相位差等于π(λ 膜系) 相继两光束的相位差等于 0/4 膜系) , 则该波长的反射光获 得最强烈的反射。 得最强烈的反射 。 而上图所示的膜系恰恰能使它包含的每一层 膜都满足上述条件, 膜都满足上述条件 , 所以入射光在每一膜层上都获得强烈的反 射,经过若干层的反射之后, 入射光就几乎全部被反射回去。 经过若干层的反射之后, 入射光就几乎全部被反射回去。 这种膜系的优点是计算和制备工艺简单, 这种膜系的优点是计算和制备工艺简单 , 镀制时容易采用 极值法进行监控;缺点是层数多, 不能连续改变 不能连续改变。 极值法进行监控;缺点是层数多,R不能连续改变。目前发展了 一种非λ0/4膜系, 即每层膜的光学厚度不是λ0/4,具体厚度要由 一种非 膜系, 即每层膜的光学厚度不是 , 膜系 计算确定。其优点是只要较少的膜层就能达到所需要的反射率, 计算确定 。 其优点是只要较少的膜层就能达到所需要的反射率 , 缺点是计算和制备工艺较复杂。 缺点是计算和制备工艺较复杂。
2
下面我们分析一下反射率R。 下面我们分析一下反射率 。
作图。 令n1=1,n3=1.5作图。 , 作图
R
n2 = 2
1.7
1.5
1.23
0.04
1.38
π
薄膜光学
N0 N1 cos cos 0 1 当 分 子 为 零 反 射 为 零这 ,一 入 射 角 称 为 布 儒特 斯角 N0 N1 又根据折射定律 N 0 sin 0 N1 sin 1 cos 0 cos1 N1 得 到t an 0 ; 0 布 儒 斯 特 角 N0
对于任何闭合的假想面(叫高斯面),通过假 想面的电场通量与该面所包围的净电荷之间的 关系:
0 E d S q
薄 膜 光 学——基础理论
磁学的高斯定律
对于任何闭合的假想面(叫高斯面),通过假 想面的磁场通量为0:
B d S 0
薄 膜 光 学——基础理论 法拉第电磁感应定律
r H
由麦克斯韦方程: 4 1 D 4 i j E E c c t c c 4 H i N2E E i c c H
薄 膜 光 学——基础理论
平面电磁波理论——E和H的关系
比较可得 ( 1): N E r H; 同 理 E可 得 : H N r E ;这说明 r、 E、 H三 个 量 相 互 垂 直 电磁波是横波 E , 、 H不 但 垂 直 , 而 且 数 值 还 间有
薄 膜 光 学——基础理论
平面电磁波理论
整理后可得: E
2
2 E
c
2
4 E 2 1 2 t c t
设它的解: E E0e
2
i t x
v
2 带入(1)中
c 4 整理得到:2 i v
薄 膜 光 学——基础理论
薄 膜 光 学——基础理论
麦克斯韦方程组
E——电场强度
D——电位移矢量 H——磁场强度 B——磁感应强度 μ——磁导率 D =ε E B =μ H
光学薄膜-基础知识
热导率
表示薄膜材料导热的能 力,影响光学薄膜的散
热性能。
光学常数
描述薄膜材料对光传播 的影响,如折射率、消
光系数等。
机械性能参数
硬度
表示薄膜材料的抗划痕能力, 影响光学薄膜的耐用性。
弹性模量
表示薄膜材料的刚度,影响光 学薄膜的稳定性和抗冲击能力 。
抗张强度
表示薄膜材料抵抗拉伸的能力 ,影响光学薄膜的耐用性和稳 定性。
反射率
表示光在薄膜表面反射的比例,影响光的利 用率。
吸收率
表示光被薄膜吸收的比例,影响光的损耗。
透射率
表示光透过薄膜的比例,影响光的透过效果。
干涉效应
由于多层薄膜对光的干涉作用,影响光的相 位和振幅。
物理性能参数
密度
薄膜材料的密度,影响 光学薄膜的质量和稳定
性。
热膨胀系数
薄膜材料受热后的膨胀 程度,影响光学薄膜的
更稳定的性能等。
多功能化
光学薄膜正朝着多功能化的方向发 展,如抗反射、抗眩光、增透、偏 振等功能,以满足不同应用场景的 需求。
环保化
随着环保意识的提高,光学薄膜的 环保性能也受到了越来越多的关注, 如使用环保材料、降低生产过程中 的环境污染等。
技术挑战
制造工艺
光学薄膜的制造工艺非常复杂, 需要高精度的设备和技术,如何 提高制造工艺的稳定性和重复性
02
它是一种重要的光学元件,广泛 应用于各种领域,如显示、照明 、通信、摄影等。
光学薄膜的特性
01
02
03
高反射性
通过选择合适的膜层材料 和厚度,可以获得高反射 率,用于增强光的反射效 果。
高透射性
通过调整膜层的折射率和 厚度,可以获得高透射率, 用于提高ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ的透射效果。
薄膜光学技术-2-1第2章 光学薄膜膜系设计及其应用
很难实现零反
射。
b. V形减反射效
果,只能在某
个孤立波长点
实现最小反射,
0 50n0m,设计波长,中心 参波 考长 波, 长 色中性差;
8
2.1.2 双层减反射膜
目的: 克服单层膜存在的两个问题.
1. 双层 0 4 膜堆
分析:
由单层0
4 增透膜的反射率计算公式
R n 0 Y 2n 0 Y 2
20
C 替代层技术 等效定律
任意一个周期性对称膜系都存在一个 单层膜与之等效。
等效折射率就是基本周期的等效折射 率;等效相位厚度等于基本周期的等 效相位厚度的周期数倍。
T 0 1 1 R 1R 1 2R 2,
4 R F 1 R 2,R R 1 R 2
n2=2.05
n3=1.71 ns=1.52
R1 R2
1 2 2 2 n 2 d 2 1 2 2 2 4 0 1 2 2 2 0
R1min
2.051.382 2.051.382
G/2HL/A
缺点: 明显的反 射峰(中 心波长)
13
2.1.3 多层减反射薄膜的设计
目的:实现更宽波段更低的剩余反射率。
多层膜的基础是三
层增透膜堆
。
更多层GM 的2增H透L膜A堆大多
是以此三层增透膜堆为
雏形改良发展而成。
GM2HLA
母膜系
14
n0=1
n1=1.38
T T 01 F si2 n
层膜都低。
18
2. GM2HLA的调优方法
——各层膜参数对膜系总体性能的影响规律: a. 改变(N2 d2),可使T移到不同的波长; b. 改变N1 、 N3 、 d1 、 d3 、中任何一个,可 改变减反射带宽(波段宽度)和T-λ曲线波形。
光学膜片知识点总结
光学膜片知识点总结一、光学膜片的基本原理光学膜片是利用薄膜的干涉效应来实现对光的调控的光学元件。
薄膜的光学性质与其厚度、折射率及透射率等参数密切相关,通过对这些参数进行设计和调控,可以实现对光的波长、偏振、相位等的调控。
光学膜片的工作原理主要基于薄膜的干涉效应和多层膜的反射和透射规律。
1. 干涉效应:当光线通过薄膜时,由于薄膜的厚度和折射率的不同,光线在薄膜内部和表面之间会发生反射和透射,从而产生干涉现象。
这种干涉效应可以用来实现对光的波长和相位的调控。
2. 反射和透射规律:多层膜的光学性质与薄膜的材料、厚度、层序、折射率等参数相关,通过合理设计多层膜的结构,可以实现对光线的反射和透射的控制,从而实现对光的偏振和波长的调控。
基于以上基本原理,光学膜片可以实现对光的色散、偏振、透射率等的调控,具有广泛的应用前景。
二、光学膜片的主要特性1. 调控范围广:光学膜片可以实现对光的波长、偏振、相位等的调控,调控范围广,具有较大的应用潜力。
2. 光学性能优良:光学膜片具有优良的光学性能,如高透射率、低反射率、高色散率等,能够满足各种光学系统的需要。
3. 结构简单紧凑:光学膜片的结构通常比较简单,可以设计成紧凑的结构,便于集成和应用。
4. 制备工艺成熟:目前光学膜片的制备工艺已经比较成熟,可以利用各种方法和工艺制备出具有良好性能的光学膜片。
5. 适应性强:光学膜片可以根据具体的应用需求进行设计和制备,具有较强的适应性,适用于不同的光学系统。
在以上方面,光学膜片具有许多优良特性,是一种非常重要的光学元件。
三、光学膜片的制备工艺光学膜片的制备工艺是实现其优良性能的关键。
光学膜片的制备工艺通常包括薄膜沉积、膜层设计、光刻、膜层厚度和成分控制、表面处理等工艺步骤。
1. 薄膜沉积:薄膜沉积是制备光学膜片的基础工艺,主要包括物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和溅射沉积等技术,通过这些技术能够在衬底上制备出所需的薄膜材料。
光学薄膜及其应用
加大对光学薄膜产业的投入力度,包括资 金、人才、设备等方面的支持,推动产业 快速发展。
加强国际交流与合作
建立光学薄膜的标准体系,制定相关标准 和规范,提高产品质量和市场竞争力。
加强与国际同行之间的交流与合作,引进 国际先进技术和管理经验,提高我国光学 薄膜产业的国际竞争力。
THANKS
在常压环境下,通过化学反应生成薄膜材料并沉积在基片上。反应条件温和,设 备要求相对较低。
等离子体增强化学气相沉积
利用等离子体激活反应气体,促进化学反应并在基片上沉积成膜。具有高沉积速 率和优良薄膜质量的优点。
溶胶凝胶法技术
凝胶化过程:溶胶经陈化,胶粒 间缓慢聚合,形成三维空间网络 结构的凝胶。
热处理:对干凝胶进行高温热处 理,得到最终的光学薄膜。
光学薄膜的分类
根据光学薄膜的特性和应用,可以将其 分为以下几类
滤光片:选择性地透过或反射特定波长 光线的薄膜,用于光学滤波和色彩调节 。
分光膜:将光线按照一定比例分成多束 的薄膜,用于光谱分析和光学仪器。
反射膜:具有高反射率的薄膜,用于光 线的反射和镜面效果。
增透膜:减少光线反射,增加光线透射 率的薄膜,提高光学元件的透过率。
光学薄膜发展历程
01
02
03
04
05
光学薄膜的发展历程经 历了以下几个阶段
初期探索阶段:早期科 学家通过对自然现象的 观察和实验,发现了薄 膜干涉、衍射等光学现 象,为光学薄膜的研究 奠定了基础。
理论研究阶段:随着光 学理论的发展,科学家 们建立了完善的薄膜光 学理论体系,为光学薄 膜的设计和制备提供了 理论指导。
工作原理
利用光的干涉原理,使反射光增强。
应用领域
薄膜的光学性质
R p r1 p
Rs r1s
2
n1 cos 1 2 Tp t1 p n0 cos 0 n1 cos 1 2 Ts t1s n0 cos 0
n0 n1 R n0 n1
T
2
n0 n1
4n0 n1
2
光垂直入射时, P,S分量重叠
2 t 1 1 t 1 2 0 2
I n cos E n 4n n T t I n cos E n (n n )
1 2 i 0 0 i 0 0 1
T+R+A=1,其中A称为能量吸收率。对全介质薄膜系统, 无吸收,则有T+R=1。
1.1 基本概念
等效介质的等效光学导纳 只要确定了组合导纳Y,就可以方便地计算单层膜的反射 和透射特性。因此问题就归结为求取入射界面上的H0和E0的 比值。下面给出组合导纳的表达式。
1.1 基本概念
i B cos 1 sin 1 1 矩阵 1 C 2 i sin cos 1 1 1 定义为基底和膜层组合的特征矩阵。 当膜层参数已知后,其矩阵元就确定了,便可以求出等效光学导纳Y, 进而就可以求得单层介质膜的反射率。 我们把 2 N1d1 cos1叫做薄膜的有效位相厚度,把N1d1 cos叫做
1.1 基本概念
薄膜的界面特性也可用能量关系来表示,得到相应的能 量反射率R和能量透射率T,直接可用光强来表征。
R=Ir / Ii
T=It / Ii
It :界面的透射光强
Ir :界面的反射光强 Ii :界面的入射光强
1.1 基本概念
能量反射率R和能量透射率T与振幅反射系数和振幅透射 系数间的关系如下: 垂直入射时: 2
薄膜光学PPT课件
Sol-Gel是一种制备光学薄膜的新方法,具有工艺简单、成本低等优点。该方法制备的薄 膜具有纯度高、均匀性好等优点,可广泛应用于各种光学器件的制造。
在新能源和光电器件中的应用前景
太阳能光伏电池
光学薄膜在太阳能光伏电池中有着广泛的应用,如减反射膜、抗反射膜等。通过使用高性能的光学薄膜,可以提高光 伏电池的光电转换效率和稳定性。
散射类型
瑞利散射、米氏散射、拉 曼散射等。
散射强度
与波长、散射颗粒或分子 的尺寸、形状和折射率有 关。
光的吸收和反射
光的吸收
光波通过介质时,能量 被介质吸收转化为热能 或其他形式的能量的现
象。
吸收系数
表示介质对不同波长光 的吸收能力,与物质的
性质和浓度有关。
反射现象
光波在介质表面发生方 向改变的现象,可分为
光电探测器
在光电探测器中,光学薄膜可以起到保护、增强光信号的作用。高性能的光学薄膜可以提高探测器的响应速度、灵敏 度和稳定性。
激光器
在激光器中,光学薄膜可以起到调制激光输出、提高激光质量的作用。新型的光学薄膜材料和制备技术 可以推动激光器技术的发展,为新能源和光电器件的应用提供更广阔的前景。
THANKS
干涉仪测试的原理基于光的干涉现象,通过将待测薄膜放置在干涉仪中,与标准参 考膜片进行干涉,通过测量干涉图谱的变化来计算薄膜的光学常数。
分光光度计测试
分光光度计测试是一种通过测量 光的吸收光谱来分析物质的方法, 广泛应用于薄膜的光学性能测试。
分光光度计测试可以测量薄膜的 吸收光谱、反射光谱和透射光谱, 从而获得薄膜的折射率、反射率、
新型制备技术的探索
化学气相沉积(CVD)
信息光学中的薄膜光学理论及应用
信息光学中的薄膜光学理论及应用信息光学是研究如何利用光实现信息处理、传输和存储的科学领域,而薄膜光学则是信息光学中重要的研究方向之一。
薄膜光学理论和应用的发展对于光学各个领域的进步具有重要意义。
本文将介绍薄膜光学的基本理论,并探讨其在信息光学中的应用。
一、薄膜光学理论1. 薄膜光学的基本原理薄膜光学研究的是薄膜对光的吸收、反射、透射等性质。
根据薄膜的厚度和材料的折射率,可以得到对应的光学特性。
薄膜光学的研究涉及到膜的设计、制备和测量等方面。
2. 反射率和透射率薄膜的反射率和透射率是薄膜光学中的重要参数。
通过合适的设计和调节薄膜的厚度和材料的折射率,可以实现对光的反射和透射的控制。
这种控制可以用于制备光学滤波器、分光器等光学元件。
3. 薄膜的光学性能薄膜的光学性能包括色散、极化特性等。
色散性质是指薄膜对不同波长光的反应不同,而极化特性研究薄膜对不同极化方向的光的影响。
理解和控制这些性质对于薄膜光学应用的优化至关重要。
二、薄膜光学的应用1. 全息术全息术是一种记录光的干涉图样的技术,借助薄膜的光学性质,可以实现对光场的高精度记录和再现。
全息术在信息存储、三维成像等领域有广泛的应用。
2. 光纤通信光纤通信是利用光的传导特性进行信息传输的技术,而薄膜光学在光纤通信中起到了重要的作用。
薄膜光学可以用于光纤衰减的补偿和光纤信号的调制等关键技术,提高光纤通信的性能。
3. 光学薄膜光学薄膜是将薄膜技术应用于光学元器件制造的一种重要工艺。
通过在光学表面上附加一层薄膜,可以改变光的传播和反射特性,使光学器件具有更好的性能。
光学薄膜在激光器、摄像机镜头、太阳能电池等领域有广泛的应用。
4. 薄膜传感器基于薄膜光学的传感器可以将物理量、化学分子等转变为光学信号,实现对目标参数的测量。
薄膜传感器具有灵敏度高、响应速度快和重复性好等优点,在环境监测、生物医学等领域有重要应用价值。
三、结论信息光学中的薄膜光学理论和应用是光学研究领域中的重要内容。
薄膜光学的应用
薄膜光学的应用薄膜光学是一门研究薄膜在光学领域中的应用的学科。
薄膜光学的研究对象是薄膜在光的传播中的各种现象和性质。
薄膜光学的应用非常广泛,涉及到光学仪器、光学材料、光电子器件等多个领域。
薄膜光学在光学仪器中的应用非常重要。
薄膜光学可以通过设计和制备特定的薄膜结构,来实现对光的传输、反射、透射和吸收的控制。
这种控制可以使光学仪器具有更好的性能和功能。
例如,利用薄膜光学的原理可以设计制造出高透过率的光学滤波器,用于光学成像和光谱分析中。
光学滤波器可以选择性地透过或反射特定波长的光,从而实现对光谱的选择性调节。
另外,薄膜光学还可以用于制造反射镜、透镜、分束器等光学元件,用于实现光学仪器的成像和聚焦。
薄膜光学在光学材料中的应用也非常广泛。
薄膜光学可以改变材料的光学性质,使其具有特殊的光学特性。
例如,利用薄膜光学的原理可以制备出具有高折射率或低折射率的材料。
高折射率的材料可以用于制造光纤、激光器等光学器件,而低折射率的材料则可以用于制造光学薄膜、太阳能电池等。
此外,薄膜光学还可以制备出具有特殊光学性质的材料,如光子晶体和超材料等。
这些材料具有反常的折射、透射和吸收特性,可以用于光学传感、信息存储和光学计算等领域。
薄膜光学在光电子器件中的应用也非常突出。
薄膜光学可以制备出具有特定光电性能的薄膜材料,用于制造光电子器件。
例如,利用薄膜光学的原理可以制备出具有高光电转换效率的太阳能电池。
太阳能电池是利用光的能量转化为电能的装置,其中的薄膜材料起到吸收和转换光能的作用。
另外,薄膜光学还可以用于制造光电子器件中的光阻、光栅、光耦合器等元件,用于实现光信号的调控和传输。
除了上述应用之外,薄膜光学还在其他领域有着广泛的应用。
例如,在光通信领域,薄膜光学可以用于制造光纤、光纤耦合器、光纤放大器等设备,用于实现高速、大容量的光通信。
在光存储领域,薄膜光学可以用于制造光学存储材料和光学存储器件,用于实现高密度、高速的光存储。
薄膜光学知识点
薄膜光学:1. 整部薄膜光学的物理依据就是光的干涉。
(托马斯杨干涉实验)2. 列举常用的光学薄膜镀膜镜片,牛顿环,滤光片、反射镜,ITO膜,幕墙玻璃,红外膜,DWD M光纤薄膜器件, 电致变色膜。
3. 利用薄膜可以实现的功能减少反射,提高透射率;提高反射率;提高信噪比;保护探测器不被激光破坏;重要票据的防伪等等。
总之能列出多少光的用途就能列出多少光学薄膜的用途。
提高光学效率,减少杂光。
如高效减反射膜,高反射膜。
实现光束的调整和再分配。
如分束膜,分色膜,偏振分光膜。
通过波长的选择性提高系统信噪比。
如窄带及带通滤光片、长波通、短波通滤光片。
实现某些特定功能。
如ITO透明导电膜,保护膜等。
4. 一束入射角为“的光入射到厚度为di、折射率为n1的薄膜上产生的相位差为:2=4二md i cos^ / I ;双光束强度为:R = R 十R2土2jR|R2COS26 = r;+ r; ±2IT2 cos26详细计算过程:光线玲和m的干涉强度决定于它和的光春琵作O卫垂直于光线m于是,兔和m的光程差/e 迪f 且£+ 仍一从图上很容翦找出下列几何关墓’AB=BO~d±/^&±fAD= yt<7*aju 沁 tg 施”曲弘此外,根据折対定禅有Ho* Bill Tii •frin 爲. 把上間三式代入,得到光程差』~饨曲COS吐*相应的相位差如果先不考虑光在界茴£2上反射时的相位跌变,则当 光程差为(m —0r l f 2,卄 J时,蓿产生相长干涉;而当^<^€08^1= (2^4-1) Xo/2 (k~(), 12 2』…) 时F 将产生相消干涉.干涉强度的计算,可先迭加反射光Ti 和g 的振动T*得到合振动为E=T COS (3 _ p) ”式中r 咼含撮幅冲是合振动相他 二若和咲“、23有如下关系上沪二+疋+ 瓯r a COS 2Sj 龟^=r £ sin 28/ (允十咒COE 塑)』其中 23 =4亦工血cos 爲/入慎按照光强定义,反射光合提动的尿度丘=码而丘计此 ・则双光束干涉强度的计算公式是=it x 4- U 3 ± 2 V Rj^Ra cos 28,(1-5}式中士号由心和灼的符号确定.当怙和內同号时取加 号;而当吆和呛异号时取减号.光束由光疏媒质到光密媒 质反射时’反射振辐为负值,表示有皿的相位脈变.相反,当光 束由光密媒质到光聽媒质反射时,反射振幅为正值,表示役有 相位駅变.因此,上式中土号正是考虑了界面上反射时的相 你殴变情况』而为则仅獪两反射光束经历不同的略径而引入 的枸旳炭. 5.单层膜的多光束干涉计算: (薄膜光学2PPT 中P26-29)参光東于―« 的计WXM 上和厦光 束宪全ffiRi 也長先 把提动送加”再计算 9UL 建别仅在于* 场干移的光康由灣JK NUD ■冬至于计 算方祛則以呆用K 撮 ■«为方便.单层JK 的多光東干涉 f } A分别为光由折射率为股的介臓射向折射车为 %的介质时的摄辄反对屋数和扳幣选廿棗卢茸F分踌麦水瓷由新耐車为匚的介质射尙折射字为股的介疣时的按翔良射姦磁和扼幅透肘蔬歎*造股和恤介施赴右哦枚1氏土史托克定禅可为■这些■存在如下笑峯・…玖(t-6)r**d. (1-7)这愕,如果入时光克前撮锚为J井亂不考滋介烦对光疲的爺敢,风各取反射光飾複褐虬纸如…嶽氏为;勒■临”(L-sy岭疮atfO的撮罄虬氐 < …分别汰1 9>至于光東之间的I9tt^世是廨魅待的.束还崔理連射光建中「相和胸飞束的栩位聲尚由式d幻皓出.®*t.S射克東的复撮帕苗武为5駅*v-叫的齐甬吧心迭加后,反期充的合成劇辅为r-= (fi+Irff[1+*ir>^** 卜伯口円 **+ …]}*如果權箱绘*大.则可认为反射犹朿数时皆于无彌+式u- UI)中无疥遥韓誓比锻鑒有l+r>^ **Krlr t)^ «+*»-1/(1-(1-11)戕入(i i⑵武「并科用类篠式口«)m(i-T),卑到r-(<H rrf m)/(l +W,M kfl-13)辰时]t均也哑化为屯卩-;"T?>*in2A]..;£n(L + rtJ +rjCl + rt;€<*2i<. 门七;—iH〒ri+2"门厲宦监”{】十说対r ^nnto(-2?i).T dr6.电磁场间的关系:k E1光学导纳:N ,这是N的另一种表达式r E称为光学导纳反时死JM度•即反射华有7.光在两种材料界面上的反射:1 0 1CE 7HCOSi)EHYn. R%T ] smdsin ▼n- E. 傀-Y0, 1Y=CB5 cos8.掌握单层膜的特征矩阵公式:薄膜光学3 PPT 中P 15-21[cos ® isin 5/〕「l 1[ RC 称为膜系的特征矩阵单层膜的反射系数和反射率为:9.掌握多层膜的特征矩阵公式:薄膜光学3 PPT 中P 26-29L ,春肝得到:1Y/sintf.'sin S cosd, 称为该取层膜系的特征矩阵. COS<Jn 'iq 2 stnY=C/B 则反射率为;^+Y 丿^+Y 丿飪没在前面讨论於单.层膜•:再 加上—层膜*如圈这讨与基底栩洼询界面为G 川紧蛙基底为議层为特征矩■ cosJ, /sin V '- A : M 任 sing 込k x £ . cosd\ H/t J I sinJ ;is in 5.eosd./sinCOS£)cos5、入MKJ«n« MA 界Mb M ■JFWoCOS^I irj, siriti CDSJ■辩及一错鼻堆广利爭卑追B_C Jtj f = X r cos &r对于厂E 波〔$ -波)7?,=对于T、【波【p -波)c o sN 6sin & ?- X f sin & r薄膜的特征矩阵的打列式等于110. 【计算】偶数四分之一光学膜层的特征矩阵:口 2 1)2 2r _4 r _2 r2 2r _3 r A s计算多膜层(膜层厚度为四分之一波长的整数倍)的反射率。
光学薄膜基础知识
机械性能
硬度与耐磨性
光学薄膜需要有足够的硬 度和耐磨性,以抵抗摩擦 和划痕对光学表面的影响。
韧性
光学薄膜材料需要具有一 定的韧性,以防止因受到 外力而破裂或变形。
附着力
光学薄膜与基材之间的附 着力需要足够强,以保证 薄膜的稳定性和使用寿命。
表面处理与涂层技术
通过表面处理与涂层技术,可以改善光学薄膜的表面质量、提高附着力、增强抗划伤能力等,从而提高其稳定性 和使用寿命。
降低制造成本
规模化生产
通过规模化生产,可以实现成本的降 低和效率的提高,同时提高产品的可 靠性和一致性。
优化工艺参数
通过优化工艺参数,可以减少生产过 程中的浪费和损耗,降低制造成本。 同时,采用先进的生产设备和管理模 式,也能够实现成本的降低和效率的 提高。Fra bibliotek环保照明
光学薄膜可以用于LED照明设备中,提高光 效和照明质量,降低能耗和热量的产生,同 时还可以实现可调色温、可调亮度等功能, 为环保照明提供更多可能性。
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根据材料分类
光学薄膜可以分为金属膜、介质膜、半导体膜等,不同的材料对光的 反射、透射、吸收等特性有显著差异。
02
光学薄膜的特性
光学性能
反射与透射
光学薄膜能够根据需要改变光的 反射和透射行为,如增反膜增加 反射,减反膜减少反射并增加透
射。
干涉效应
薄膜的厚度和材料会影响光的干涉, 通过调整薄膜的厚度和材料,可以 实现对特定波长的光的干涉增强或 减弱。
光学薄膜广泛应用于光学仪器、摄影 器材、照明设备、显示屏幕等领域, 对提高光学元件的性能和改善光束质 量具有重要作用。
薄膜光学与镀膜技术
太阳能光伏产业
太阳能光伏产业:利用镀膜技术提高光伏电池的光吸收和光电转换效率降低成本提高 生产效率。
显示产业:镀膜技术用于制造各种显示器件如液晶显示、有机电致发光显示等提高显 示效果和寿命。
光学仪器和摄影器材:镀膜技术用于制造各种光学仪器和摄影器材如望远镜、显微镜、 相机镜头等提高成像质量和透光率。
在微电子和集成电路制造中薄膜光学与镀膜技术可以用于制造光电器件、太阳能电池、 传感器等。
镀膜技术还可以用于制造高精度光学镜头和反射镜广泛应用于通信、医疗、航空航天等 领域。
环境监测和光谱分析领域
镀膜技术可用 于制造高精度 光谱仪用于环 境监测和光谱
分析。
镀膜的反射和 透射特性可以 提高光谱仪的 分辨率和灵敏
添加标题
薄膜的光学干涉效应的影响因 素:薄膜的厚度、折射率以及 入射光的波长等因素都会影响 干涉效应。
薄膜的光散射和吸收特性
薄膜的光散射特性: 薄膜表面粗糙度、 折射率差异等因素 导致光散射现象影 响光学性能。
薄膜的光吸收特性: 不同材料和厚度薄 膜对光的吸收能力 不同与薄膜的组成 和结构密切相关。
光学薄膜的基本参数
光学常数:描 述薄膜的光学 性质如折射率、 消光系数等。
厚度:薄膜的 物理厚度通常 以纳米或微米
为单位。
透射光谱:描 述薄膜透射光 谱的范围和特
性。
反射光谱:描 述薄膜反射光 谱的范围和特
性。
03 镀膜技术的发展历程
镀膜技术的起源和早期发展
镀膜技术的起源可以追溯到19世纪末期当时主要用于制造望远镜和显微镜等光学仪器。 20世纪初随着工业技术的发展镀膜技术开始应用于军事、航空航天、医疗等领域。 20世纪中期随着光学、物理和化学等学科的进步镀膜技术得到了进一步的发展和完善。 进入21世纪镀膜技术不断涌现出新的应用领域如太阳能光伏、LED照明等。
薄膜光学特性计算
薄膜光学特性计算薄膜光学特性的计算首先需要建立薄膜的折射率模型。
薄膜的折射率是指光线在薄膜中传播时光速相对于真空中的光速的比值,它与薄膜材料的性质和波长有关。
常用的折射率模型有Cauchy方程和Sellmeier方程等。
Cauchy方程是描述物质的折射率与波长的关系的经验公式。
它的表达式为:n(λ) = A + B/λ^2 + C/λ^4 + ...,其中n(λ)是波长为λ时的折射率,A、B、C等是与材料特性相关的常数。
Sellmeier方程是一种更加精确的薄膜折射率模型,适用于描述介质的色散性质。
Sellmeier方程的一般形式为:n(λ) = √(1 + ∑(B_iλ^2)/(λ^2 - C_i^2)),其中n(λ)同样是波长为λ时的折射率,B_i和C_i是与材料特性相关的常数。
在获得薄膜的折射率模型后,可以通过Fresnel方程来计算薄膜的反射和透射光的特性。
Fresnel方程是描述光线通过两个介质界面时的反射和透射光强之间关系的公式。
对于垂直入射的单色光,Fresnel方程可以表示为:r = (n1cosθ1 - n2cosθ2) / (n1cosθ1 + n2cosθ2);t = 2n1cosθ1 / (n1cosθ1 + n2cosθ2)其中r和t分别表示反射和透射的光强,n1和n2分别为两个介质的折射率,θ1和θ2分别为入射角和折射角。
最后,可以通过多次反射和透射计算得到薄膜的总反射和总透射光强。
根据能量守恒定律,总反射和总透射光强之和应等于入射光强。
除了反射和透射,薄膜的吸收也是光学特性中的重要参数。
吸收是指入射光被材料吸收转化为其他形式的能量。
吸收与薄膜的材料和厚度有关,可以通过吸收系数来描述。
吸收系数与入射光波长和薄膜折射率的关系可以通过光学吸收谱进行研究和计算。
综上所述,薄膜光学特性的计算是通过建立薄膜的折射率模型,运用Fresnel方程计算反射和透射的光强,进而得到薄膜的总反射和总透射光强,以及通过吸收系数计算薄膜的吸收特性。
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L
面相距 h = 8.0×102 nm时,
干涉条纹如何分布?可见
S
明纹的条数及各明纹处膜
厚 ? 中心点的明暗程度如
h
n
n2 1
G
何 ? 若油膜展开条纹如何 变化?
解 条纹为同心圆
∆ = 2n2dk = kλ 明纹
h
r
d
dk
=
k
λ 2n2
k = 0,1,2,L
中心点光程差:
oR
∆ c = 2n2d = 2 ×1.20 × 800 = 1920 nm = 3.2 λ
1
M
∆ = 2nd + λ
D
2
b
∆=
kλ, k = 1,2,L 明纹
(2k +1)λ , 2
k = 0,1,L暗纹
b
n1 > n
θ
L
b
n λn /2 D
n1
劈尖干涉
讨论
1)劈尖 d = 0
∆ = λ 为暗纹. 2
d=
(k
−
1) 2
λ 2n
(明纹)
kλ 2n (暗纹)
2)相邻明纹(暗纹)间的厚度差
d i +1
反射镜 M1 M 1 移动导轨 单 色 光 源
分光板 G 1
M1 ⊥ M2
反 射 镜 M2 补偿板 G 2
G 1 //G 2 与 M 1 , M 2 成 45 0角
M2 的像 M'2 反射镜 M1
单 色 光 源
G1
d
M1 ⊥ M2
反
射
镜
G2
M2
光程差 ∆ = 2d
M'2 反射镜 M1
单 色 光 源
G1
r
从透射光中观测,中心点是暗点还是亮点? 2)属于等厚干涉,条纹间距不等,为什么?
r2 k+m
=
(k
+ m)Rλ
3)将牛顿环置于 n > 1 的液体中,条纹如何变?
4)应用例子:可以用来测
量光波波长,用于检测透镜质 量,曲率半径等.
工件 标准件
R
=
r − 2 k+m mλ
r2 k
2r
例2 用氦氖激光器发出的波长为633nm的单色光
当 M1不垂直于M2
时,可形成劈尖 型等厚干涉条纹.
反
射
镜
G2
M2
迈克尔孙干涉仪的主要特性
两相干光束在空间完全分开,并可用移动反射镜 或在光路中加入介质片的方法改变两光束的光程差.
M'2 M1
d
∆d
移动反射镜
∆d = ∆k λ 2
G1
G2
M2
M1
移 动 距 离
干涉 条纹 移动 数目
¾ 干涉条纹的移动
t
介质片厚度
2(n − 1)t = ∆kλ
干涉条纹移动数目
t
=
∆k n −1
⋅
λ 2
例 在迈克耳孙干涉仪的两臂中,分别插入
l = 10.0cm 长的玻璃管,其中一个抽成真空, 另 一个则储有压强为 1.013 ×105 Pa 的空气 , 用以测 量空气的折射率 n . 设所用光波波长为546nm,实
当 M1 与 M ′2 之间
距离变大时 ,圆形干涉 条纹从中心一个个长出, 并向外扩张, 干涉条纹 变密; 距离变小时,圆 形干涉条纹一个个向中 心缩进, 干涉条纹变稀 .
光程差 ∆ = 2d
M'2 M1
d
插入介质片后光程差
n M2 ∆'= 2d + 2(n −1)t
光程差变化
G1
G2
∆'− ∆ = 2(n −1)t
+
BC)
−
n1 AD
+
λ 2
AB= BC= d cosγ
AD = ACsini = 2d ⋅ tanγ ⋅sini
∆32 = 2n2d cosγ − 2n1d ⋅ tanγ ⋅sin i + λ 2
= 2d n2 − n1 sin γ sin i + λ
cosγ
2
= 2d n2 − n2 sin2 γ + λ
做牛顿环实验,测得第个 k 暗环的半径为5.63mm , 第 k+5 暗环的半径为7.96mm,求平凸透镜的曲率半径R.
解 rk = kR λ
rk +5 = (k + 5) Rλ
( ) 5Rλ = rk2+5 − rk2
R
=
r2 k +5
− rk2
=
(7.96mm)2
− (5.63mm)2
= 10.0m
λ
=
2n1d k
,
k = 1,2,L
k = 1, λ = 2n1d = 1104nm
k = 2, λ = n1d = 552nm 绿色
k = 3,
λ
=
2 3
n1d
=
368 nm
(2) 透射光的光程差 ∆t = 2 dn1 + λ / 2
k = 1, λ = 2n1d = 2208 nm 1−1/ 2
验时,向真空玻璃管中逐渐充入空气 ,直至压强
达到 1.013 ×105 Pa 为止 . 在此过程中 ,观察到 107.2条干涉条纹的移动,试求空气的折射率 n.
解 ∆1 − ∆2 = 2(n −1)l = 107.2λ
n
=
1+
107.2λ 2l
= 1+ 107.2 × 546 ×10−7 cm 2 ×10.0cm
紫 红 色
k = 2, λ = 2n1d = 736 nm 红光 2 −1/ 2
k = 3, λ = 2n1d = 441.6nm 紫光
3−1/ 2
k = 4, λ = 2n1d = 315 .4nm 4 −1/ 2
增透膜和增反膜
利用薄膜干涉可以提高光学器件的透光率 .
例 为了增加透射率 , 求 氟化镁膜的最小厚度.
cosγ
2
( ) ∆32
=
2d cos r
n2
1−
sin2
γ
+
λ 2
=
2n2d
cosγ
+
λ 2
= 2d
n22 (1− sin2
γ
)
+
λ 2
=
2d
n22
−
n12
sin2
i
+
λ 2
¾ 反射光的光程差 ∆r = 2d
n22
−
n12
sin
2
i
+
λ 2
kλ
加强
n >n
2
1
L
(k = 1,2,L)
∆r = (2k +1) λ 减 弱
2
1
niD
M1 1
n 2
Aγ γ
2 3
C
P
d
(k = 0,1,2,L)
M2 n 1
B
E
45
∆反 = 2d
n2 2
−
n2 1
sin2
i
+
λ
/
2
根据具体 情况而定
n >n
2
1
L
2
1
iD 3
n
M1 1
n 2
Aγ γ
C
M2 n 1
B
E
45
¾ 透射光的光程差
P
∆t = 2d n22 − n12 sin 2 i
d
光程差
∆ = 2d + λ 2
牛顿环实验装置
显微镜 T
L S
M半透 半反镜
R
rd
牛顿环干涉图样
光程差 ∆ = 2d + λ
2
R
∆=
kλ (k =1,2,L) 明纹
(k + 1)λ (k = 0,1,L) 暗纹
2
r
d
r2 = R2 − (R − d)2 = 2dR − d 2
Q R >> d ∴d 2 ≈ 0
中心点光强介于明暗之间
油膜边缘 k = 0, d0 = 0 明纹
k = 1,
d 1
=
250
nm
h
r
d
k = 2,
d 2
=
500
nm
oR
k = 3,
d 3
=
750 nm
由于 h = 8.0 × 10 2 nm
故可观察到四条明纹 (k=0,1,2,3) .
当油滴展开时,条纹间距 变大,条纹数减少.
总结
例 1 有一玻璃劈尖 , 放在空气中 , 劈尖夹
角 θ =8×10−5rad , 用波长 λ = 589nm 的单色光垂直 入射时 , 测得干涉条纹的宽度 b = 2.4mm , 求这玻
璃的折射率.
解Q ∴
θ
=
λn 2b
=
λ 2nb
n
=
λ 2θb
n θ
L b
n
=
2
×
8
5.89×10−7 m ×10−5 × 2.4 ×10−3
1)干涉条纹为光程差相同的点的轨迹,即厚 度相等的点的轨迹
∆d
∆k = 1
∆d
=
λ 2n
2)厚度线性增长条纹等间距,厚度非线性增长 条纹不等间距
3)条纹的动态变化分析( n, λ ,θ 变化时)
4 )半波损失需具体问题具体分析
n
n 1