材料测试技术课后题答案
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大功率转靶衍射仪与普通衍射仪相比,在哪两方面有其优越性?
答:①提高X射线强度:②缩短了试验时间
2、何为特征X射线谱?特征X射线的波长与(管电压)、(管电流)无关,只与(阳极材料)有关。
答:由若干条特定波长的谱线构成。
当管电压超过一定的数值(激发电压V激)时产生。
不同元素的阳极材料发出不同波长的X射线。
因此叫特征X射线。
什么是Ka射线?在X射线衍射仪中使用的是什么类型的X射线?
答:L壳层中的电子跳入K层空位时发出的X射线,称之为Ka射线。
Ka射线的强度大约是K 6射线强度的5倍,因此,在实验中均采用Ka射线。
Ka谱线又可分为Kal和Ka 2, K a 1的强度是K a 2强度的2倍,且Kal和Ka 2射•线的波长非常接近,仅相差0.004A左右,通常无法分辨,因此,一般用Ka来表示。
但在实际实验中有可能会出现两者分开的情况。
AI是面心立方点阵,点阵常数a=4.049A,试求(111)和(200)晶面的面间距。
计算公式为:dhkl=a (h2+k2+l2)-l/2
答:dlll=4.049/(12+12+12)-l/2=2.338A:d200=4.049/(22)-l/2=2.0245A
说说不相干散射对于衍射分析是否有利?为什么?
答:有利。
不相干散射线由于波长各不相同,因此不会互相干涉形成衍射,所以它们散布于各个方向,强度一般很低,它们在衍射工作中只形成连续的背景。
不相干散射的强度随sin 0/'的增大而增强,而且原子序数越小的物质,其不相干散射愈大,造成对衍射分析工作的不利影响。
6、在X射线衍射分析中,为何要选用滤波片滤掉KB射线?说说滤波片材料的选取原则。
实验中,分别用Cu靶和M。
靶,若请你选滤波片,分别选什么材料?
答:(1)许多X射线工作都要求应用单色X射线,由于Ka谱线的强度高,因此当要用单色X 射线时,一般总是选用Ka谱线。
但从X射线管发出的X射线中,当有Ka线时,必定伴有KB 谱线及连续光谱,这对衍射工作是不利的,必须设法除去或减弱之,通常使用滤波片来达到这一目的。
滤波片的选取原则:
①滤波片材料的原子序数一般比X射线管靶材料的原子序数小1或2;
②滤波片的厚度要适当选择,太厚则X射线强度损失太大,太薄则滤波片作用不明显,一般控制厚度使滤波后Ka线和KB线的强度比为600:1。
X射线滤波片的选择:当Z靶W40时,Z滤=Z靶-1;当Z靶>40时,Z滤=Z靶2 故Cu靶选28银片作滤波片;M。
靶选40锌片作滤波片。
产生衍射的两个基本条件是什么?
答:产生衍射的两个基本条件:①必须有能够产生干涉的波动即要有X射线:②必须有周期性的散射中心即晶体中的原子。
2、画图说明何为衍射峰的枳分强度、峰值强度、背景及半高宽。
结构因子的计算公式为F=fje2川(hxj+kyj+lzj),该式表明:结构因子与(晶胞中原子种类)、(单晶中原子个数)、(原子在空间位置)、(原子散射原子)等四个因素有关。
4、X射线衍射产生的条件是什么?
答:X射线衍射产生的充分必要条件:
①X射线衍射产生的必要条件是必须满足Bragg方程;
②X射线衍射产生的充分条件是结构因子不等于0o
XRD粉末样品必须满足的两个条件是什么?XRD对粉末样品有何要求?粉末样品为什么不能太粗也不能太细?
答:(1)两个条件:①粉末力度均匀;②粉末不能产生择优取向
(2)粉末照相法的样品安装在相机的中心轴上,样品一般要经过粉碎、研磨、过筛(250〜325 目)等过程,样品粒度约为44 um。
样品不能太粗也不能太细,太粗时被射线照射体积内晶粒数减少,会使衍射线呈不连续状, 由一些小斑点组成:太细时会使衍射线宽化,不便于后续测量。
XRD对块状样品有何要求?XRD能否直接测量断面?
答:待测面必须是平面,若样品可加工,最好加工成20X18的方块。
先将块状样品表面研究抛光,大小不能超过18—20平方亳米,然后将样品用橡皮泥粘在铝制样品支架上,要求样品表面与铝支架表面齐平。
不能直接测量断面。
说说物相定性分析的程序及注意事项。
答:(1)物相定性分析用粉末照相法和衍射仪法均可进行,其程序是:
①先制样并获得该样品的衍射花样;
②然后测定各衍射线条的衍射角并将其换算成晶面间距d;
③再测出各条衍射线的相对强度;
④最后和各种结晶物质的标准衍射花样进行对比鉴定。
(2)物相定性分析的注意事项:
①实验条件影响衍射花样,因此,要选择合适的实验条件;
②要充分了解样品的来源、化学成分、物理特性等,这对于作出正确的结论是很有帮助的:
③d值的数据比相对强度的数据重要;
④低角度区域的衍射数据比高角度区域的衍射数据重要。
因为低角度的衍射数据对应于d 值较大的晶面,这样的晶面,其d值差别较大,相互重叠的机会少;而高角度的衍射线对于d值小的晶面,容易相互混淆;
⑤在进行多相混合试样的分析时,不能要求一次将所有衍射线都能核对上,要逐一进行核对。
⑥要确定样品中含量较少的物相时,可用物理或化学方法进行富集浓缩。
⑦可以配合其他方法如电子显微镜、物理或化学方法等,联合进行准确的判定。
PDF卡片向我们提供了哪些有用的信息?
答:卡片序号、物质的化学式及英文名称、拍照时的条件、物质的晶体学数据、光学性质数据、试样来源、制备方法、拍照温度、面间距、米勒指数及相对温度
3、在进行物相定性分析时,送样时应向实验人员提供哪些信息?
答:送样时必须注明以下信息:
①待分析项目和所要的图形格式;
②试样的来源、化学组成和物理特性等,尤其是化学组成,这些对于作出正确的结论是很有帮助的。
③要确定样品中含量较少的物相时,可用物理或化学方法进行富集浓缩。
④样品有择优取向时,必须说明。
⑤尽量将XRD分析结果和其他分析方法结合起来,如TEM、偏光显微镜等。
1、光学显微镜用(可见光)做照明源,其最小分辨率为(200nm);电子显微镜以(电子束)做照明源,其分辨率可达(O.lnm),通常人眼的分辨率是(0.2mm)。
2、电磁透镜的像差指的是(电磁透镜的像与物总有一定的偏差),电磁透镜的像差主要有(球差)、(色差)、(轴上像散)、(畸变)等。
3、解释名词:分辨本领、磁透镜、场深、焦深。
①分辨本领:分辨本领是指成像系统或系统的一个部件的分辨能力,又称分辨率。
即成像系统或系统元件能有差别地区分开相邻物件最小间距的能力。
②磁透镜:旋转对称的磁场对电子束有聚焦成像作用,电子光学中用电子束聚焦成像的磁场是非匀强磁场,其等磁位面形状与静电透镜中的等电位面相似。
把产生这种旋转对■称磁场的线圈装置叫磁透镜。
③场深:场深=景深是指在不影响透镜成像分辨本领的前提下,物平面可沿透镜轴移动的距离。
场深也是电镜的性能指标之一,场深越大越好,表示样品的不平度可以差一些。
扫描电镜的场深很大,做失效分析是很有用,可直接观察断口试样的断裂形貌。
④焦深:焦深是指在不影响成像分辨率的前提卜,像平面可沿透镜轴移动的距离。
焦深也是越大越好,便于照相。
1、画图说明电子与固体样品相互作用所能产生的物理信号并说明SEM和TEM分别用哪些信号成像?在SEM的成像信号中,哪一个信号的成像分辨率最高?
SEM以二次电子、背散射电子、吸收电子成像,其中二次电子是最主要的成像信号。
2、TEM是高分辨率、高放大倍数的显微镜,它在哪三个方面是观察和分析材料的有效工具?答:①分辨率:表示TEM显示显微组织、结构细节的能力。
分点分辨率和线分辨率。
②放大倍数:指电子图像对与所观察试样区的线性放大率。
③加速电压:加速电压高可观察较厚的试样。
对材料研究工作选200KV加速电压的TEM更合适。
3、TEM以(聚焦电子束)为照明源,使用对电子束透明的(薄膜试样,几十到几百nm)样品,以(透射电子)为成像信号。
说说TEM对样品的基本要求;对于无机非金属材料等一些非导电材料,制备TEM样品常用的两种方法及其特点分别是什么?
答:(l)TEM对样品的基本要求:
①载样品的铜网直径是3mm,网孔约0.1mm,所以可观察样品的最大尺度不超过1mm。
②样品要相当的薄,使电子束可以穿透。
一般不超过几百个埃。
③只能是固态样品,且样品不能含有水分和其它易挥发物以及酸碱等有害物质。
④样品需有良好的化学稳定性及强度,在电子轰击下不分解、损坏或变化,也不能荷电。
⑤样品要清洁,不能带进外来物,以保证图像的质量和真实性。
(2)制备TEM样品常用的两种方法及其特点:
①亚型制样法:制样简单,只是对物体形貌的复制,不是真实样品,不能做微曲分析,只能看样品表面形貌分析。
②离子双喷减薄法:虽然样品很薄,除进行样品表面形貌分析还可以通过电子衍射进行晶体结构分析。
2、电子衍射和X射线衍射均可做物相分析,请对比分析二者的异同点。
衍射分析方法
XRD
TEM
源信号
X射线
电子束
技术基础
X-ray相长干涉电子束相长干涉样品
固体(晶态)薄膜(晶态)辐射深度
几十个微米
一微米以内
样品作用体积0.1〜0.5mm3
立方微米衍射角
0°〜180°
0。
〜3。
衍射方程描述Bragg方程
Bragg方程
应用
物相分析、点阵常数测定等
微区晶体结构分析与物相鉴定等
消光规律
相同
相同
3、解释名词:像衬度、明场像、暗场像。
答:①像衬度:像衬度是图像上不同区域间明暗程度的差别。
②明场像:用物镜光阑选用直射电子形成的像叫明场像。
③暗场像:选用散射电子形成的像叫暗场像。
在明场像情况下,原子序数较高或样品较厚的区域在荧光屏上显示(较喑),反之则对应于(较亮)的区域。
在暗场像情况下,与明场像(相反)。
1、SEM相对于TEM有哪些特点?
答:①可观察中=10〜30mm的大块试样,制样方法简单。
②场深大,适于粗糙表面和断口的分析观察,图相富立体感、真实感,易于识别和解释。
③放大倍数变化范围大,便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。
④具有较高的分辨率,一般为3〜6nm。
⑤可通过电子学方法控制和改善图像质量。
⑥可进行多功能分析。
⑦可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态试验,观察各种环境条件下的相变和形态变化等。
2、SEM对样品有何要求?
答:①试样可以是块状或粉末颗粒,在真空中能保持稳定;
②含水分的试样先烘干除去水分;
③表面污染的试样在不破坏表面结构的前提下进行清洗(一般用超声波清洗);
④新断口或断面一般不需处理以免破坏断口状态;
⑤磁性试样要先去磁:
⑥样品座尺寸为<1)=30〜35mm,大的可达巾30〜50mm,样品高度一般在5〜10mm左右。
3、SEM经常用于研究断II的形貌观察,在断口的形貌观察中主要研究哪三个方面的内容?用SEM进行断口分析时,对样品有哪些注意事项?
答:(1)三个方面内容:①找裂纹源;②裂纹扩展路径;③断裂方式
(2)样品注意事项:
①断11污染时要在确保断11形貌不被破坏的前提下清洗;
②新断口要及时清洗;
③断11清洗不能污染断面;
④切记断口不能对接;
⑤要在保证不被破坏断11形貌的条件下加工。
4、典型的断裂特征有哪几种?
答:典型的断口特征有:解理断II、准解理断口、晶间断裂断口、韧性断II和疲劳断口。
1、EPMA和普通化学分析方法均能分析样品中的化学成分,请问二者所分析的化学成分表示的意义是否相同?为什么?
答:EPMA与普通的化学分析方法不同,电子探针X射线显微分析(EPMA,简称电子探针)是一种显微分析和成分分析相结合的微区分析。
特别适用于分析试样中微小区域的化学成分, 是研究材料组织结构和元素分布状态的极为有用的分析方法。
后者得到的是试样中的平均成分也叫宏观成分,分析结果与微观组织不存在对应关系。
2、EDS和WDS的全名称分别叫什么?二者分析的化学元素的范围分别是什么?
答:EDS为能量色散谱仪,分析范闱为llNa〜92U的所有元素,Z三11:
WDS为波长色散谱仪,只适用于一定原子序数的元素分析,Z三4。
3、EPMA常用的四种基本分析方法各是什么?在面扫描分析图象中,亮区、灰区、黑区分别代表什么意义?
答:(1)定点定性分析、定点定量分析、线扫描分析、面扫描分析
(2)在一幅X射线扫描像中,亮区代表元素含量高,灰区代表元素含量较低,黑色区域代表元素含量很低或不存在。
1、差热分析对参比物和样品各有哪些要求?
答:(1)差热分析对参比物的要求:
①整个测温范围内无热反应;
②比热和导热性能与试样相近;
③粒度与试样相近。
常用的参比物为a -AI2O3。
(2)差热分析对试样的要求:
①粉末试样要通过100〜300目筛;聚合物应切成碎片:纤维试样应切成小段或球粒状。
②在试样中加适量参比物使其稀释以使二者导热性能接近。
③使试样与参比物有相近的装填密度。
影响差热曲线的因素有哪些?
答:(1)内因的影响:
①晶体结构的影响:②阳离子电负性、离子半径及电价的影响;③氢氧离子浓度的影响。
(2)外因的影响:
①加热速度的影响:②试样形状、称量及装填的影响:③压力与气氛的影响;④试样晶粒度的影响。
3、热重曲线的横坐标是(时间t或温度T)、纵坐标是(质量m)。
4、简述热重分析的实验程序和影响热重曲线的因素。
答:(1)实验程序:试样先磨细,过100〜300目筛,再干燥。
称量要精确,装填方式与DTA 相同。
(2)影响热重曲线的因素:
①浮力的变化与对流的影响;②挥发物的再凝聚及温度测量的影响;③.其它影响因素。
5、热膨胀分析对试样有何要求?
答:圆柱样65义15〜20mm。