TP基础知识与常见lcd结构形式介绍
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• 触控屏幕的结构• 电阻式
• • • • 玻璃或硬塑料平板作为基层， 表面透明氧化金属导电层 隔层 外表面导电层
• 特点是屏幕是软屏，按下去有轻微的凹陷，需稍用力触摸，可用任何 手写笔，但不支持多点触控
电容式：
电容技术触摸屏是利用人体的电流感应进行工作
特点是屏幕是硬屏，触摸灵敏，不用用力按压屏幕，支 持多点触摸，但只能用手指触摸
G+F+F 作用同双面ITO玻璃，TP良率相对较低。优点是：多点触控和针对双层来说， 比较薄。功能比较稳定的工艺。ITO图形比单层较复杂，因为苹果有单片sensor单层双 面镀ITO的专利，所以其他的TP厂只好使用多加一层flim膜来弥补 G+F+F 0.55MM+0.075+0.125+0.05+0.125MM OGS 功能电路印刷在面板上，优点是薄 缺点：功能纹路相比较明显，抗干扰还是不 足，OGS生产良率比较低，因为二次强化损伤功能线路。部分公司的OGS没经过二次 强化，因此面板硬度不够。 IN-cell/On-cell :只是为了更轻薄的设计，是OGS类型，只是比OGS做得还薄。 OGS 一般是0.7mm的强化玻璃，0.55也有，比较软，除非用非常不错的基材 单层film对pattern的图案要求高，使用合适的图案触控才会灵敏，双层film的触控效果 要好于单层film，所以很多低端机都用单层film，相对成本也低，符合cost down 效益
常见电容屏结构
• GFF (Glass-Film-Film)、 • G1F (Glass-Film)、 • GG (Glass-Glass)
• 薄膜电容式触控面板；铟锡氧化物(Indium Tin Oxide；ITO)膜 • 属玻璃电容式触控面板，G+G，玻璃基板 上溅镀ITO图样(Pattern)
ITO材料
• ITO 是Indium Tin Oxides的缩写。ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化 铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标： 电阻率和透光率。 • 在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能 最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。 ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常 SnO2:In2O3=1:9。 • In203里掺入Sn后，Sn元素可以替代In2O3晶格中的In元素而以SnO2 的形式存在，因为In2O3中的In元素是3价，行程SnO2是将贡献一个 电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴，使得ITO薄膜 具有半导体的导电性能。 • 目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近 金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能， 其透过率则可达90%以上，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与 Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常 Sn2O3： In2O3=1：9，因为氧化锡之厚度超过200Å时，通常透明度 已不够好---虽然导电性能很好。
• •
AMOLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode主动矩阵有机发光二极体面板) AMOLED屏幕的构造有三层，AMOLED屏幕＋Touch Screen Panel（触控屏面板）＋ 外保护玻璃。AMOLED是OLED技术的一种，OLED代表着它是自发光显示器，利用多 层有机化合物来实现独立R、G、B三色光。它的前缀AM（主动矩阵）相对的是PM （被动矩阵），它比后者的细节还原更细腻，而且响应时间也更快 AMOLED、Super AMOLED、Super AMOLED Plus以及Super AMOLED Advanced
各类型结构图
• •
G+G 主要使用的是双面ITO玻璃，操作时候容易管控，良率比膜要高，支持大屏的多 点触控，缺点：厚度较厚，常用于平板电脑居多。 G+G一般是0.55mm（盖板 也有0.7mm）+0.15mm（水胶）+0.4mm （sensor）
•
G+F 常用的是单点触控，和两点触控，当然工艺现在优化后，可以单层多点触控。缺 点似乎是干扰比较强。
•
• 显示色彩更加鲜艳，对比度也更高，整体画面栩栩如生。不足之处在 于，色阶范围较窄，暗部细节损失较多
结构对比
前壳与TP组装方式
1. 框贴 2. 点胶
•
• •
• • •
黄光制程
• • • • • • 1，清洗 2，涂覆光刻胶 3，烘干 4，曝光，显影 5，蚀刻 6，脱膜
常用LCD
• TFT，IPS （In-Plance switching）
•
色彩更为真实，整体画面清新自然，色阶范围较宽，亮部和暗部细节表现充分。不足 之处在于，色彩较为平淡，视觉冲击力较弱
• • • • 玻璃或硬塑料平板作为基层， 表面透明氧化金属导电层 隔层 外表面导电层
• 特点是屏幕是软屏，按下去有轻微的凹陷，需稍用力触摸，可用任何 手写笔，但不支持多点触控
电容式：
电容技术触摸屏是利用人体的电流感应进行工作
特点是屏幕是硬屏，触摸灵敏，不用用力按压屏幕，支 持多点触摸，但只能用手指触摸
G+F+F 作用同双面ITO玻璃，TP良率相对较低。优点是：多点触控和针对双层来说， 比较薄。功能比较稳定的工艺。ITO图形比单层较复杂，因为苹果有单片sensor单层双 面镀ITO的专利，所以其他的TP厂只好使用多加一层flim膜来弥补 G+F+F 0.55MM+0.075+0.125+0.05+0.125MM OGS 功能电路印刷在面板上，优点是薄 缺点：功能纹路相比较明显，抗干扰还是不 足，OGS生产良率比较低，因为二次强化损伤功能线路。部分公司的OGS没经过二次 强化，因此面板硬度不够。 IN-cell/On-cell :只是为了更轻薄的设计，是OGS类型，只是比OGS做得还薄。 OGS 一般是0.7mm的强化玻璃，0.55也有，比较软，除非用非常不错的基材 单层film对pattern的图案要求高，使用合适的图案触控才会灵敏，双层film的触控效果 要好于单层film，所以很多低端机都用单层film，相对成本也低，符合cost down 效益
常见电容屏结构
• GFF (Glass-Film-Film)、 • G1F (Glass-Film)、 • GG (Glass-Glass)
• 薄膜电容式触控面板；铟锡氧化物(Indium Tin Oxide；ITO)膜 • 属玻璃电容式触控面板，G+G，玻璃基板 上溅镀ITO图样(Pattern)
ITO材料
• ITO 是Indium Tin Oxides的缩写。ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化 铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标： 电阻率和透光率。 • 在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能 最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。 ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常 SnO2:In2O3=1:9。 • In203里掺入Sn后，Sn元素可以替代In2O3晶格中的In元素而以SnO2 的形式存在，因为In2O3中的In元素是3价，行程SnO2是将贡献一个 电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴，使得ITO薄膜 具有半导体的导电性能。 • 目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近 金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能， 其透过率则可达90%以上，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与 Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常 Sn2O3： In2O3=1：9，因为氧化锡之厚度超过200Å时，通常透明度 已不够好---虽然导电性能很好。
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AMOLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode主动矩阵有机发光二极体面板) AMOLED屏幕的构造有三层，AMOLED屏幕＋Touch Screen Panel（触控屏面板）＋ 外保护玻璃。AMOLED是OLED技术的一种，OLED代表着它是自发光显示器，利用多 层有机化合物来实现独立R、G、B三色光。它的前缀AM（主动矩阵）相对的是PM （被动矩阵），它比后者的细节还原更细腻，而且响应时间也更快 AMOLED、Super AMOLED、Super AMOLED Plus以及Super AMOLED Advanced
各类型结构图
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G+G 主要使用的是双面ITO玻璃，操作时候容易管控，良率比膜要高，支持大屏的多 点触控，缺点：厚度较厚，常用于平板电脑居多。 G+G一般是0.55mm（盖板 也有0.7mm）+0.15mm（水胶）+0.4mm （sensor）
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G+F 常用的是单点触控，和两点触控，当然工艺现在优化后，可以单层多点触控。缺 点似乎是干扰比较强。
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• 显示色彩更加鲜艳，对比度也更高，整体画面栩栩如生。不足之处在 于，色阶范围较窄，暗部细节损失较多
结构对比
前壳与TP组装方式
1. 框贴 2. 点胶
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黄光制程
• • • • • • 1，清洗 2，涂覆光刻胶 3，烘干 4，曝光，显影 5，蚀刻 6，脱膜
常用LCD
• TFT，IPS （In-Plance switching）
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色彩更为真实，整体画面清新自然，色阶范围较宽，亮部和暗部细节表现充分。不足 之处在于，色彩较为平淡，视觉冲击力较弱