电浆应用
PECVD的工作原理
PECVD的工作原理引言概述:PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种常用的薄膜沉积技术,广泛应用于半导体、光电子、显示器件等领域。
本文将详细介绍PECVD的工作原理,包括原理概述、工作过程、薄膜生长机理、应用领域以及未来发展方向。
一、原理概述:1.1 电浆(Plasma)的生成:PECVD利用高频电场或射频电场作用下的气体放电,产生等离子体。
通过加热、电离和激发气体分子,形成高能态的离子和电子,从而激活反应气体,促使薄膜沉积反应的进行。
1.2 化学气相反应:PECVD通过将反应气体引入等离子体区域,使其与激活的离子和电子进行化学反应。
反应气体中的原子、分子或离子在表面发生吸附、解离、再组合等反应,生成所需的薄膜材料。
1.3 薄膜沉积:反应气体中的反应产物在基片表面沉积,形成均匀、致密的薄膜。
PECVD可以控制沉积速率、薄膜厚度、成分等参数,实现对薄膜性质的调控。
二、工作过程:2.1 真空系统:PECVD工作需要在较低的气压下进行,通常使用真空系统将反应室抽取至高真空状态。
真空系统包括抽气系统、气体进出系统和真空度检测系统。
2.2 气体供给系统:PECVD需要提供反应气体,通常包括载气、前驱体和稀释气体。
载气用于稀释前驱体,稀释气体用于调节反应气体的浓度。
2.3 等离子体生成和控制:通过高频电源或射频电源提供能量,产生等离子体。
同时,通过电极结构和电源参数的调节,可以控制等离子体的密度、温度和化学活性。
三、薄膜生长机理:3.1 吸附:反应气体中的原子、分子或离子在基片表面吸附。
3.2 解离:吸附的反应气体在等离子体的作用下发生解离,形成活性物种。
3.3 反应:活性物种在基片表面发生化学反应,生成所需的薄膜材料。
四、应用领域:4.1 半导体器件:PECVD广泛应用于半导体器件的制备,如硅基薄膜晶体管、光电二极管等。
4.2 光电子器件:PECVD可用于制备光学薄膜、光纤、太阳能电池等光电子器件。
电浆原理与电浆清洗机简介I
Source of some figures: gouge.free.fr/ AND http://ridge.icu.ac.jp/biobk/BioBookCHEM1.html
為什麼電漿有用?
電漿中含有電子、離子以及氣體原子。低溫電漿是 因為僅有一部份質量輕的電子在快速躍動著,而氣 體中的原子與分子相互碰撞。通常高溫是化學反應 的必要條件,但在這裡低溫也能有所作為。 另一方面,電漿能發出各式各樣的顏色光(紫外光和 可見光等等),而我們能利用這個特性來做照明。
Turbo pump
機台部品使用
多用途真空計控制器 Ion Gauge高真空計
MKS 627B (金屬外殼可加熱式)
熱對流式低真空計
機台部品使用
RF power Generator
ICP Power與Bias Power均使用美國 AE dressler 或是 德國Cito系列 13.56MHz 的RF Power,含相位鎖 定功能,不會產生power之間的干擾。 ICP Power Max: 1000 Watt Bias Power Max.: 600 Watt
腔體需加裝ㄧ介電窗才可導入感應磁場
為得到更有效率的蝕刻製程,便發展出所謂變 壓耦合式電漿源(Transformer Coupled Plasma, TCP)以及感應式耦合電漿源的高密 度電漿系統。TCP與ICP兩者在名稱上雖有不 同,但其實為同一原理。統稱為ICP system。 基材與腔體等電位
Down Stream Mode (Inductive Coupled Plasma)
Pressure Control
Pumping
Temperature Control
機台部品使用
Angle Valve
PCB电浆应用制程简介
光阻層
應用層
Roughness
以化學蝕刻配合強力的物理撞擊,形成 所需要的表面粗糙度,增加結合力
表面改質
以電漿之能力,將物質的表面活,並增加 可能有效的官能基,使結合的能力加強
Sputter
將銅等金屬物質以濺鍍的方式,均勻結合在PI 等材質的技術,使其形成良好的導電層,以利後 續製程(如水平電鍍等)進行的方式
銅鈀
氬電漿 銅導電層 PI軟板
PCB使用Plasma(電漿)的原因
電路板的密度越來越高,線距及線徑越來越細小,所需之孔相對 就越來越多也越來越小,必需面對成孔後遺症—去焦渣,清洗 電路板材質越來越多,也越來越薄要求的接合性並未減低,表面 改質,表面處理,清洗就越來越重要 增層層(build-up)的第一增層層用電漿製程會比較穩定 濕製程要用的水量很大,受限很多 濕製程要用掉的耗材溶劑的成本較高,使用電漿製程的用氣成本 相對低很多,濕製程一條生產線一個月的用量如為40-60萬台幣, 電漿製程則不到10萬台幣 就未來的製程,電漿為一必要工具,先期投入,可取得很多優勢,研 發工程人員可以早期更熟悉即將必然面對的問題及技術
PCB使用自動化單片On-line的原因
目前市面上的機台為Batch type,批次生產
– 客戶的Concern為
• 使用的空間很大,要很大的真空腔及很大的Pump • 因為腔體很大且要批次生產,要用高功率的RF • 上述代表特殊電源,特殊變壓器,維修的成本很高,零件很 貴,備品不是一般半導體的泛用規格 • 要跨製程的時間長,耗材多,製程不穩定,均勻度不佳 使用On-line的原因 – 保養容易 – 一次一片的製程簡單容易,取得認證快速 – 製程的穩定度很高,均勻性很好,沒有人為因素 – 在台灣可以是去除大量人的一個非常重要的因素,台灣人力 成本很高
电浆清洗机工作原理
电浆清洗机工作原理
电浆清洗机是一种利用高能离子束或电弧等形成的电浆进行清洗的设备。
其工作原理如下:1. 电离:在清洗室中加入适量的工作气体,通常为氮气、氩气等惰性气体。
然后通过加热或电弧放电等方式将气体中的原子或分子离子化,形成等离子体。
2. 电浆生成:离子化的工作气体形成的等离子体被加热并加速,形成高温高能的电浆。
电浆中的离子具有较高的动能,可以对清洗物体表面的污垢进行溅射和弹击。
同时,电浆中的电子也可以与表面的污垢进行化学反应。
3. 清洗作用:电浆束通过电浆喷嘴或电极,将高能离子束或电流喷射到待清洗的工件表面。
高能离子束的动能足以将表面的污垢物理击碎,并将其剥离。
而电流则通过电解溶解污垢的化学键,使其分解为更容易去除的物质。
4. 清洗效果:经过电浆清洗的工件表面将获得较高的清洁度和光洁度。
由于电浆清洗过程中的高能离子束或电流对待清洗物体的冲击力较大,因此能够去除一些较难清洗的污垢,如氧化物、油脂等。
总的来说,电浆清洗机通过产生高能离子束或电流的电浆来对工件表面进行清洗,利用物理和化学效应去除污垢,达到清洁和表面改性的目的。
电浆(等离子体)原理及应用
電漿源原理與應用之介紹文/張家豪,魏鴻文,翁政輝,柳克強李安平,寇崇善吳敏文,曾錦清,蔡文發,鄭國川摘要電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程,成為現代科技的重要指標。
本文將介紹國內在電漿源方面的研發,其中包括電感式電漿源,微波表面波電漿源,大氣電漿源,電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。
文中將簡介各式電漿源之基本物理及其應用發展。
1. 前言電漿已廣泛應用於各種領域,如在半導體積體電路製造方面,舉凡不同材料薄膜的成長及電路的蝕刻皆普遍由電漿技術達成。
另外在半導封裝及紡織業方面,則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的功能及效果。
在環保方面,電漿火炬可以安全固化焚化爐所產生之高污染灰渣。
甚至在醫療上現已有商用之電漿設備用於手術刀具的殺菌。
而在科學研究方面電漿更已成為重要的工具,如奈米碳管的成長,微機電的研發等等。
電漿之所以能提供如此廣泛的功能主要在於電漿中的反應是許多不同成分間的作用(Heterogeneous Interactions),其中包括紫外線,中性粒子,活化粒子,電子及離子的反應。
尤其是包含了具能量的粒子,它們能引發許多特殊的化學與物理的反應。
例如在電漿蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速後轟擊矽晶圓,使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。
另外如在鑽石膜成長中,電漿一方面產生成長所需要的碳原子,當其在表面形成鍵結時,電漿中所產生的氫原子則能與石墨鍵結的碳原子進行蝕刻反應而留下鑽石的鍵結。
在奈米碳管成長中,電漿鞘層的電場則能達到高方向性的成長。
這是其他方法所無法達到的。
在電漿技術中電漿源則是系統的關鍵。
目前產生電漿的方法以使用的功率源而言有直流放電(DC discharge),低頻及中頻放電(數KHz到數MHz),射頻放電(13.6MHz),及微波放電(2.45GHz)。
現行電漿製程多操作在低氣壓之輝光放電(mTorr 到百Torr)。
等离子体概念及应用特点
等离子体概念及应用特点>1、什么是等离子体等离子体和固体、液体或气体一样,是物质的一种状态。
对气体施加足够的能量使之部分离化便成为物质的第四态——等离子体。
等离子体指部分或完全电离的气体,且自由电子和离子所带正、负电荷的总和完全抵消,宏观上呈现中性电。
等离子体又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质,它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固相、液相、气相外,物质存在的第四态。
看似“神秘”的等离子体,其实是宇宙中一种常见的物质,在太阳、恒星、闪电中都存在等离子体,它占了整个宇宙的99%。
现在人们已经掌握利用电场和磁场产生来控制等离子体。
等离子体可分为两种:高温和低温等离子体。
低温等离子体的电子温度远高于离子温度,离子温度甚至可与室温相当。
所以低温等离子体是非热平衡等离子体,低温等离子体中存在着大量的、种类繁多的活性粒子,比通常的化学反应所产生的活性粒子种类更多、活性更强,更易于和所接触的材料表面发生反应,因此它们被用来对材料表面进行改性处理。
现在低温等离子体表面处理广泛运用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域。
与传统的方法相比,等离子体表面处理具有成本低、无废弃物、无污染等显著的优点,同时可以得到传统的化学方法难以达到的处理效果。
2、等离子体表面处理的优点与传统的工艺相比较,等离子体技术应用的优点包括:1、不会改变基体固有性能,改性作用仅仅发生在表面,约几到几十个纳米。
2、全程干躁的处理方式,无需溶解剂和水,不产生污染,因而节约能源,降低成本。
3、作用时间短,反应速率高,加工对象广,能显著提高产品质量。
4、工艺简单、操作方便,生产可控性强,产品一致性好。
5、属于健康型工艺,对操作人员身体无害。
等离子清洗原理的概述>等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四中状态存在,如地球大气中电离层中的物质。
电浆在半导体领域的应用与发展
电浆在半导体领域的应用与发展电浆在半导体领域的应用与发展一、引言近年来,电浆技术在半导体领域的应用与发展备受关注。
电浆作为一种物理气相沉积技术,具有高效、环保、精密等特点,被广泛应用于半导体薄膜、导电膜、光刻胶去除等领域。
本文将从电浆技术的基本原理、在半导体制造中的应用以及未来发展趋势等方面展开,帮助读者更深入地理解电浆在半导体领域的重要性。
二、电浆技术的基本原理电浆是由离子、电子、中性原子和分子组成的等离子体,是一种电中性的气体。
当电场或电流加在气体中时,可以产生电子的离域,形成等离子体。
在等离子体中,由于电子与原子碰撞,可以产生电离、激发与分子解离等过程,从而在气体中产生一系列的化学反应。
电浆技术利用这一原理,通过激发和控制等离子体中的离子和电子,实现对材料表面的沉积、蚀刻或改性。
在半导体制造中,电浆技术被广泛应用于薄膜沉积、清洗、刻蚀等工艺中,为半导体器件的制备提供了关键的工艺支持。
三、电浆技术在半导体制造中的应用1. 薄膜沉积电浆增强化学气相沉积(PECVD)是一种常见的半导体薄膜沉积技术。
通过在气相中产生等离子体,可以使材料的薄膜均匀沉积在基片表面上,形成具有高质量和一定厚度的薄膜。
电浆在PECVD中的应用,可实现对硅氧化物、氮化硅等材料的均匀、致密的沉积,为半导体器件的制备提供了必要的材料基础。
2. 清洗和去除在半导体器件制造过程中,光刻胶残留和杂质的去除是十分关键的工艺步骤。
利用氧化镭、氩等化学物质的等离子体,可以实现对半导体器件表面的清洗和去除。
电浆清洗技术不仅可以高效去除光刻胶残留,还可以在不损伤器件表面的前提下清洗表面杂质,提高器件的性能和可靠性。
3. 刻蚀在半导体器件的制备工艺中,常常需要对材料表面进行图形化加工,以形成电路、井孔等结构。
电浆刻蚀技术是一种精密的图形化加工技术,通过精确控制的等离子体,可以实现对半导体器件表面的微米级图形化加工。
电浆刻蚀技术具有高加工精度、高加工速度和对多种材料的适应性强的特点,被广泛应用于半导体器件的制备工艺中。
电浆技术在环境治理中的应用
电浆技术在环境治理中的应用随着人类社会的发展,环境污染问题愈发严重。
特别是在工业化大规模发展的地区,环境污染问题愈加严峻。
环境治理不仅是保护生态环境的需要,也是维持人类健康的重要措施。
电浆技术作为一种先进的治理技术,有着广泛的应用前景。
一、电浆技术的基本原理电浆技术是利用气体电离和化学反应作用破坏有害气体、液体和固体污染物,在一定条件下进行物理或化学变化的技术。
其基本原理是利用高温、高压等外界条件激发气体电离,生成带电粒子,当这些带电粒子与有机或无机物相遇时,可以形成几何反应,将化学物质分解成较小分子。
这些小分子可以再次与带电粒子接触,形成水和二氧化碳等无害产物。
二、电浆技术在固体废弃物处理中的应用电浆处理可将有害物质分解成无害物质。
针对垃圾焚烧厂处理过程中所产生的酸雾、假硫酸等气体污染物,采用等离子体氧化反应技术,消除这些气体的释放,避免对环境的二次污染。
三、电浆技术在水污染治理中的应用水污染治理是环境治理中的重要组成部分。
电浆技术在水污染治理中的应用主要体现在以下两个方面。
1、废水处理。
传统的废水处理方法主要基于物理、化学、生物方法,损耗大量的药剂,难以消除化学物质、色素等有害污染物,同时在处理过程中产生新的污染物。
电浆技术在处理废水时,通过高频高压放电,将有害物质分解成无害物质,降低了消耗,能够更加彻底地处理废水。
2、处理水中有害的气体。
处于水中的有害气体往往极难处理,利用电浆技术,将水放入放电室内,通过高温高压的等离子体作用,氧和氢含量都得到分解和氧化,最终达到净化水质的效果。
四、电浆技术在空气污染治理中的应用空气污染治理是环境治理中的重要组成部分。
空气污染物的化学成分各异,电浆技术对于不同成分的空气污染物有着不同的应用方式。
其中,雾霾治理和烟气治理是电浆技术应用于空气治理的两个重要领域。
1、雾霾治理。
雾霾治理是当前环境治理的热点问题。
电浆技术可以将有害的大气污染分解成无害物质,是治理雾霾的重要手段。
探讨电子学中的电浆工程技术
探讨电子学中的电浆工程技术电子学是现代科学技术中的重要分支,涵盖了电子元件、电子仪器和电磁波等众多领域。
其中,电浆工程技术作为电子学中的一个重要研究方向,一直备受关注。
本文将对电浆工程技术进行探讨,介绍其概念、应用领域以及相关研究情况。
一、电浆工程技术的概念电浆是气体状态中带有电荷粒子的一种物质形态,在自然界中广泛存在。
电浆工程技术是利用电浆物理学原理,通过对气体进行电离和激发,控制和操纵电离气体中的带电粒子的动态行为和参数,实现对产生的带电粒子束和强磁场等物理现象的研究和应用。
其研究范围主要涉及物理、化学、力学、电子学等多个学科领域。
二、电浆工程技术的应用领域1. 火星探测在火星探测中,电浆工程技术被广泛应用。
对于地球与火星之间的通信,利用电浆天线通讯可以加强信号传输,提高通信效率。
此外,电浆推进器技术被用于火星着陆探测器的姿态控制和动力系统中。
2. 航空航天航空航天领域也是电浆工程技术的重要应用领域之一。
从提高飞行器的空气动力性能、减小飞行噪声、到实现航天器的推进系统等方面,电浆工程技术都有重要应用。
3. 材料加工电浆工程技术在材料加工领域也被广泛应用。
利用等离子体切割技术可以切割金属、玻璃等材料,利用等离子体表面处理技术可以改变材料表面的性质和形态,提高材料的机械性能。
4. 环境治理电浆工程技术在环境治理领域也有广泛应用。
例如利用电荷转移法对汽车尾气、VOC等污染物进行净化处理,利用等离子体催化剂降解有机废气等。
三、电浆工程技术的研究进展1. 电浆天线通讯电浆天线通讯被广泛应用于航空航天、卫星通讯等领域。
电浆天线通讯利用电离气体中的等离子体振荡特性,从而实现更远距离、更高频率的通信。
研究人员在制备等离子体天线方面也取得了重要进展。
2. 等离子体表面处理技术等离子体表面处理技术可以改变材料表面的性质和形态,提高材料的机械性能。
目前,国内外学者已经研究出多种等离子体表面处理技术,应用于不同的材料领域。
辐射4电浆
辐射4电浆
在游戏《辐射4》中,电浆是一种特殊的能量武器类型,用于
对抗敌人。
它可以通过电浆枪、电浆手榴弹等武器种类来发射。
电浆武器的原理是通过加热和放电来产生高温的电浆能量,然后将其发射出去。
电浆武器有着很高的伤害和击穿力,能够对敌人造成很大的破坏。
在游戏中,使用电浆武器需要注意一些事项。
首先,电浆武器的射程相对较短,所以需要在靠近敌人的情况下使用。
其次,电浆武器需要一定的时间来进行冷却,频繁使用可能会导致武器过热而暂时无法使用。
总的来说,电浆武器是《辐射4》中的一种强力武器类型,能
够在战斗中造成巨大的伤害。
然而,使用电浆武器需要注意其射程和冷却时间,合理运用才能发挥出最大的威力。
一分钟电浆机的用途以及特点
一分钟电浆机的用途以及特点概述电浆是一种能量密度极高的状态,是气体中等离子体的一种形态。
电浆在高温、高压和高能辐射条件下稳定存在,广泛应用于物理、化学、材料科学、医学和工程技术领域。
一分钟电浆机是一种小型的电浆发生器,主要用于学校、实验室和科普教育领域。
用途一分钟电浆机的主要用途有以下几个方面:科学研究在科学研究中,电浆技术被广泛应用于等离子体物理、核物理、材料科学和空间物理等领域。
一分钟电浆机可以用于各种类型的电浆实验,包括等离子体诊断、磁约束等离子体、惯性约束聚变等。
教育科普在教育和科普领域,一分钟电浆机可以用于展示等离子体物理的基本原理和现象。
例如,可以用一分钟电浆机展示等离子体发光的效果,让学生感受到等离子体的特殊性质。
创意装饰一分钟电浆机也可以用于创意装饰。
它可以作为餐厅、咖啡店、商场和展览馆等公共场所的装饰品。
许多朋友可以用它来拍摄创意照片和视频,这也是一分钟电浆机的一大特色。
特点一分钟电浆机的特点如下:体积小,便于携带和展示一分钟电浆机通常体积比较小,非常适合携带和展示。
它可以方便地放到桌子上、书架上或展台上,让人们随时随地可以观察到等离子体的奇妙景象。
火花绽放效果明显,视觉效果强烈一分钟电浆机在工作时,电极周围的气体会发生等离子体化现象。
这时,会出现各种颜色的火花和闪电效果。
这些视觉效果非常强烈,容易吸引人们的注意力。
操作简单,使用安全一分钟电浆机的操作非常简单,只需要插上电源,开启电源开关即可。
而且,它的使用非常安全,因为它的电压和电流都比较小。
使用它时,我们不需要特别的技能和知识,就可以安全地将它用于展示和学习。
结论一分钟电浆机是一种小型的、便携式的电浆发生器,具有明显的火花绽放效果和强烈的视觉效果。
它在科学研究、教育科普和创意装饰等领域都有广泛的应用。
作为一种安全、易用的电浆发生器,一分钟电浆机可以给人们带来丰富多彩的体验,同时也可以帮助人们更好地了解等离子体相关知识。
电浆在半导体领域分析
• 7•电浆在半导体领域分析国家知识产权局专利局 钟 翊半导体作为多种技术的集成体,需要通过多种技术实现对半导体产品的研发和制作,在具体的处理过程中,涉及多种工作体系的建设。
本文探讨了电浆在半导体领域内起到关键作用的设备类型,分析其在半导体领域内的具体使用方法,并在此基础上分析了相对应的质量控制模式,从而让电浆可以在半导体领域内更好发挥应有作用。
电浆刻蚀,又名等离子体刻蚀,在半导体制造工艺中被广泛应用,是制造半导体芯片的关键技术之一。
在电浆的具体使用过程,其中会考虑具体的使用信息,并且通过对这类电浆信号的全面加入,使得所携带的电浆可以被投放在基体上,最终对其进行刻蚀处理,因此可以说电浆本身的使用质量以及处理工作规范中,能够从根本上决定半导体产品的制作水平。
在当前的技术发展和变革过程,必须要实现对该项技术的科学合理使用。
1 电浆在半导体产品制作工艺中发挥作用的设备1.1 电子加速装置在电浆技术的具体使用过程中,所有电浆本身存在大量的电荷,要经过响应处理,使得电浆具有较高速度喷涂到被处理的材料上,让其实现对于整个系统的有效刻蚀。
电浆可通过缓慢喷出的方式,导致电浆无法真正起到应有作用,所以可以通过电子回旋加速震荡反应器,实现对具体刻蚀处理设备的使用,从而在相对应的工作压力下产生致密的电浆。
此外由于其中存在一个平行于反应器流动方向的关键电磁场,此时整个体系内存在的所有自由电子会在磁场作用下做出螺旋运动,当电子的具体回旋频率能够和微波电场的固有频率相同时,那么就可以实现所有的电子被集中在材料中,当此时就实现了针对材料表面的有效刻蚀作用。
1.2 电感耦合电浆反应器电感耦合电浆反应器构造过程中,可以直接减弱硅片上的电浆系统的密度,并且可以实现对于整个系统反应器中相关反应的具体处理工作,并且该项设备相对于电子回旋加速振荡器来说,所需要投入的成本总量较低,因此已经在当前的半导体行业内,在大量的企业内处于广泛使用状态。
电浆预处理
电浆预处理
电浆预处理是一种常用的表面处理技术,主要用于塑料、金属、陶瓷等材料的表面处理,以提高其表面能,增强其粘附力和印刷性能。
电浆预处理的基本原理是利用等离子体中的高能粒子对材料表面进行轰击,使材料表面的原子或分子的电子被剥离,形成带正负电荷的离子或自由基。
这些离子或自由基具有很高的活性,可以在材料表面进行化学反应,形成新的化学基团或层,从而改变材料表面的化学性质。
电浆预处理的优点包括:
1.适用范围广,可以处理各种材料表面;
2.处理效果好,可以提高表面能、增强粘附力和印刷性能;
3.操作简单,自动化程度高;
4.环保无污染。
在电浆预处理过程中,需要注意以下几点:
1.调整电浆参数,如功率、气压、处理时间等,以达到最佳的处理效果;
2.注意保护材料表面不被电浆腐蚀或氧化;
3.注意电浆处理后材料表面的清洁和干燥;
4.注意安全操作,避免电浆对人体和环境造成伤害。
导电浆料应用
导电浆料应用
导电浆料是将电子导体粒子添加到聚合物基质中形成的复合物质,具有良好的导电性能和机械性能,被广泛应用于电子产品、信息处理、电池等领域,包括:
1. 电子产品:导电材料可以用于制造导电电路板、柔性电路板等电子产品中,帮助电子设备正常工作和传输电信号。
2. 电池:导电浆料可以用于锂离子电池的电极材料中,提高电极的导电性能和稳定性。
3. 其他应用:导电浆料还可以用于制造抗静电材料、传感器、光电器件等领域,发挥良好的导电性能和机械性能。
总的来说,导电浆料具有很广泛的应用前景,是电子工业和能源行业发展的有力支撑,有助于提高产品性能和降低生产成本。
电浆清洗机的应用
电浆清洗机的应用小型等离子清洗、刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点,主要适合于大学、科研机构高科技生产单位的以下场合:∙半导体开发∙集成电路开发∙真空电子行业∙ TEM、SEM样品及支架清洁∙生命科学实验与动辄十几万美元的大型产品相比具有以下优点1、可以更灵活地操作,简便地改变处理气体的种类和处理程序。
2、不会对科研人员的身体造成任何伤害。
3、其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。
等离子设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。
通过其处理,能够改善材料的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。
其具体应用包括:1、塑料、玻璃和陶瓷表面活化玻璃、陶瓷和塑料(如聚丙烯、PTFE等)基本上是没有极性的,因此这些材料在进行粘合、油漆和涂覆之前要进行表面活化处理。
2、金属去油及清洁金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、健合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。
焊接操作前:通常印刷线路板在焊接前要用化学助焊剂处理。
在焊接完成后这些化学物质必须采用等离子方法去除,否则会带来腐蚀等问题。
键合操作前:好的键合常常被电镀、粘合、焊接操作时的残留物削弱,这些残留物能够通过等离子方法有选择地去除。
同时氧化层对键合的质量也是有害的,也需要进行等离子清洁。
3、等离子刻蚀特点:∙操作简便、成本低廉∙处理舱可以分层方置样品∙高效真空电极∙气体流量通过流量计和针阀实现精确控制∙手动过程控制∙功率可在200W以内调节控制(完全能够能够满足清洁需要,200W以上功率用于刻蚀)∙自动阻抗匹配∙自由设置参数:处理时间、功率、气体、压力∙安全保护功能:真空触发、舱门锁小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点,与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洁小型机具有以下优点:1、可以更灵活地操作,简便地改变处理气体的种类和处理程序。
大气电浆技术
大气电浆技术大气电浆技术是一种新兴的科学技术,它主要研究大气中的电浆现象及其应用。
电浆是物质的一种状态,它由离子、电子和中性粒子组成,具有高度的导电性和磁性。
大气电浆是指存在于地球大气层中的电浆现象,包括极光、闪电等自然现象,以及人工产生的电浆。
大气电浆技术的研究和应用涉及到物理学、化学、生物学、气象学、航空航天等多个领域,具有很高的科学价值和实用价值。
一、大气电浆现象及其产生机制1. 极光极光是大气电浆现象中最为壮观的一种,主要出现在地球的两极地区。
极光的形成与太阳风、地球磁场和大气中的气体分子相互作用有关。
当太阳风携带的高能粒子进入地球磁场时,它们会被磁场引导到地球的两个磁极附近。
在磁极附近的高层大气中,高能粒子与气体分子发生碰撞,使气体分子激发并电离,形成电浆。
这些电浆受到磁场的引导,沿着磁力线运动,形成极光。
2. 闪电闪电是大气中最常见的电浆现象之一,它是由于云层中的正负电荷分离导致的。
在雷暴过程中,云层中的水滴和冰晶相互碰撞、摩擦,使电荷分离。
当电荷分离达到一定程度时,云层中的正负电荷之间产生强烈的电场,使空气电离,形成电浆。
电浆中的电荷沿着电场线迅速移动,最终导致闪电放电。
3. 人工电浆人工电浆是指通过人为手段产生的电浆。
常见的人工电浆产生方法有:气体放电、激光放电、微波放电等。
这些方法可以使气体分子或原子被激发或电离,形成电浆。
人工电浆技术在科学研究、工业应用等领域具有广泛的应用前景。
二、大气电浆技术的研究进展1. 大气电浆观测技术大气电浆观测技术的发展为大气电浆现象的研究提供了重要手段。
目前,大气电浆观测技术主要包括光谱分析、无线电波探测、卫星遥感等。
光谱分析技术可以检测大气中离子和电子的成分和浓度;无线电波探测技术可以探测大气中的电磁波信号,了解电浆的运动和分布情况;卫星遥感技术可以从空间对地球大气层进行高分辨率观测,获取大气电浆的空间分布信息。
2. 大气电浆模拟技术大气电浆模拟技术是研究大气电浆现象的重要方法。
等离子体(电浆)摘自百度
等离子体(电浆)摘自百度等离子体编辑?[děng lí zǐ tǐ]电浆一般指等离子体等离子体又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。
等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。
等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺。
物质由分子构成,分子由原子构成,原子由带正电的原子核和围绕它的、带负电的电子构成。
当被加热到足够高的温度或其他原因,外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子,就像下课后的学生跑到操场上随意玩耍一样。
电子离开原子核,这个过程就叫做“电离”。
这时,物质就变成了由带正电的原子核和带负电的电子组成的、一团均匀的“浆糊”,因此人们戏称它为离子浆,这些离子浆中正负电荷总量相等,所以就叫等离子体。
中文名等离子体外文名plasma cvd equipment类目物理学又叫电浆目录1构成2发展史3离子效应4主要应用5技术6不稳定性7核聚变8科研贡献1构成编辑看似“神秘”的等离子体,其实是宇宙中一种常见的物质,在太阳、恒星、闪电中都存在等离子体,它占了整个宇宙的99%。
21世纪人们已经掌握和利用电场和磁场产生来控制等离子体。
例如焊工们用高温等离子体焊接金属。
等离子体由离子、电子以及未电离的中性粒子的集合组成,整体呈中性的物质状态。
等离子体可分为两种:高温和低温等离子体。
等离子体温度分别用电子温度和离子温度表示,两者相等称为高温等离子体;不相等则称低温等离子体。
低温等离子体广泛运用于多种等离子体发生器生产领域。
例如:等离子电视,婴儿尿布表面防水涂层,增加啤酒瓶阻隔性。
更重要的是在电脑芯片中的时刻运用,让网络时代成为现实。
高温等离子体只有在温度足够高时发生的。
恒星不断地发出这种等离子体,组成了宇宙的99%。
电浆阳极氧化
电浆阳极氧化电浆阳极氧化是一种技术,能够在金属表面形成一层坚硬的氧化膜,提高金属的耐腐蚀性和耐磨性。
该技术在多个领域都有应用,如航空航天、汽车、电子设备等。
下面将详细介绍电浆阳极氧化的原理、过程和优点。
电浆阳极氧化的原理是利用电解过程在金属表面产生氧化膜。
在该过程中,金属放置在电解槽中成为阳极,而另一电极则是阴极。
通过电流的作用,阳极金属表面将发生氧化反应,并形成均匀的氧化膜。
在电解液中,含有一定的酸性物质,如硫酸或草酸,它们能够促进氧化反应的进行。
同时,还需要控制电解液的温度、浓度和电流密度等因素,以实现理想的氧化效果。
电浆阳极氧化的过程主要包括准备金属表面、清洁处理、电解阳极处理和后处理四个步骤。
首先,金属表面需要进行准备,包括去除表面的污垢和氧化皮。
然后,进行清洁处理,以保证阳极处理的效果。
在电解处理中,金属表面会形成氧化膜,膜层的厚度和颜色取决于处理时间和电流密度。
最后,还需要进行后处理,如封膜、染色等,以增加氧化膜的耐久性和美观性。
电浆阳极氧化具有许多优点。
首先,它能够增加金属的耐腐蚀性能。
氧化膜具有一定的孔隙结构,能够阻止腐蚀物质进一步侵入金属表面,延长金属的使用寿命。
其次,电浆阳极氧化还能提高金属的硬度和耐磨性。
氧化膜具有良好的硬度和耐磨性,能够减少金属在使用过程中的磨损和划伤。
此外,电浆阳极氧化还能改善金属的表面质量和美观性。
根据处理时间和电流密度的不同,氧化膜的颜色可以有多种选择,从银白色到黑色不等,满足不同应用的需求。
电浆阳极氧化在航空航天、汽车、电子设备等领域都有广泛的应用。
在航空航天领域,该技术可以增加飞机零部件的抗腐蚀性能,提高飞行安全性。
在汽车领域,电浆阳极氧化可以保护车身和引擎零部件免受腐蚀和磨损。
在电子设备领域,电浆阳极氧化可以改善外壳的表面质量和美观度,提高产品的市场竞争力。
总而言之,电浆阳极氧化是一种重要的表面处理技术,能够提高金属的耐腐蚀性和耐磨性,广泛应用于航空航天、汽车、电子设备等领域。
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Typical Reactor (CCP)
13.56 MHz
•Sheath is formed on the substrate (Si, glass). g VDC appears on the powered electrode. •Self-bias voltage →Plasma behavior
( v⊥ is the particle velocity perpendicular to the magnetic field)
dμ/dt /dt=0 0 μ is invariant As particles move from place to place in the magnetic field, μ remains constant. Electrons are confined, leading to higher density plasma. Ex. Magnetic mirror field
Fundamental quantity
Length : λD Mass : me, mi (mi>>me ) Time : Characteristic frequency of plasma ( plasma frequency): ωpe , ωpi ωpj =(n0e2/ε0mj )1/2 j=e or i In the presence of magnetic f fields ( (cyclotron f frequency): ) ωce, ωci
Here, is the electrical conductivity tensor. Thus, kinetic theory, MHD theory (Fluid equation), orbital theory, etc. (namely, basic equation which describes plasma) are necessary to find such a relation. relation
The capacitance Th it of f th the area A and d di distance t d is i as follows: C= ε A/d. ε = ε0 for f vacuum.
Plasma is consisted of electrons and ions. Electrons and ions have separate Maxwellian distributions with different temperatures, Ti and Te. The temperature is often expressed by eV.
2) Debye length (Debye Shielding Distance) Minimum Size In case of one-dimensional one dimensional case where ions are background (ni=n0), we obtain the following Poisson equation:
5) Cyclotron motion (Gyration) in magnetic fields:The equations of motion for a charged particle in electric and magnetic fields are:
dv m q[ E (r , t ) v B(r , t )] dt dr v (t ) dt
Where the Larmor radius V⊥0: speed perpendicular to B0 Φ0: arbitrary phase
Electron cyclotron frequency and Lamor radius:
The magnetic moment μ of the particle: μ=I S=qfcπr2 =(1/2)mv⊥2/B
ne n0 exp( e / kT 1kT e) n 0( e)
Potential Φ exponentially decays as Φ= Φ0exp(-x/λD) using the following boundary conditions Φ= Φ0 at x=0 Φ=0 0 at x→ ∞ where ε0: permittivity of free space. Plasma : L>> λD
Definition of plasma
Zni=ne Z=1 for proton ni and ne is the number density of positive ions 3). and electrons (m-3 )
Continuous media
such as fluid
Dielectric
23 J/。K ) k: Boltzmann constant (1 (1.38 38 x 10-23 m: mass of particle
Density is by
Kinetic energy in one dimensional: Eav=(1/2)kT For three-dimensional: Eav=(3/2)kT
The force is the Lorentz force: F q( E w B) It cannot solve only with Maxwell equation equation. A relation with E is required:
j E
Typical yp system y using g CCP for Si film deposition p
Ch t 1 B Chapter Basic i Pl Plasma S Science i &T Technology h l 1. What is plasma ? 1 1) The definition of plasma: a group of electrically neutral charged particles. particles Zni=ne Z=1 for proton ni and ne is the number density of positive ions and electrons (m-3). In plasma for application, there are a lot of neutral particles. particles
Isothermal equation of state is: pressure P=nkT For a room temperature (297 K) K), the neutral gas density ng(cm-3) )~3 3.25 25 x 1016 p (Torr) The adiabatic equation of state is p=Cnγ
2. Maxwell equations in continuous medium S Source term t J,ρ E B XH J XE t t
D B 0
D E B H
μ: permeability μ0=4πx10-7 (H/m) for vacuum
3, λ ~0.14 T 4 eV, Te=4 V n0=10 1016 m-3 D 0 14 mm.
Sheath~(3-10) Sheath (3 10) λD
3) Continuous media We compute the number ND of particles in a Debye sphere: ND =n0(4/3)πλD 3 Criteria for plasma for collective behavior: ND >>1 This means that sufficiently many particles exist in the Debye sphere. sphere Thus, Thus plasma can be regarded as a continuous medium such as fluid. Plasma is described by (Fluid equation) +(Maxwell equation). equation)
If E E=0 0, the particle moves in a circular orbit perpendicular to the magnetic field. We take a constant magnetic field B0 to lie along z axis:
where
Plasma Production for Applications pp
Y. Kawai
Kyushu University University, Kasuga Kasuga, Fukuoka Fukuoka, Japan
0. 1. 2. 3. Introduction Basic Plasma Physics Plasma Production Applications: VHF plasma for solar cells ECR plasma l f for etching t hi
d2 e e (ni ne) [n0 n0 exp( e / kT e )] 2 dx 0 0 ~
2 D
where λD=(ε0kTe /e2n0)1/2 Debye length
Here the Boltzmann distribution