脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究

脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究
吕学超;张永彬;张厚量;任大鹏;郎定木;张延志
【期刊名称】《中国材料科技与设备》
【年(卷),期】2007(004)005
【摘要】采用脉冲激光（PLD）和磁控溅射（MS）沉积技术制备了Mo薄膜，用扫描电镜（SEM）、白光干涉仪和X射线衍射仪（XRD）分别表征了薄膜的表面形貌和组织、表面粗糙度和薄膜密度。

结果表明，PLD沉积的Mo的表面形貌受脉冲能量和基体温度的影响较大，能量越高、表面缺陷增多。

MS沉积的Mo薄膜较致密，呈典型的柱状生长行为。

PLD秽MS沉积的Mo薄膜的表面粗糙度均较好，R小于20nm。

对实验结果进行了讨论。

【总页数】3页(P67-69)
【作者】吕学超;张永彬;张厚量;任大鹏;郎定木;张延志
【作者单位】表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳621900
【正文语种】中文
【中图分类】TB43
【相关文献】
1.脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究 [J], 吕学超;张永彬;张厚量;任大鹏;郎定木;张延志
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