【CN110004420A】一种靶材制备方法【专利】

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910254092.9

(22)申请日 2019.03.31

(71)申请人 柳州呈奥科技有限公司

地址 545616 广西壮族自治区柳州市官塘

大道52号

(72)发明人 黎品英　谢元鸣　梁莉丝　

(74)专利代理机构 广州凯东知识产权代理有限

公司 44259

代理人 李勤辉

(51)Int.Cl.

C23C 14/35(2006.01)

(54)发明名称

一种靶材制备方法

(57)摘要

本发明公开了一种靶材制备方法，该靶材制

备方法包括以下步骤：清洗原料，对清洗完成的

靶材进行热处理，对具有一定形状的靶材进行冷

等静压作业，对其常温升压，并且保持8-15min

后，并且采用顶电极不加持的方式进行退火处理

去除靶材表面压力；将处理后的靶材放置在磁控

溅射的样品台上，在靶材底部通入氩气，对其进

行预溅射，再通入高纯氩气和氧气的混合气体，

对其进行溅射，最终制得靶材；本发明所述的一

种靶材制备方法，靶材质量得到提高，可以保证

不同铝靶材之间晶粒大小的均一性，可以提高了

生产效率，降低了生产成本，同时制得的靶材纯

度高、致密性好、成膜均匀性好；操作工艺简单、

能耗低、无污染且易于实现工业化，具有很好的

应用前景。权利要求书1页 说明书3页CN 110004420 A 2019.07.12

C N 110004420

A

权　利　要　求　书1/1页CN 110004420 A

1.一种靶材制备方法，其特征在于，该靶材制备方法包括以下步骤：

步骤一、清洗原料，对靶材原料进行清洗，用喷枪除去靶材原料表面的灰尘和污垢；

步骤二、对清洗完成的靶材进行热处理，经过热处理后，将靶材放置冷藏密封容器中冷藏30-50min,保持靶材温度在160-180℃之间，随后取出降温后的靶材对其进行锻打形成靶材胚料，将靶材锻打形成靶材胚料靶材进行第二次热处理，热处理时间为1-2h,最终形成具有一定形状的靶材；

步骤三、对步骤二中具有一定形状的靶材进行冷等静压作业，对其常温升压，并且保持8-15min后，并且采用顶电极不加持的方式进行退火处理去除靶材表面压力；

步骤四、将处理后的靶材放置在磁控溅射的样品台上，在靶材底部通入氩气，对其进行预溅射，再通入高纯氩气和氧气的混合气体，对其进行溅射，最终制得靶材。

2.根据权利要求1所述的一种靶材制备方法，其特征在于：靶材原料的电阻小于0.6Ω，其中靶材内银含量为30%，且靶材粉末体积电阻率小于2×10-3Ωcm。

3.根据权利要求1所述的一种靶材制备方法，其特征在于：所述靶材基距为60-100mm，工作气压0.3-0.9Pa。

4.根据权利要求1所述的一种靶材制备方法，其特征在于：所述预溅射时间不少于6min，溅射时间为40-80min。

5.根据权利要求1所述的一种靶材制备方法的制备工艺，其特征在于：靶材溅射功率60-90W，靶材基底温度为120℃。

6.根据权利要求1所述的一种靶材制备方法，其特征在于：步骤三中退火处理时注入氮气，且其加热温度为500-750℃，保温时间为20-30s。

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