超高真空系统

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物理实验技术中的超高真空环境的操作与维护指南

物理实验技术中的超高真空环境的操作与维护指南

物理实验技术中的超高真空环境的操作与维护指南简介超高真空(Ultra-high vacuum,简称UHV)是物理实验中常用的一种环境,在这个环境下能够有效地消除气体分子、灰尘颗粒等对实验的干扰,因此在许多实验中都需要使用超高真空环境。

本文将介绍在物理实验中的超高真空环境的操作与维护指南,以帮助实验人员正确使用和维护超高真空设备。

一、超高真空的概念与特点超高真空是指气压低于10^-9帕的真空环境,这样的低压环境能够有效地去除大部分气体分子、灰尘颗粒等杂质,从而提供一个高纯度、无干扰的实验环境。

在超高真空环境下,气体分子的平均自由程很长,因此相互碰撞的几率极低,使得实验结果更加准确可靠。

二、超高真空环境的建立与维护要点1. 净化气源:在建立超高真空环境前,需对气源进行净化处理,包括过滤除尘、冷凝等步骤,以确保进入真空系统的气体纯净无杂质。

2. 泵系统选择:超高真空环境需要使用高效的真空泵系统,常见的有离心泵、分子泵等。

根据实验需求和实验设备的要求,选择适当的泵系统,并定期检查和维护泵系统的工作状态。

3. 气体排放控制:在实验过程中,会产生大量气体排放,需通过气体排放系统将其排至合适的位置,防止气体污染实验环境。

4. 清洁与维护:超高真空设备要保持干净整洁,避免灰尘、油污等杂质的进入。

定期清洗设备表面,并确保材料的良好密封,以保持超高真空环境的稳定。

三、超高真空设备的操作技巧1. 确保气密性:超高真空设备的密封性非常重要,因此在操作过程中要注意确保所有连接部分的严密性,避免气体泄漏。

2. 预热设备:在使用前,需对设备进行预热处理,以去除残留的气体和水分,防止对实验结果的干扰。

3. 操作稳定性:在超高真空环境下,操作需尽量保持稳定,并避免过快或过慢的操作,以免引起设备损坏或实验结果的不准确。

4. 压力监控:定期监测超高真空系统的压力,根据实验要求调整和维持恰当的压力范围,以确保实验的顺利进行。

四、常见问题与解决方法1. 气体泄漏:当发现超高真空系统的泄漏,首先需要使用泄漏检测仪器定位泄漏位置,然后采取适当补救措施,如更换密封件、修复漏点等。

物理实验技术中的超高真空环境的操作与维护指南的泄露问题与解决方法

物理实验技术中的超高真空环境的操作与维护指南的泄露问题与解决方法

物理实验技术中的超高真空环境的操作与维护指南的泄露问题与解决方法近年来,超高真空技术在物理实验中得到了广泛应用,为研究者提供了一个接近真空的环境来进行实验研究,尤其在材料科学、表面科学和纳米技术等领域中有着重要的应用。

然而,在超高真空环境的操作与维护中,泄露问题一直是一个困扰研究人员的难题。

泄露问题可能导致实验结果的不准确性甚至失效,因此,在超高真空实验中,保持良好的气密性非常重要。

下面,我将介绍一些超高真空环境中常见的泄露问题及其解决方法。

首先,超高真空环境中常见的泄露问题主要有两种类型:漏气泄露和吸气泄露。

漏气泄露是指真空系统中的气体通过封闭部分的缝隙或孔洞逸出,导致真空度下降。

常见的漏气泄露原因包括密封不严、连接装置损坏、管道老化、材料疲劳等。

解决漏气泄露问题的方法包括更换密封件、修复或更换连接装置、更换老化的管道和材料等。

此外,定期进行检测和维护也是预防漏气泄露问题的关键。

吸气泄露是指真空系统中的气体通过壁材、装置表面等逸出导致真空度下降。

常见的吸气泄露原因包括材料脱气、表面吸附、阀门或管路的开启等。

解决吸气泄露问题的方法包括选择低脱气材料、采用表面处理技术(如氧化、氮化等)、正确关闭阀门和管路等。

此外,定期清理和保养真空系统的内部设备也是保持超高真空度的关键。

除了漏气泄露和吸气泄露外,超高真空环境中还会遇到其他影响实验结果的问题,例如磁场泄露、辐射泄露等。

对于这些问题,合理设计真空系统的结构,选用合适的材料和设备,以及严格执行操作规程都是重要的解决方法。

在实验操作中,研究人员应注重以下几点以减少泄露问题的发生:首先,选择合适的封闭装置和材料。

封闭装置的密封性能和材料的气体扩散性对超高真空度至关重要。

因此,在使用超高真空系统前,必须对封闭装置进行严密性测试,并选择低脱气材料。

其次,正确操作真空系统。

操作人员应按照操作规程进行实验,严禁不当打开或关闭阀门,避免对真空系统产生负面影响。

此外,实验过程中要避免剧烈震动和强氧化性气体的使用,以免损坏真空系统。

超高真空工作原理

超高真空工作原理

超高真空工作原理超高真空是指在约10^-6 Pa以下的极低气压下进行工作的一种状态。

在超高真空条件下,气体分子数非常稀少,气体压强几乎可以忽略不计,因此可以排除气体分子对实验、设备或工艺产生的影响,从而实现一些特殊的研究或应用。

超高真空工作原理主要包括两个方面的内容:真空的获得和维持、以及真空环境下的物理与化学性质。

一、真空的获得和维持在超高真空条件下,空气中的气压要远低于常压状态。

真空技术通常采用以下几种方式来实现超高真空获得和维持。

1. 抽气装置与泵浦技术真空系统中常使用抽气装置和泵浦技术来实现气体的抽除,从而降低气压。

常见的抽气装置包括机械泵、分子泵、离心泵等。

机械泵通过机械方式抽出大部分气体,分子泵则利用高速分子碰撞将气体分子抽出,离心泵则通过离心力将气体分子抽走。

这些泵浦技术的结合使用可以有效降低气压,实现真空。

2. 清洁和封闭系统超高真空要求系统的密封性非常好,以防止气体的泄漏。

因此,在真空系统设计和使用过程中,要注重材料的选择和处理,以及对系统的清洁和封闭工作的重视。

采用合适的材料可以防止气体穿透,并且经过良好的清洁和密封处理,可以减少气体泄露的可能性。

3. 辅助技术超高真空环境下,还需要一些辅助技术来维持真空的状态。

例如,加热技术可以通过加热材料驱除吸附在材料表面的气体分子;冷却技术可以将气体分子凝结或冷却到低温状态,进一步降低气压。

此外,还有灌注技术、气体慢泄技术等可以实现维持超高真空状态的辅助方法。

二、超高真空工况下物理与化学性质超高真空环境下,气体分子的数量非常稀少,因此气体分子间的相互作用相对较小,有许多特殊的物理和化学性质。

1. 到达平衡状态的时间延长在超高真空条件下,气体分子间的碰撞次数减少,相应的平衡状态的达到时间相对较长。

这使得部分实验需要更长的时间来进行,一些研究也因此变得更加复杂,需要更加耐心的探索和实验。

2. 电子运动的特殊性在超高真空环境下,电子受到气体分子的碰撞相对减少,其自由程增大,因此电子的运动更稳定、更顺畅。

真空系统的组成

真空系统的组成






(1)启动油封机械泵时,首先要保证转自运动方向正确,而且油位合 乎要求。 (2)油封机械泵停止后,应立即将机械泵入口通大气,防止因压差使 泵腔内的泵油进入到系统中 (3)不要用机械泵吧高真空室直接抽至低于13Pa的压强,否则机械泵 的油蒸汽会进入发哦高真空室内。因为在压强低于13Pa时会出现分子流 流态,有蒸汽分子将返流到真空室内而造成污染。如果在机械泵与真空 室之间设有冷凝捕集阱,则允许机械泵抽到13Pa一下的压强,此时补集 阱可防止油蒸汽返流进入到真空室内。 (4)不要使油封机械泵在大气压强下或较高压强下连续长时间工作, 否则点机会过热,而且泵会出现喷出油雾现象。 (5)在扩散泵通大气之前,应将泵油冷却到油的安全温度,防止高温 下泵油出现氧化现象。 (6)蒸汽流泵在加热之前,应先供给冷却水。该泵应该配备热保护继 电器,当发生停水事件时,能立即使加热器断电,并关闭泵入口阀门防 止泵液因温度过高而恶化和返流污染真空室。


(1)预抽泵。预抽泵(初抽泵)主要用来抽出真空室内的大量气体, 使真空室内的气体压力由大气压力降到主泵能够启动工作时的真空度, 因此,要求预抽泵所达到的压力小于主泵的启动工作压力,机组所选 用预抽泵的抽速大小由粗抽时间决定。为了提高真空机组的利用率, 预抽泵可以兼做前级泵用,两种不同抽气功能直接靠真空阀门来分隔 和切换。 (2)维持泵。由于扩散泵和油增压泵启动时间长,在周期性操作的真 空设备中,当真空室装料和卸料的时候,往往为了缩短工作周期而不 停止主泵,将高真空阀门和前几级管道阀门关闭,使主泵仍处于工作 状态。由于阀门等总是有极少量的漏气和表面放气,经过一定时间主 泵腔内的压强增加,超过泵工作液的最大允许压强而使泵油蒸汽氧化。 为了解决这个问题,一个办法是用前级泵继续抽出主泵中的气体,但 此时主泵内排除的气体量很小,出现前级泵大马拉小马,浪费能量。 为此可采用另一个办法,停止前级泵工作,关闭前级泵管道阀门,在 主泵出口处设置维持泵或贮气罐,这样就可以保证技能排除主泵内的 气体,又可以节省能源消耗。贮气罐不能做的很大,他只能用在以扩 散泵为主泵的小型真空机组上。而维持泵可用在配置大型主泵的真空 机组中

真空系统的组成.

真空系统的组成.

常用机组形式


图为有挡油阱的低真空 机组。双击水环泵和大 气喷射泵串联组成的机 组极限压力1300Pa。工 作时,先开动水环泵, 以获得大气喷射泵所需 的预压力,使大气喷射 泵的进气口与出气口之 间有压力差,大气便通 过喷射进入泵内形成高 速运动气流,将被抽气 体吸入,经扩压器被水 环泵排走。 该机组适用于真空蒸 发、真空浓缩、真空浸 渍、真空干燥、真空冷 冻等工艺过程
(3)高真空抽气机组

高真空抽气机组工作于分子流状态下,与低真空机组相比, 其特点是工作压力较低(10-2~10-6Pa)、排气量小、抽速 大、机组的主泵通常为扩散泵、扩散增压泵、分子泵、钛 升华泵、低温冷凝泵等。这些泵不能直接对大气工作,因 此需要配置与丑泵和前级泵,有些扩散泵高真空抽气机组 还配有前几维持泵或贮气罐,以防止气压波动,改善机组 性能。

油封机械泵机组抽出可凝性气体的措施


油封机械泵机组不适于抽出含有大量水蒸气的气体。水蒸 气在压缩过程中会凝结成水滴,并与泵油混合形成悬浮液, 破坏泵的抽气性能,使泵的真空度下降。 一般采取的措施有:使用带有气镇装置的油封机械泵那个, 并使泵的工作温度控制在75~90℃之间,以减少气镇阀负 担;在机组中安装水气分离器或油水分离装置,将混有水 的机械泵油进行处理,处理过的油再进入泵中使用;使用 各种干燥吸附剂做成补集阱吸收水蒸气;使用各种冷凝器 或冷阱,不仅能有效的吸附水蒸气,同时还可阻挡机械泵 向真空室的反流。
1、粗真空系统(工作压力大于1330Pa);2、低真空系统(工作压 力在1330~0.13Pa);3、高真空系统(工作压力在0.13~1.3×106Pa);4、超高真空系统(工作压力在1.3×10-6~1.3×10-10Pa);5、 极高真空系统(工作压力低于1.3×10-10Pa)。

超高真空条件下的物理实验技术使用指南

超高真空条件下的物理实验技术使用指南

超高真空条件下的物理实验技术使用指南导语:超高真空条件下的物理实验是一项重要而复杂的技术,其影响着物理学、材料科学和纳米技术等领域的发展。

为了帮助实验人员更好地掌握这一技术,本文将以指南的形式详细介绍超高真空条件下的物理实验技术的使用方法和注意事项。

一、超高真空的概念超高真空是指在10^-9毫巴以下的极低气压环境中进行实验。

在这种条件下,气体分子的数量相对较少,避免了气体分子和实验样品之间的相互作用,为各种实验提供了稳定的环境。

1.真空系统的构成超高真空系统主要由抽气系统、封闭系统、真空度检测系统和实验样品系统组成。

抽气系统通过机械泵、分子泵等将气体排出系统,保证系统的低气压环境。

封闭系统则通过气阀等装置,控制系统与外界的气体交换。

真空度检测系统则可实时监测系统内的气体压力。

实验样品系统则是进行实验的关键部分。

2.真空度的控制与维持为了保证超高真空条件下的实验,必须对真空度进行控制与维持。

首先,抽气系统的选择和操作要合理,可以根据实验需求选择合适的泵,并合理操作,避免泵腔被大量气体污染。

其次,封闭系统的操作也至关重要,需要经常检查气阀和密封装置的状态,并保持严密封闭,避免气体泄漏。

最后,定期检查真空度检测系统的准确性,及时校准。

二、超高真空下的实验样品处理在超高真空条件下,实验样品的处理是决定实验成功的重要因素。

1.实验样品的准备首先,实验样品需要充分清洗,确保表面干净无污染物。

其次,样品的尺寸和形状需满足实验要求,例如需要进行局部加热实验时,可选择薄膜或纳米材料。

2.样品的放置与加热在放置实验样品时,要注意避免与容器壁、夹持装置等接触,以免产生不必要的对流。

同时,合理的加热装置的选择和放置也是超高真空实验的关键。

绝热固定装置等可以用来实现样品的局部或全局加热。

三、超高真空下的实验技术1.表面吸附及脱附超高真空条件下的表面吸附现象对实验的影响巨大。

因此,衡量和控制表面吸附是超高真空实验的一个重要技术。

超高真空简介

超高真空简介

超高真空简介1.1稀薄气体的基本性质真空就是指给定空间内气体的密度小于标准大气压所对应气体密度的状态。

在稀薄气体情况下,分子间的平均自由程很大,分子间的相互作用完全可以忽略,可以应用各种理想气体的定律。

气体密度与真空度成反比,气体密度减小后会出现很多有用的性质。

比如减少带电粒子在电场、电磁场或磁场作用下运动的碰撞损失;延长固体表面沉积气体分子层的时间,进而研究清洁表面和测定气体层的作用;气体化学活泼度有所降低,有利于贮存活性金属和应用其特性;改变大气压下靠分子间相互作用发生的物理过程,当气体的密度减小到分子之间相互作用不再是输运的主要原因后,物理过程就发生极大变化。

这种特定的真空状态与人类赖以生存的大气状态相比较,主要有如下几个基本特点:(1)真空状态下的气体压力低于一个大气压,因此,处于地球表面上的各种真空容器中,必将受到大气压力的作用,其压强差的大小由容器内外的压差值而定。

由于作用在地球表面上的一个大气压约为10135N/m 2,因此当容器内压力很小时,则容器所承受的大气压力可达到一个大气压。

不同压强下单位面积上的作用力。

(2)真空状态下由于气体稀薄,单位体积内的气体分子数,即气体的分子密度小于大气压下的气体分子密度。

因此,分子与分子之间、分子与其他的质点(如电子、离子等)之间及分子与各种表面(如器壁)之间的相互碰撞次数相对减少,使得气体的分子自由程变大。

(3)真空状态下由于分子密度的减小,因此做为组成大气组分的氧、氢等气体含量(也包括水分的含量)也将旧对减少。

1.2超高真空的应用超高真空(以下 ar m 109B )超高真空的用途主要有两个。

用途一是可以先抽至超高真空再充气来得到纯净气体,这方面最有关系的是可控热核聚变反应。

用途二是可以得到纯净的固体表面,来进行表面物理的研究。

1.3 超高真空的发展前景与问题随着科学技术的发展、特别是近年来计算机和微电子学、生物工程、材料科学、表面科学、航夭和航海工程等高技术科学的发展,对真空科学要求越来越高。

超高真空系统的使用技巧

超高真空系统的使用技巧

超高真空系统的使用技巧超高真空(UHV)系统是一种在实验室研究和工业生产中广泛使用的高度精密的系统。

它的主要特点是在其内部保持非常低的气压,通常为10的负9次方巴。

这种极低的气压可以提供一个几乎没有气体分子的环境,以便进行各种实验和制造过程。

然而,要成功地工作在UHV系统中并取得准确和可重复的结果,并不是一件容易的事。

本文将介绍一些使用UHV系统的技巧,以帮助研究人员和工程师在其工作中获得最佳的结果。

首先,了解和掌握UHV系统的基本构成部分是非常重要的。

这些部分包括真空室、泵和材料处理设备。

真空室是一个密封的容器,用于容纳实验或制造过程。

泵是用于排除真空室中的气体和水蒸汽的装置。

材料处理设备是用于制备样品或产生特定反应的设备。

在操作UHV系统之前,必须对每个组件的功能和使用方法有一个清晰的理解。

这样,当问题出现时,可以更容易地进行故障排除和维修。

其次,正确的泵操作和有效的泵处理是实现高真空环境的关键。

在UHV系统中使用的常见泵类型包括机械泵、扩散泵和离子泵。

机械泵通常用于最初的大气抽真空操作,而扩散泵和离子泵用于获得更高的真空。

在操作这些泵时,关键是要确保它们是清洁和密封的。

定期检查和维护泵的各个部分,如清洗和更换密封件,可以最大程度地减少漏气并提高泵的效率。

第三,注意气体和水蒸汽的控制是非常重要的。

即使在UHV系统中,仍然可能存在少量气体和水蒸汽。

这些杂质会干扰实验和制造过程,并降低UHV系统的性能。

因此,使用气体和水蒸汽控制设备,如气体分子过滤器和储气罐,可以有效地减少这些杂质的影响。

此外,定期清洁和检查系统管道和接口,可以预防气体和水蒸汽的泄漏。

第四,了解和应用合适的材料是成功操作UHV系统的关键。

UHV系统中使用的材料必须具有良好的真空兼容性和低气体释放率。

常见的真空兼容材料包括不锈钢、镍合金、石英和陶瓷。

使用这些材料可以减少杂质的释放,并确保系统的长期稳定性。

此外,还有一些特殊材料,如金属有机化合物和多层膜,可以提供更高级别的真空,并保护系统免受氧化和污染。

超高真空技术工作原理

超高真空技术工作原理

超高真空技术工作原理超高真空技术是一种在极低压力环境下实现材料表面、气体或液体中的无空气存在的技术。

它在许多领域中得到广泛应用,包括微电子、光电子、材料科学、空间技术等。

本文将详细介绍超高真空技术的工作原理。

一、超高真空技术概述超高真空技术是通过减少气体分子数密度来实现真空状态。

在超高真空环境中,气体分子的平均自由程远大于真空室尺寸,从而减少气体分子与物体表面的碰撞和吸附过程,达到减少杂质、提高纯度、防止氧化和腐蚀等目的。

二、超高真空技术的基本原理1. 抽气系统超高真空技术的关键在于有效地抽取气体分子。

这通常通过真空泵和各种辅助设备实现。

真空泵常用的有机械泵、扩散泵、离子泵和吸附泵等。

这些泵可以协同工作,形成一种有效的抽气系统,将气体从真空室中抽出。

2. 杂质处理除了通过抽气系统将气体抽出外,还需要对积附在表面的气体和气体分子进行清除,以达到更高的真空度。

这可以通过加热、电弧灼烧、电子轰击、化学反应和物理吸附等方式实现。

杂质处理的方法选择取决于所需的真空度和材料的特性。

3. 密封系统超高真空技术中的密封系统对于有效保持真空度至关重要。

它通常由法兰、密封垫和紧固件组成。

在超高真空环境中,密封系统必须耐受气压力差和温度变化,以保证系统的稳定性和安全性。

三、超高真空技术的应用领域1. 微电子领域超高真空技术在微电子领域扮演着重要角色。

在半导体器件的制造过程中,超高真空能够提供一个无尘、无气的环境,有效降低杂质的含量,提高器件的性能和可靠性。

2. 光电子领域光电子领域需要高纯度的材料和干净的表面。

超高真空技术可以用于薄膜沉积、材料表面处理和光学元件制造等方面,确保材料的高纯度和光学性能。

3. 材料科学领域超高真空技术在材料科学研究中起着重要作用。

通过控制真空状态下材料表面的物理和化学特性,研究人员可以对材料进行改性、表面处理和纳米尺度的制备和研究。

4. 空间技术领域在航天器的设计和制造过程中,超高真空技术可以有效地降低材料的重量、阻尼热扩散、减少腐蚀和气体释放等问题,提高航天器的性能和可靠性。

超高真空技术原理及其应用研究

超高真空技术原理及其应用研究

超高真空技术原理及其应用研究超高真空技术(Ultra-High Vacuum,简称UHV)是指在10的负10次方帕(Pa)以下的高真空范围内进行科学研究和工程应用的一项重要技术。

该技术具有广泛的应用领域,包括材料科学、能源、电子器件、航空航天等。

本文将详细探讨超高真空技术的原理以及其在各领域中的应用研究。

一、超高真空技术原理超高真空技术的实现主要依赖于以下原理:1. 捕集技术超高真空系统中常用的捕集技术主要包括冷阱捕集、化学捕集和物理捕集。

其中,冷阱捕集是指通过降低温度使气体冷凝在表面上,实现气体分离的技术。

化学捕集则是利用化学反应将气体转化为易于捕集的化合物,而物理捕集则是通过吸附、扩散等方式进行。

这些捕集技术的结合使用有效地降低了系统中的气体压力。

2. 泵技术超高真空系统中常用的泵技术主要有机械泵、扩散泵和离子泵。

机械泵是通过机械运动将气体抽出的设备,扩散泵利用分子的扩散作用将气体抽出,而离子泵则是通过电场和磁场的作用将气体离子抽出。

这些泵技术的协同工作能够将气体压力进一步降低,达到超高真空条件。

3. 无气漂移无气漂移是指在超高真空系统中通过远离气体来源,减少气体扩散和漂移到研究对象的方式。

常用的措施有密封、隔离和屏蔽等。

二、超高真空技术的应用研究超高真空技术在各领域的应用研究具有重要意义。

1. 材料科学在材料科学领域,超高真空技术可用于材料的成分分析、表面形貌研究以及材料的生长和薄膜沉积等方面。

通过使用超高真空系统,可以减少外界杂质对材料性质的干扰,研究材料的内禀性质,实现高质量材料的制备。

2. 能源在能源领域,超高真空技术可以用于核聚变等相关研究。

核聚变是一种清洁高效的能源形式,而超高真空技术则能够提供理想的条件来研究和实现核聚变反应。

通过控制超高真空系统中的压力和温度等参数,科学家们可以更好地理解和掌握核聚变的原理和机制。

3. 电子器件在电子器件领域,超高真空技术可用于半导体器件的制造和表征等方面。

超高真空系统的设计与组装

超高真空系统的设计与组装

超高真空系统的设计与组装1.1 超高真空靶室及管道的设计真空系统的结构设计主要考虑密封可靠,结构合理,材料对真空度影响要小在设计的时候我们考虑到了真空部件气密性质量,所以我们尽量选择用国家标准中的无缝钢管和板材,但是许多的系统元件又离不开焊接结构,所以我们尽量选择了焊接性能较好的钢材。

而为了保证焊接后焊缝不透气,保证后期的气源固定,也为了清洗简单在设计焊接结构的时候也要注意避免处于真空中的焊缝中有积存污物的空隙在选材的时候要尽量选择一些表面粗糙度较大的,这样也会减少表面放气。

而为了要保证抽气速度足够快,就要避免出现隔离空穴,因为如果出现了隔离空穴它就会成为一个缓慢放气的源泉。

真空系统上的各元件之间多是用法兰连接。

然而法兰与管子之间是用焊接结构。

因为焊接的时候容易引起法兰的变形,所以目前我们国内一般都采用焊接之后再对法兰进行加工处理,这样即可达到尺寸和粗糙度上的要求,又可以保证两个法兰连接的密封可靠。

而对于某些必须要处于较高温度工作的真空橡胶密封圈,因为橡胶的耐温有限,所以可以专门加一个水冷结构来加以保护。

又为了让真空系统元件壳体与真空室壳体有足够的强度,保证它们在内力和外力的作用下不会产生变形,其器壁要有一定的厚度。

而实验表明真空容器采用圆形的结构较好。

端盖采用凸形的结构为好尽量不要采用平盖,因为其抗压能力相差很大。

而壁厚已经有了标准尽寸,当然也可以计算出来。

设计的时候还要注意,在容器检漏的时候,如果是采用内部打压法,一般打入三个大气压力容器不应该变形。

水套检漏的时候也按照三个压力打压。

即有水套的壳体在外部或者内部打入三个大气压力下,都不应该变形。

而为了保证由外面进入真空室内的移动件或者转动件有可靠的动密封。

除了要选择好的密封结构之外,其中的轴或者杆也一定要满足粗糙度的要求。

更要防止在轴和杆上存在轴向的划痕,因为这种划痕会降低真空度,且不容易发现。

真空室的壳体上的水套结构,不仅要保证水流的畅通无阻。

真空系统的分类

真空系统的分类

真空系统的分类真空系统可以根据其工作压力范围进行分类,主要包括以下几种:1.低真空系统:这种系统的极限真空度在低真空范围内,通常只需用机械泵给真空室排气,系统相对简单。

2.中真空系统:这种系统的工作压强范围通常在1.333-3×102 Pa之间,应用比较普遍,许多应用设备如自耗炉真空系统、感应炉真空系统、热处理炉真空系统等都采用这种系统。

中真空系统一般是由两个以上的泵串联组成的。

3.高真空系统:高真空系统的工作压强范围通常在6.67×10-2-1.33×10-3 Pa之间,应用也比较广泛,如镀膜机、电子轰击炉和部分电阻炉等都采用高真空系统。

4.超高真空系统:超高真空主要用于表面研究、热核反应、高能加速器、半导体研究、空间模拟等科学领域中。

由于这些现代科学技术发展的需要,大大促进了超高真空技术的发展,目前超高真空实用真空度已达到10-12 Pa。

此外,真空系统还可以根据使用的泵的类型进行分类,主要包括以下几种:1.机械泵系统:这是实验室中最常见的真空系统之一,由一个机械泵和一些附属设备组成,可以将大气压力的空气排出,形成低压或高真空。

这种系统结构简单、使用方便、价格较低,常用于一些温和条件下的真空实验。

2.扩散泵系统:在扩散泵系统中,气体经过一个热扩散器被排出真空室。

这种系统有比机械泵更高的抽气速度,可以实现较高真空,但是设备比较复杂,需要不断补充工质。

3.离子泵系统:离子泵系统利用电场加速离子,并通过静电作用把气体气体分子排出真空室。

由于离子泵不能减压到大气压以下的真空度,常常要和机械泵等其他泵系统组合使用。

离子泵系统适用于需要较高真空度的实验室应用。

4.分子泵系统:分子泵系统可将气体分子从表面排出,从而实现非常高的真空度。

这种系统由一个分子泵和附属设备组成,能够实现超高真空环境,但是需要进行高度维护和清洁,防止污染气体。

超高真空系统的泄漏处理方法总结

超高真空系统的泄漏处理方法总结

超高真空系统的泄漏处理方法总结超高真空系统是一种非常重要且广泛应用于科学研究和工业生产中的技术。

它的主要特点是在系统中维持极低的气体压力,尽量排除各种杂质气体对实验结果或工艺品质的影响。

然而,由于各种原因,超高真空系统中的泄漏问题时常存在。

本文将对超高真空系统的泄漏处理方法进行总结,循序渐进地介绍常见的泄漏处理技术。

首先,当发现超高真空系统存在泄漏问题时,最为常见的处理方法是通过仔细检查系统中的密封件。

因为密封件的质量直接影响系统的密封性能,一旦密封失效,泄漏问题就会出现。

在处理密封件泄漏时,可以采用以下方法:1. 替换密封件:如果发现某个密封件泄漏,最简单的方法就是替换它。

可以根据实际情况选择不同材质和形状的密封件,确保其与系统的匹配性和密封性。

2. 补漏处理:有时候,即使密封件泄漏,也可以通过补漏来解决问题。

常见的补漏方法包括使用密封胶、涂覆密封材料等。

这些方法可以临时修复泄漏问题,但需要定期检查和维护。

除了密封件的处理外,还有一些其他的泄漏处理方法:1. 泄漏检测:在处理泄漏问题之前,首先需要对泄漏点进行定位和检测。

常用的泄漏检测方法包括干燥气体法、贴膜法和氦检漏法等。

通过检测可以确定泄漏的位置和程度,为后续的处理提供指导和依据。

2. 确定处理方法:根据泄漏的位置和程度,可以选择不同的处理方法。

有时候,只需要简单地紧固螺丝或调节阀门就能解决问题;而对于较大的泄漏,可能需要更复杂的处理方法,例如焊接或更换管路。

3. 泄漏预防:在处理好泄漏问题之后,为了确保系统能够长期保持超高真空状态,预防泄漏尤为重要。

可以通过定期检查和维护系统,对密封件进行更换和补漏处理,加强仪器设备的保养等措施,有效防止泄漏的再次发生。

总之,超高真空系统的泄漏处理方法多种多样,根据具体情况选择合适的方法进行处理是关键。

通过仔细检查密封件,采取替换或补漏的方式修复泄漏是最常见的处理方法;而泄漏的检测、定位和预防也是保持超高真空状态的重要手段。

超高真空室的设计与搭建

超高真空室的设计与搭建

超高真空室的设计与搭建超高真空室(Ultra-High Vacuum Chamber)是一种能够实现极低气压环境并保持长时间的封闭空间。

这样的真空环境在许多科学研究领域中起着重要作用,如物理学、材料科学和空气动力学等。

本文将探讨超高真空室的设计与搭建。

首先,设计超高真空室需要考虑的关键因素之一是材料的选择。

由于超高真空环境中存在极低的气压,因此材料的气密性至关重要。

常见的选择是不锈钢,它具有良好的密封性和耐腐蚀性能。

此外,为了减少气体残留和气体释放,内壁的表面粗糙度也需要控制在较低水平。

接下来,我们需要考虑真空系统的设计。

真空系统是超高真空室的关键组成部分,保证了控制气压的能力。

通常,真空系统由几个主要组件组成:真空泵、气缸、真空计和阀门。

通过调整这些组件的配置和参数,可以实现不同范围的气压控制。

在搭建超高真空室时,气密性的保证至关重要。

封闭室的连接部分需要使用专门的密封件和密封胶来确保空气无法渗透。

此外,各种管道和接头的表面光洁度也需要保持一致,以减少气体残留和附着。

为了获得更高的真空度,超高真空室通常需要进行泵气。

这是通过使用真空泵来排出室内的气体,进一步降低气压。

常见的真空泵包括扩散泵、离心泵和螺杆泵等。

与选择合适的泵相配套,还需要安装多级涡轮分子泵和离子泵,以提高抽气速率和真空度。

除了上述的组件和设备,超高真空室还需要考虑温度控制和抗振设备。

温度控制对于一些研究领域的实验非常关键,因为材料和样品的性质可能会随温度的变化而改变。

因此,需要使用恒温器以保持一定的温度范围。

另外,超高真空室也需要采取抗震措施,以防止外界振动对实验结果的干扰。

在设计和搭建超高真空室的过程中,安全性也是非常重要的。

气体爆炸和泄漏可能会造成严重的伤害,因此必须遵循相应的安全规定和操作程序。

此外,在操作超高真空室时,也需要经过专门的培训,了解如何正确使用和维护设备。

总之,超高真空室的设计与搭建需要综合考虑多个方面的因素。

Series 937B超高真空仪器系统说明书

Series 937B超高真空仪器系统说明书

UHV Vacuum Gauges for Accelerator PhysicsT he Series 937B combination vacuum gauge system is partof the family of vacuum gauges, and will operate as many as six sensors simultaneously. Every controller is configured tothe user’s exact requirements by selecting sensor type. Unitsof pressure are user configurable, in Torr, millibar, Pascal or microns. RS232 and RS485 are standard on the 937B, with Profibus as an option.Series 937 ControllerThe 937B controller is designed for versatility, reliability and economy. The large, easy to read, backlit liquid crystal display provides readout for up to six sensors. Intuitive menus and simple push button front panel, allows for ease in setup of the 937B. The 937B allows the use of any sensor card in any card slot.When used with the available dual convection card, the controller can display up to a maximum of six pressure inputs. Typical HEP configurations include two cold cathode cards with a dual convection card to provide simultaneous display and control of four pressure inputs.Fast Response OptionFor applications requiring a fast response, for example valve interlocks, the 937B can be configured with a fast response cold cathode card that has an opto-isolated output. This output responds to pressure changes in less than 10 msec. A typical application would be at a synchrotron light source where the fast response option is used in conjunction with a cold cathode sensor installed on a beamline front end. In the event of a sudden pressure rise in a beamline, the fast response output is used to close an isolation valve while protecting the storage ring from possible damage.317 Bakeable Convection Pirani SensorWith a measurement range from atmospheric pressure to 1.0x 10-3 Torr, the 317 can be used to control the ignition of acold cathode sensor when used in conjunction with the 937B. With the electronic module removed, the sensor is bakeableto 250°C. The electronics slide off the sensor housing after removing two screws and remain attached to the cable. The sensor is radiation resistant making it an ideal choice for high pressure measurements and interlocks on particle accelerators. 422 Cold Cathode SensorThe internal design of the 422 has been carefully constructed using only materials suitable for UHV conditions. Combined with Inverted Magnetron technology, this sensor has the capability of measuring down to 1 x 10-11 Torr.The 422 Cold Cathode Sensor incorporates LEMO connectors, these connectors use PEEK for the insulators which allows a sensor to be both bakeable and radiation resistant. Maximum bakeout temperature is 250°C while operating. In addition, MKS offers cables that are bakeable and radiation resistant (no Teflon). 422 Inverted Magnetron Measurement CircuitThe IMG Measurement Circuits offer a dual feedthrough design instead of single feedthrough. The disadvantage ofa single feedthrough design is that it measures all currents including unwanted currents, such as cable leakage. MKS’s dual feedthrough design measures only the gauge current. This is especially important when measuring extremely small ion currents. This ensures the best accuracy and repeatability under UHV conditions and permits reliable measurement into the 10-11Torr decade.Series 422 Cold Cathode SensorCross-section of a modern inverted magnetron Cold Cathode showing theMKS Dual feedthrough designCold Cathode SchematicsCircuit comparison between single and dual feedthrough designs used onCold Cathode Sensors937B Dimensional DrawingNote: Dimensions are nominal values in inches (mm referenced).SpecificationsOrdering Information* RS232/485 provided in base configurationSample part number: 937B-US-CCCCCT -NA.Also available with optional Dual Capacitance Manometer Card.+1-978-645-5500 I +1-800-227-8766MKS products provided subject to the US Export Regulations. Export, re-export, diversion or transfer contrary to US law (and local country law) is prohibited.MKS products provided subject to the US Export Regulations. Export, re-export, diversion or transfer contrary to US law (and local country law) is prohibited. mksinst ™ is a trademark and Granville-Phillips ® and IMAG ® are registered trademarks of MKS Instruments, Inc. or a subsidiary of MKS Instruments, Inc. All other trademarks cited herein are the property of their respective owners.High Energy Physics_11/20©2010-2020 MKS Instruments, Inc.Specifications are subject to change without notice.。

超高真空系统UHV

超高真空系统UHV

Rotary vane mechanical pump
Dry mechanical pump
Turbomolecular pump
Vapour jet (diffusion) pump
Ion pump
Ti sublimation pump
10-12
10-10
10-8
10-6
10-4
10-2
1
10+2
N2
He H2 H2O
Ti
干泵



Scroll Pump: Roughing or backing pump Dry - no oil in vacuum portion of pump Prevents the backstreaming of oil and particulate contamination in to the system
Scroll
High/Ultra-high vacuum pumps
Diffusion Turbo
Magnetic levitated turbo
真空泵组合(Pump combinations)
粗真空(RV)
a.
高真空(HV)
a.
超高真空(UHV)
a.
机械泵
b.
c. b.
机械泵 低温泵 扩散泵
b.
扩散泵(二级泵)


极限真空:5x10-10 mbar High pumping speeds for all gases Low cost per unit pumping speed
Oil vapour jet
Rising oil vapour
Operation: Hot oil vapour escapes from jet nozzles Vapour jet moves at supersonic speeds and impinges on the inside of the cooled outer wall Gas molecules diffusing into the pump collide with the heavier oil vapour molecules and are pushed towards the exhaust of the pump

几种典型的超高真空系统图

几种典型的超高真空系统图

几种典型的超高真空系统图
时间:2008-10-13 来源:真空技术网整理编辑:鬼马
由于原子能工业和火箭技术的发展,超高真空技术也得到迅速发展和应用。

其系统有如下几种。

①用扩散泵和钛泵并联为主泵,扩散泵单独串联前级机械泵的真空系统。

图17所示,称为钠灯超高真空封接炉的系统。

可以达到极限真空度为1.33×10-6Pa。

图17:钠灯封接用的超高真空系统图
②由扩散泵串联扩散泵(中间泵),再串联机械泵的真空系统。

如图18,是一个超高真空系统和设备的结构图。

主泵是一个水银扩散泵,泵顶有冷却挡板和液氮冷阱,中间泵也是水银扩散泵。

在中间泵和前级机械泵之间设有油蒸气捕集器。

并设有各种单独的加热器,烘烤真空室和主泵顶部及捕集器。

该系统的特点是能获得超高真空,并能稳定工作。

图18:超高真空系统图
③主泵为分子泵串联机械泵的真空系统,该种超高真空系统,由于机械泵有油存在,需要在机械泵入口管道上设置捕集器冷凝油蒸气。

如果分子泵串联分子筛吸附泵(前级泵),则构成了无油超高真空系统,该系统比较清洁。

④用钛泵或溅射离子泵做为主泵。

并联或串联分子筛吸附泵(做为预真空泵),构成无油超高真空系统.如图19所示。

也可以用钛泵联接预真空机械泵,但此时机械泵的入口管道上要加油蒸气捕集器。

⑤用低温泵做为主泵,串联或并联分子筛吸附泵(预真空泵),构成无油超高真空系统。

同样也可以用机械泵做为预真空泵,在机械泵入口管道上设置油蒸气捕集器。

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Turbomolecular*(OF) 分子泵
Sputter/IonOF 离子泵 Sublimation/GetterOF 升华泵
10-3-10-10
10-4-10-11 10-8-10-11
* 需要前级真空泵
OF "clean"
真空泵的工作范围
Ultra high vacuum high vacuum Rough vacuum
Pressure (mbar)
真空泵组合(Pump combinations)
粗真空(RV)
a.
高真空(HV)
a.
超高真空(UHV)
a.
机械泵
b.
c. b.
机械泵 低温泵 扩散泵
b.
c. a. b. c. d.
干泵 离子泵 Ti 升华泵
干泵
a. b.
干泵 低温泵
机械泵 分子涡轮泵 离子泵 Ti升华泵 机械泵 磁悬浮涡轮泵 Ti升华泵
Why UHV for Surface Analysis?
真空度
Low Vacuum 10-1 Medium Vacuum High Vacuum Ultra-High Vacuum 10-11 10-4 10-8
压强
Torr
102



Remove adsorbed gases from the sample. Eliminate adsorption of contaminants on the sample. Prevent arcing and high voltage breakdown. Increase the mean free path for electrons, ions and photons.
a.
b.
干泵 分子涡轮泵
a.
b. c.
4.2.3、真空的测量

常用真空计(gauges)及其适用范围:
p (torr) >10-5
1000
Gauge Capacitance manometerA
PiraniG
IonizationG Mass spectrometerG
A
~102-10-3
Capacitor manometer

电子能谱仪结构框图(Instrumentation)
电子能谱仪结构框图
3.2、超高真空系统(UHV)



超高真空系统是进行现代表面分析及研究的主要部分。谱仪的光源 等激发源、样品室、分析室及探测器等都应安装在超高真空中。对 真空系统的要求是高的抽速,真空度尽可能高,耐烘烤,无磁性, 无振动等。通常超高真空系统真空室由不锈钢材料制成,真空度优 于5×10-10 mbar。现在所有商业电子能谱仪都工作在10-8 ~ 10-10 mbar的超高真空范围下。 超高真空系统一般由多级组合泵来获得。ESCALAB 250电子能谱 仪的真空系统主要靠磁浮涡轮分子泵来获得,其前级由机械泵维持, 另外在分析室还可加装一离子泵和钛升华泵,这样在样品分析室中 真空度可优于1×10-10 mbar。 钛升华泵都常作为辅助泵以便快速 达到所需要的真空度。 超高真空室和相关的抽气管道等通常用不锈钢材料来制成,相互连 接处使用具有刀口的法兰和铜垫圈来密封。样品分析室和能量分析 器更用Mu金属(高磁导率材料Ni77Fe16Cu5Cr2或Mo2)制造。
3.2.2、真空(Vacuum)的产生
真空通常使用各种类型的真空泵及其组合来产生。 常用真空泵及其工作范围:
Pump Rotary vane/Mechanical 机械泵 SorptionOF 吸附泵 Oil vapor diffusion* 扩散泵 p (torr) 1000-10-3 1000-10-3 10-3-10-10
~10-3-10-11 ~10-4-10-14
Pirani
Thermocouple
1 Pressure (mbar)
absolute - simple, accurate G gas dependent - complex, low pressure
10-3
Penning
Ionization

测量单位: Torr (USA) mbar (Europe) Pascal (ISO)
Rotary vane pump
Turbomolecular pump
Vapour jet (diffusion) pump
Ion pump
Ti sublimation pump
10-12
10-10
10-8
10-6
10-4
10-2
1
10+2
第3章 电子能谱仪构造
1. 2. 3. 4. 5. 6. 7.
电子能谱仪的一般构造 超高真空系统(UHV) 激发源 电子能量分析器与检测器 样品的制备和处理 常用附件(中和枪与离子枪) 数据系统
3.1、电子能谱仪的一般构造
电子能谱仪一般由超 高真空系统、激发源 (X射线光源、UV光源、 电子枪)、电子能量 分析器、检测器和数 据系统,以及其它附 件等构成。 现以Thermo-VG公司生 产的ESCALAB 250高性 能电子能谱仪为例, 说明其主要仪器结构。
3.2.1、超高真空的必要性
为什么必需要采用超高真空呢?




首先,要分析的低能电子信号很容易被残余气体分子所散射,使得 谱的总信号减弱,所以必须要真空技术来减小残余气体分子的浓度, 只有在超高真空条件下,低能电子才能获得足够长的平均自由程, 而不被散射损失掉。 其次,更为重要的是超高真空环境是表面分析技术本身的表面灵敏 性所必须的。在10-6mbar高真空下,大约1秒钟就会有一个单层的气 体吸附在固体表面,这与典型的谱图采集时间相比就太短了。显然 在分析过程中就需要超高真空环境来保持样品表面的清洁。 表面灵敏分析技术对样品表面清洁度的要求比其它分析技术要高得 多。对表面杂质来讲当前表面分析方法的检测限约为0.1%单层,但 有时很小的杂质浓度也会引起可观的影响。因此清洁表面的制备和 维持是十分必要的。表面分析需要在超高真空中(UHV)进行,才能保 证表面不会在分析过程中被污染。 超高真空的性质: 气压 p = 10-8 – 10-11 torr. 平均自由程 = ~104 – 107 m. 单层形 成时间 t = ~102 – 105 s
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