美国ASTMD电子及半导体工业用纯水水质要求
国内外实验室用水标准
水质标准
1、分析实验室用水标准（GB6682-92）
指标名称
一级
二级
三级
PH值范围（25℃）
-
-
5.0-7.5
电导率（25℃）
ms/m≤
0.01
0.1
0.5
us/cm≤
0.1
1
5
比电阻MΩ.cm@25℃>
10
1
0.2
可氧化物[以O计]mg/L
-
0.08
0.40
吸光度（254nm,1cm光程）≤
硝酸盐
＜0.06ppm
重金属
＜0.5ppm
电导率
＜2us/cm
3.2、注射水标准
PH值
5.0～7.0
氨
＜0.2ppm
硝酸盐
＜0.06ppm
细菌内毒素
＜0.25EU/ml
重金属
＜0.5ppm
4、锅炉给水质量标准
炉型
锅炉过热
蒸汽压力
（Mpa）
电导率
（us/cm）
硬度(umol/L)
溶解氧
铁
铜
钠
二氧化硅
ug/L
氯化物(以CL-计)
铅（以Pb计）
砷（以As计）
铜（以Cu计）
氰化物(以CN-计)
挥发性酚(以苯酚计)
游离氯
三氯甲烷
四氯化碳
亚硝酸盐(以NL2-计)
5.0～7.0
≤10us/cm
≤1.0mg/L
≤6.0mg/L
≤0.01mg/L
≤0.01mg/L
≤1mg/L
≤0.002mg/L
≤0.002mg/L
≤0.005mg/L
电子工业超纯水水质标准
序号
水质项目
一级高纯水指标
二级高纯水指标
1
电阻率（25°C）Mcm
>15
>10
2
电导率，卩s/cm
0.05
0.1
3
PH值
6.8〜7.2
6.6〜7.4
4
细菌总数，个/mL
V3
V9
5
微粒（直径〉0.5卩m，粒/mL）
V150
V300
6
二氧化硅
V10
V20
7
有机物（以COD计）
V0.3
V0.5
锌Zn2+
0.03
0.1
0.5
*
阴离子，卩g/L
0.1
0.1
0.3
*
溴Br-
0Cl-
0.05
0.2
0.8
*
亚硝酸根NO2-
0.05
0.1
0.3
*
硝酸根NO3-
0.1
0.1
0.5
*
磷酸根PO43-
0.2
0.2
0.3
*
硫酸根SO42-
0.05
0.3
1.0
*
*
我国电子工业部高纯水水质试行标准
8
钠Na
V0.5
V2
9
铁Fe
V1
V2
10
铜Cu
V0.5
V1
11
钙Ca
V1
V3
12
镁Mg
V0.2
V1
13
锌Zn
V0.5
V1
14
锰Mn
V0.2
V0.5
说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品
电子 电导 国标及ASTM标准
电子水标准一、电子工业与超纯水众所周知，水是人类的生命线、农业的命脉，当然也是现代化工业发展及高、精、尖科研的重要保证。
事实上，没有任何一个电子工业或科研部门不需要纯水或超纯水。
在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经以超纯水清洗后就直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片造成器件性能下降成品率低。
因此，提高超纯水水质，以及如何监控超纯水水质尤为重要。
随着现代化工业的发展，尤其是电力、电子工业，要求制备的超纯水的电阻率≥18MΩ·cm（25℃），这样的水质指标，已极其接颗粒及细菌的要求都极其苛刻，例如256M位的动态随机存近理论纯水水质18.3 MΩ·cm（25℃）。
此外，对电解质、DO、TOC、SiO2、储器生产工艺，光刻线条宽已达0.1μm，要保证这一指标，则超纯水中颗的粒径就得≤0.05μm，而且≥0.05μm不得超过500个/升超纯水。
因此，无论是超纯水的制备，还是超纯水的水质检测，其难度都相当大，要想得到准确的检测值，必须配备在线颗粒测试仪等技术指标也是如此。
器。
对于DO、TOC、SiO2二、水质标准2.1、电子级水国家标准,详见表2-12.2、美国ASTM(半导体材料协会)电子级水标准,详见表2-22.3、国际半导体制造商水质标准, 详见表2-32.4、美国半导体工业用纯水指标，详见表2-4表2-1 电子级水的技术指标电子级水标准Electronic grade water表2–2 美国ASTM电子级水标准 UPW Water Quality standard备注：1ppb相当于10-9克或相当于1μg/L；1ppt相当于10-12克或相当于1ng/L。
Water Quality Requirements 表2-3 国际半导体制造商要求水质标准1011。
美国国家饮用水水质标准
国家一级饮用水规程（NPDWRs或一级标准），是法定强制性的标准，它适用于公用给水系统。
一级标准限制了那些有害公众健康的及已知的或在公用给水系统中出现的有害污染物浓度，从而保护饮用水水质。
表1将污染物划分为：无机物，有机物，放射性核素及微生物。
表1污染物MCLG①（mg/L）④ MCL② TT③（mg/L）④从水中摄入后对健康的潜在影响饮用水中污染物来源无机物锑0.006 0.006 增加血液胆固醇，减少血液中葡萄糖含量炼油厂，阻燃剂，电子，陶器，焊料工业的排放砷未规定⑤0.05 伤害皮肤，血液循环问题，增加致癌风险半导体制造厂，炼油厂，木材防腐剂，动物饲料添加剂，防莠剂等工业排放，矿藏溶蚀石棉（>10µm纤维）7×107纤维/升7×107纤维/升增加良性肠息肉风险输水管道中石棉，水泥损坏，矿藏溶蚀钡2 2 血压升高钻井排放，金属冶炼厂排放、矿藏溶蚀铍0.004 0.004 肠道损伤金属冶炼厂，焦化厂、电子，航空，国防工业的排放镉0.005 0.005 肾损伤镀锌管道腐蚀，天然矿物溶蚀，金属冶炼厂排放，水从废电池和废油漆冲刷外泄铬0.1 0.1 使用含铬大于MCL多年，出现过敏性皮炎钢铁厂，纸浆厂排放，天然矿藏的溶蚀铜1.3 作用浓度1.3TT6短期接触使胃肠疼痛，长期接触使肝或肾损伤，有肝豆状核变性的病人在水中铜浓度超过作用浓度时，应请教个人医生家庭管道系统腐蚀，天然矿藏溶蚀，木材防腐剂淋溶氰化物0.2 0.2 神经系统损伤，甲状腺问题钢厂或金属加工厂排放，塑料厂及化肥厂排放氟化物 4.0 4.0 骨骼疾病（疼痛和脆弱），儿童得齿斑病为保护牙，向水中添加氟，天然矿藏的溶蚀，化肥厂及铝厂排放铅0 作用浓度0.015TT6婴儿和儿童：身体或智力发育迟缓，成年人肾脏出问题，高血压家庭管道腐蚀，天然矿藏侵蚀无机汞0.002 0.002 肾损伤天然矿物的溶蚀，冶炼厂和工厂排放，废渣填埋场及耕地流出硝酸盐（以N计）10 10 “兰婴儿综合症”（6个月以下婴儿受到影响未能及时治疗），症状：婴儿身体发兰色，呼吸短促化肥泄出，化粪池或污水渗漏，天然矿藏物溶蚀亚硝酸盐（以N计）1 1 “兰婴儿综合症”（6个月以下婴儿受到影响未能及时治疗），症状：婴儿身体发兰色，呼吸短促化肥泄出，化粪池或污水渗漏，天然矿藏物溶蚀硒0.05 0.05 头发，指甲脱落，指甲或脚趾麻木，血液循环问题炼油厂，排放，天然矿物的腐蚀，矿场排放铊0.0005 0.0002 头发脱落，血液成分变化，对肾，肠或肝有影响矿砂处理场溶出，电子，玻璃，制药厂排放有机物丙烯酰胺0 TT7神经系统及血液问题，增加致癌风险在污泥或废水处理过程中加入水中草不绿0 0.002 眼睛，肝，肾，脾发生问题，贫血症，增加致癌风险庄稼除莠剂流出阿特拉津0.003 0.003 心血管系统发生问题，再生繁殖困难庄稼除莠剂流出苯0 0.005 贫血症，血小板减少，增加致癌风险工厂排放，气体储罐及废渣回堆土淋溶苯并（α）芘0 0.0002 再生繁殖困难，增加致癌风险储水槽及管道涂层淋溶呋喃丹0.04 0.04 血液及神经系统发生问题，再生繁殖困难用于稻子与苜宿的熏蒸剂的淋溶四氯化碳0 0.005 肝脏出问题，致癌风险增加化工厂和其它企业排放氯丹0 0.002 肝脏与神经系统发生问题，致癌风险增加禁止用的杀白蚁药剂的残留物氯苯0.1 0.1 肝，肾发生问题化工厂及农药厂排放2，4-滴0.07 0.07 肾，肝，肾上腺发生问题庄稼上除莠剂流出茅草枯0.2 0.2 肾有微弱变化公路抗莠剂流出1，2-二溴-3-氯丙烷0 0.0002 再生繁殖困难，致癌风险增加大豆，棉花，菠罗及果园土壤熏蒸剂流出或溶出邻-二氯苯0.6 0.6 肝，肾或循环系统发生问题化工厂排放对-二氯苯0.075 0.075 贫血症，肝，肾，或脾受损，血液变化化工厂排放1，2-二氯乙烷0 0.005 致癌风险增加化工厂排放1，1-二氯乙烯0.007 0.007 肝发生问题化工厂排放顺1，2-二氯乙烯0.07 0.07 肝发生问题化工厂排放反1，2-二氯乙烯0.1 0.1 化工厂排放二氯甲烷0 0.005 肝发生问题，致癌风险增加化工厂排放和制药厂排放1，2-二氯丙烷0 0.005 致癌风险增加化工厂排放二乙基已基已二酸酯0.4 0.4 一般毒性或再生繁殖困难PVC管道系统溶出，化工厂排出二乙基已基邻苯二甲酸酯0 0.006 再生繁殖困难，肝发生问题，致癌风险增加橡胶厂和化工厂排放地乐酚0.007 0.007 再生繁殖困难大豆和蔬菜抗莠剂的流出二恶英（2，3，7，8-四氯二苯并对二氧六环）0 0.00000003 再生繁殖困难，致癌风险增加废物焚烧或其它物质焚烧时散布，化工厂排放敌草快0.02 0.02 生白内障施用抗莠剂的流出草藻灭0.1 0.1 胃，肠出问题施用抗莠剂的流出异狄氏剂0.002 0.002 影响神经系统禁用杀虫剂残留熏杀环0 TT7胃出问题，再生繁殖困难，致癌风险增加化工厂排出，水处理过程中加入乙基苯0.7 0.7 肝、肾出问题炼油厂排放二溴化乙烯0 0.00005 胃出毛病，再生繁殖困难，炼油厂排放草甘膦0.7 0.7 胃出毛病，再生繁殖困难用抗莠剂时溶出七氯0 0.0004 肝损伤，致癌风险增加禁用杀白蚁药残留环氧七氯0 0.0002 肝损伤，再生繁殖困难、致癌风险增加七氯降解六氯苯0 0.001 肝，肾出问题，、致癌风险增加冶金厂，农药厂排放六氧环戊二烯0.05 0.05 肾，胃出问题化工厂排出林丹0.0002 0.0002 肾，肝出问题畜牧，木材，花园所使用杀虫剂流出或溶出甲氧滴滴涕0.04 0.04 再生繁殖困难用于水果，蔬菜，苜宿，家禽杀虫剂流出或溶出草氨酰0.2 0.2 对神经系统有轻微影响用于苹果，土豆，番茄杀虫剂流出多氯联苯0 0.0005 皮肤起变化，胸腺出问题，免疫力降低，再生繁殖或神经系统困难，增加致癌风险废渣回填土溶出，废弃化学药品的排放五氯酚0 0.001 肝，肾出问题，致癌风险增加木材防腐工厂排出毒莠定0.5 0.5 肝出问题除莠剂流出西玛津0.004 0.004 血液出问题除莠剂流出苯乙烯0.1 0.1 肝，肾，血液循环出问题橡胶，塑料厂排放，回填土溶出四氯乙烯0 0.005 肝出问题，从PVC管流出，工厂及干洗工场排放甲苯1 1 神经系统，肾，肝出问题炼油厂排放总三卤甲烷（TTHMs）未规定⑤0.1 肝，肾，神经中枢出问题，致癌风险增加饮用水消毒副产品毒杀芬0 0.003 肾，肝，甲状腺出问题，棉花，牲畜杀虫剂的流出或溶出2，4，5-涕丙酸0.05 0.05 肝出问题禁用抗莠剂的残留1，2，4-三氯苯0.07 0.07 肾上腺变化纺织厂排放1，1，1-三氯乙烷0.2 0.2 肝，神经系统，血液循环系统出问题金属除脂场地或其它工厂排放1，1，2-三氯乙烷0.003 0.005 肝，肾，免疫系统出问题化工厂排放三氯乙烯0 0.005 肝脏出问题，致癌风险增加炼油厂排出氯乙烯0 0.002 致癌风险增加PVC管道溶出，塑料厂排放二甲苯（总）10 10 神经系统受损石油厂，化工厂排出核素ß粒子和光子未定⑤4毫雷姆/年致癌风险增加天然和人造矿物衰变总α活性未定⑤15微微居理/升致癌风险增加天然矿物浸蚀镭226，镭228 未定⑤5微微居理/升致癌风险增加天然矿物浸蚀微生物贾第氏虫0 TT8贾第氏虫病，肠胃疾病人和动物粪便异养菌总数未定TT8对健康无害，用作为批示水处理效率，控制微生物的指标未定军团菌0 TT8军团菌病，肺炎水中常有发现，加热系统内会繁殖总大肠杆菌（包括粪型及艾氏大肠菌）0 5.0%-9用于指示其它潜在有害菌的存在人和动物粪便浊度未定TT8对人体无害，但对消毒有影响，为细菌生长提供场所，用于指未微生物的存在土壤随水流出病毒0 TT8肠胃疾病人和动物粪便国家二级饮用水规程：二级饮用水规程（NSDWRs或二级标准），为非强制性准则，用于控制水中对美容（皮肤，牙齿变色），或对感官（如嗅，味，色度，）有影响的污染物浓度。
半导体纯水规格
半导体纯水规格半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体纯水规格通常包括以下方面：1. 电导率（或电阻率）：电导率是衡量水中离子导电能力的一个重要指标，电阻率则是电导率的倒数。
半导体工业中，超纯水的电导率通常要求在0.1μS/cm以下，甚至更低。
2. 总有机碳（TOC）：有机物是微生物和化学物质的来源，可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求总有机碳含量极低，一般在10ppb 以下。
3. 颗粒物：水中颗粒物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用过滤器等设备来去除水中的颗粒物。
一般要求超纯水中的颗粒物含量在1ppb 以下。
4. 金属离子：金属离子如铜、铁、锌等可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求金属离子含量极低，一般在1ppt以下。
5. 酸碱度：酸碱度是衡量水溶液酸碱性的指标。
半导体工业中，超纯水的酸碱度通常要求在pH 5-8之间。
6. 微生物：水中微生物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用紫外线消毒等设备来灭菌。
一般要求超纯水中的微生物含量在1个/ml以下。
7. 其他指标：除了上述主要指标外，半导体纯水规格还包括硅、氯离子、硫酸根等其他指标的要求。
具体指标可能会因不同的生产工艺和产品类型而有所不同。
总的来说，半导体纯水需要具备极高的纯度和洁净度，以保障半导体制造过程中的质量和稳定性。
半导体行业用水标准
半导体行业用水标准集团标准化工作小组 #Q8QGGQT-GX8G08Q8-GNQGJ8-MHHGN#电子行业水质标准1.电子工业与超纯水在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质 M Ω.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤μm,而且≥μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。
电子级水国家标准:详见表3、超纯水中杂质的污染源制备超纯水的水源由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
材料的影响:制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。
材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表各种材料的污染值(TOC 的溶出值)4水的电阻值在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。
根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。
国内外实验室用水标准
水质标准
1、分析实验室用水标准（GB6682-92）
指标名称
一级
二级
三级
PH值范围（25℃）
-
-
5.0-7.5
电导率（25℃）
ms/m≤
0.01
0.1
0.5
us/cm≤
0.1
1
5
比电阻MΩ.cm@25℃>
10
1
0.2
可氧化物[以O计]mg/L
-
0.08
0.40
吸光度（254nm,1cm光程）≤
不得含有异物,允许有极少量的天然矿物盐沉淀
界限指标(必须有一项或以上项目满足指标要求)
项目
指标
锂
锶
锌
溴化物
典化物
偏硅酸
硒
游离二氧化碳
溶解性总固体
≥0.2mg/L
≥0.2mg/L
≥0.2mg/L
≥1mg/L
≥0.2mg/L
≥25mg/L
≥0.01mg/L
≥250mg/L
≥1000mg/L
限量指标
项目
指标
< 100 CFU/mL
6、美国测试和材料试验学会（ASTM），临床试验标准国际委员会（NCCLS），
美国临床病理学会CAP规定的水质标准
ASTM
CAP
NCCLS
TypeⅠ
TypeⅡ
TypeⅢ
TypeⅠ
TypeⅡ
TypeⅢ
TypeⅠ
比电阻MΩ.cm@25℃
>16.66
1.0
1.0
>10
0.5
0.2
>10
0.001
FDA 纯水检查指南
FDA检查官培训教材高纯度水系统检查指南1999年10月14日译美国FDA纯水系统检查指南按语：本指南仅为FDA官员的参考材料，不对FDA或其他任何人具约束力、或赋予特权、优势。
本指南主要从微生物方面讨论如何考察和评价制剂药品和原料药生产中的纯水系统。
还讨论了如何检查各类水系统的设计及常见问题。
与其他指南一样，本指南虽不包罗万象，但介绍了检查纯水系统的背景知识并有指导作用。
此外，本指南也为“制药工业质量管理部微生物检验室指南”提出了附加要求。
1．系统设计首先需认定产品类型。
非肠胃道制剂要考虑热原问题，应使用注射用水。
不仅配制产品使用注射用水，所有包装材料和生产设备均应使用注射用水。
USP规定：只有蒸馏法和反渗析过滤法才能用于制备注射用水。
不过，在原料药和生物技术工业及一些国外工厂中，也使用超滤水来最大程度地减少非肠胃道用原料药的内毒素。
一些眼用制剂，如眼用冲洗药水、吸入剂（吸入无菌水）等均有热原规定，应使用注射用水。
若外用制剂、化妆品和口服制剂有热原规定，也应使用注射用水。
系统设计应考虑的另一个因素就是系统的温度。
建议设计能够自行消毒的热水系统（65℃--80℃）。
一些工厂可能采用其他更经济实惠的系统，但维修、检验和潜在问题会比所节约能源的费用高得多。
显然，稳定流动的水最不可能产生大量污染。
单向水系统基本上都有“死角”。
最后，也是最重要的一点就是：系统的风险评估或预定质量标准。
产品种类不同，水质系统的要求也不同。
非肠胃道产品需要不含内毒素的高纯度水；外用和口服药对水的纯度要求略低，也没有内毒素含量规定。
对于外用和口服药，也有各种因素决定水质的具体要求。
如，抗酸剂中防腐剂的效力仅为边缘水平，因此，微生物限量的规定更为苛刻。
质量管理部门应对每一产品生产过程的水系统进行评价，根据对微生物最敏感的产品制定出微生物警戒限量。
根据严格的微生物菌警戒限量标准，在生产敏感产品时，工厂可采取减少微生物数量的控制步骤。
半导体水要求标准
半导体水要求标准一、纯净度1. 半导体水应具有高纯度，其中颗粒物、离子、有机物等杂质含量应达到规定标准。
2. 应定期检测半导体水的纯净度，以确保水质稳定和符合生产要求。
二、微生物1. 半导体水应严格控制微生物含量，以防止微生物对生产过程和产品质量造成影响。
2. 应定期对半导体水进行微生物检测，以及时发现并控制微生物污染。
三、压力和流量1. 半导体水系统应保持稳定的压力和流量，以确保生产过程的稳定性和产品质量的一致性。
2. 应定期检查和维护水处理设备，以确保其正常运行和压力、流量的稳定。
四、水质稳定1. 半导体水应具有稳定的水质，以避免因水质波动对生产过程和产品质量产生不良影响。
2. 应定期检测水质各项指标，以确保其符合生产要求和保证水质稳定性。
五、温度和pH值1. 半导体水的温度和pH值应控制在一定范围内，以确保生产过程和产品质量的稳定性。
2. 应配备相应的水处理设备和水处理剂，以调节水温、pH值等参数，保证水质符合生产要求。
六、气体含量1. 半导体水中的气体含量应控制在一定范围内，以避免对生产过程和产品性能产生不良影响。
2. 应定期检测水中气体含量，并采取相应措施降低气体含量，以保证水质符合生产要求。
七、颗粒物1. 半导体水中的颗粒物应控制在一定范围内，以避免对生产过程和产品性能产生不良影响。
2. 应定期检测水中颗粒物含量，并采取相应措施降低颗粒物含量，以保证水质符合生产要求。
八、水处理设备1. 应根据生产要求和水质状况选择合适的水处理设备，以确保水质符合生产要求。
2. 水处理设备应定期进行维护和保养，以保证其正常运行和延长使用寿命。
九、水处理剂1. 在必要时，应使用适量的水处理剂，以改善水质和保证生产过程的顺利进行。
2. 水处理剂的选择和使用应遵循相关规定和标准，以确保其安全性和有效性。
美国ASTMD电子及半导体工业用纯水水质要求
美国ASTMD电子及半导体工业用纯水水质要求美国ASTMD5127-09标准规定了电子及半导体工业用纯水的水质要求。
这个标准适用于工业生产中需要高纯水水质的领域，如半导体制造、光电子、电子组装等。
标准中明确了纯水的物理、化学和微生物特性的要求。
首先，标准要求纯水在物理上应符合以下要求：电导率不超过0.055μS/cm，总溶解固体(TDS)不超过0.055 ppm，总硬度不超过0.055 ppm，总有机碳(TOC)不超过0.5 ppm，pH值在5.0-7.0之间，以及对应4.0-11.0倍数的离子氯根控制。
其次，标准还对纯水的化学特性做了一些要求：氯离子浓度不超过0.055 ppm，二氧化硅浓度不超过0.055 ppm，硝酸根离子浓度不超过0.055 ppm，铝离子浓度不超过0.055 ppm，钾离子浓度不超过0.055 ppm，修正的电荷深度曲线和氧化还原电位不超过0.055 ppm，以及阳离子纳离子和钾离子不超过0.055 ppm。
最后，标准还要求纯水在微生物特性方面符合一些要求：可培养微生物总数不超过10 CFU/ml，大肠菌群不超过1 CFU/100 ml，化学灭菌剂残留物不超过0.02 ppm，DNA残留物不超过0.02 ppm。
值得注意的是，这些纯水的要求是为了满足电子及半导体工业生产中对高纯水质的需求。
通过提供这样的水质，可以保证电子产品在制造过程中不受到污染，最大限度地提高产品的质量和性能。
总的来说，ASTMD5127-09标准对于电子及半导体工业用纯水的水质提出了严格的要求，从物理、化学和微生物特性多个方面进行了控制。
这为工业生产提供了标准化的依据，确保了生产过程的可靠性和稳定性。
工业超纯水机水质标准范围
工业超纯水机水质标准范围一、技术规范及水质范围1、工业超纯水机适用的水质范围工业超纯水机进水有特定要求，检查进水水质是否符合标准十分重要。
进水水质不符合标准将会导致膜元件的不可恢复性损害。
1：电导率：〈600US/CM2：硬度： 500mg/L4：色度：〈155：浊度：〈1NTU6：游离氯〈 0.1PPM7：SDI 〈 58：水温 5-45度二：运行参数：工作压力：1.0-1.5Mpa产水量：3T/h回收率：25%进水压力〉2Kg进水量〉8T/ h特别注意：因本设备为涉水产品，应防止冰冻，冰冻能造成设备不可回复的损害，所以设备间应配有取暖设施。
3：水处理工艺流程：增压泵石英机械过滤器活性碳过滤器树脂软化RO装置高压泵保安过滤4、产品功能以市政自来水为源水，经过太空1号RO-3000S型水处理设备处理后，出水水质符合卫生部法监发[2001]161号文件附件4C《生活饮用水水质处理器卫生安全与功能评价规范-反渗透处理器》出水水质要求。
三：安装指导1：设备尽量安装在干燥通风的地方，因为长期处于潮湿环境会造成电器设备和元件的损坏。
2：系统应置于便于操作者进入和维修的场地，四周应留有充足的空间。
3：选择安装地点时应尽量考虑前处理装置有较合适的位置，并符合这些工艺流程的摆放顺序。
4：前处理和主机按要求就位后，UPVC管道进行连接。
5：电器的安装工作必须要有合格的电器技术人员和工人进行，必须要用可靠的接地。
6：安装地点应保证夏夏季环境不高于40度，冬季高于4度。
否则会对设备造成不可恢复的损坏。
7：纯水收集地点(如纯水箱入口处)的高度不应高于设备纯水出口处5m，否则会对逆渗透产生背压，造成逆渗透不可恢复和损坏。
8：纯水出口连接中不可安装任何阻碍纯水流出的装置9：安装纯水连接管和浓水排放管的管径不应小于纯水出口和浓水的管径。
10：电器安装详见电路图。
四、操作方法：1;各种设备的连接和安装2：管道设备安装。
3：系统进水管道初级增压泵的联接方法，初级增压泵的进水口是一个25mm的接口，可以用镀锌管、UPVC塑料管或胶皮软管联接。
半导体用水设备的详细说明
半导体用水设备的详细说明一、简介生产半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统。
水质可达最高可达18.3兆欧，符合电子行业生产所需超纯水水质要求。
水质：水质符合美国ASTM标准，电子超纯水水质标准(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)材质：钢衬胶不锈钢有机玻璃等流量(m3/h)：0.1-500应用范围：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;超纯材料和超纯化学试剂;实验室和中试车间;汽车家电表面抛光处理医药行业用水;其他高科技精微产品二、工艺1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象2、预处理-一级反渗透-加药机( PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象三、为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统等。
1、介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质设备由优质不锈钢材料制作而成。
体内装有布水帽、精制石英砂等，亦可装其它填料。
合理的石英砂装填比例及良好的布水系统，使系统的产水水质更加稳定。
另外设备还设有气体冲刷功能，能最大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。
2、活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用,能最大程度的去除水中的游离余氯，保证反渗透膜的进水水质，设备由优质不锈钢材料制成。
美国环保部水质标准
美国饮用水水质标准国家一级饮用水规程（NPDWRs或一级标准），是法定强制性的标准，它适用于公用给水系统。
一级标准限制了那些有害公众健康的及已知的或在公用给水系统中出现的有害污染物浓度，从而保护饮用水水质。
表1将污染物划分为：无机物，有机物，放射性核素及微生物。
表1污染物MCLG①（mg/L）④MCL② TT③（mg/L）④从水中摄入后对健康的潜在影响饮用水中污染物来源无机物锑0.006 0.006 增加血液胆固醇，减少血液中葡萄糖含量炼油厂，阻燃剂，电子，陶器，焊料工业的排放砷未规定⑤0.05 伤害皮肤，血液循环问题，增加致癌风险半导体制造厂，炼油厂，木材防腐剂，动物饲料添加剂，防莠剂等工业排放，矿藏溶蚀石棉（>10µm纤维）7×107纤维/升7×107纤维/升增加良性肠息肉风险输水管道中石棉，水泥损坏，矿藏溶蚀钡 2 2 血压升高钻井排放，金属冶炼厂排放、矿藏溶蚀铍0.004 0.004 肠道损伤金属冶炼厂，焦化厂、电子，航空，国防工业的排放镉0.005 0.005 肾损伤镀锌管道腐蚀，天然矿物溶蚀，金属冶炼厂排放，水从废电池和废油漆冲刷外泄铬（总铬还是六价铬？）0.1 0.1使用含铬大于MCL多年，出现过敏性皮炎钢铁厂，纸浆厂排放，天然矿藏的溶蚀铜 1.3 作用浓度1.3TT6短期接触使胃肠疼痛，长期接触使肝或肾损伤，有肝豆状核变性的病人在水中铜浓度超过作用浓度时，应请教个人医生家庭管道系统腐蚀，天然矿藏溶蚀，木材防腐剂淋溶氰化物0.2 0.2 神经系统损伤，甲状腺问题钢厂或金属加工厂排放，塑料厂及化肥厂排放氟化物 4.0 4.0 骨骼疾病（疼痛和脆弱），儿童得齿斑病为保护牙，向水中添加氟，天然矿藏的溶蚀，化肥厂及铝厂排放铅0 作用浓度0.015TT6婴儿和儿童：身体或智力发育迟缓，成年人肾脏出问题，高血压家庭管道腐蚀，天然矿藏侵蚀无机汞0.002 0.002 肾损伤天然矿物的溶蚀，冶炼厂和工厂排放，废渣填埋场及耕地流出硝酸盐（以N 计）10 10“兰婴儿综合症”（6个月以下婴儿受到影响未能及时治疗），症状：婴儿身体发兰色，呼吸短促化肥泄出，化粪池或污水渗漏，天然矿藏物溶蚀亚硝酸盐（以N 计）1 1“兰婴儿综合症”（6个月以下婴儿受到影响未能及时治疗），症状：婴儿身体发兰色，呼吸短促化肥泄出，化粪池或污水渗漏，天然矿藏物溶蚀硒0.05 0.05 头发，指甲脱落，指甲或脚趾麻木，血液循环问题炼油厂，排放，天然矿物的腐蚀，矿场排放铊0.0005 0.0002 头发脱落，血液成分变化，对肾，肠或肝有影响矿砂处理场溶出，电子，玻璃，制药厂排放有机物丙烯酰胺0 TT7神经系统及血液问题，增加致癌风险在污泥或废水处理过程中加入水中草不绿0 0.002 眼睛，肝，肾，脾发生问题，贫血症，增加致癌风险庄稼除莠剂流出阿特拉津0.003 0.003 心血管系统发生问题，再生繁殖困难庄稼除莠剂流出苯0 0.005 贫血症，血小板减少，增加致癌风险工厂排放，气体储罐及废渣回堆土淋溶苯并（α）芘0 0.0002 再生繁殖困难，增加致癌风险储水槽及管道涂层淋溶呋喃丹0.04 0.04 血液及神经系统发生问题，再生繁殖困难用于稻子与苜宿的熏蒸剂的淋溶四氯化碳0 0.005 肝脏出问题，致癌风险增加化工厂和其它企业排放氯丹0 0.002 肝脏与神经系统发生问题，致癌风险增加禁止用的杀白蚁药剂的残留物氯苯0.1 0.1 肝，肾发生问题化工厂及农药厂排放2，4-滴0.07 0.07 肾，肝，肾上腺发生问题庄稼上除莠剂流出茅草枯0.2 0.2 肾有微弱变化公路抗莠剂流出1，2-二溴-3-氯丙烷0 0.0002再生繁殖困难，致癌风险增加大豆，棉花，菠罗及果园土壤熏蒸剂流出或溶出邻-二氯苯0.6 0.6 肝，肾或循环系统发生问题化工厂排放对-二氯苯0.075 0.075 贫血症，肝，肾，或脾受损，血液变化化工厂排放1，2-二氯乙烷0 0.005 致癌风险增加化工厂排放1，1-二氯乙烯0.007 0.007 肝发生问题化工厂排放顺1，2-二氯乙烯0.07 0.07 肝发生问题化工厂排放反1，2-二氯乙烯0.1 0.1 化工厂排放二氯甲烷0 0.005 肝发生问题，致癌风险增加化工厂排放和制药厂排放1，2-二氯丙烷0 0.005 致癌风险增加化工厂排放二乙基已基已二酸酯0.4 0.4一般毒性或再生繁殖困难PVC管道系统溶出，化工厂排出二乙基已基邻苯二甲酸酯0 0.006再生繁殖困难，肝发生问题，致癌风险增加橡胶厂和化工厂排放地乐酚0.007 0.007 再生繁殖困难大豆和蔬菜抗莠剂的流出二恶英（2，3，7，8-四氯二苯并对二氧六环）0 0.00000003再生繁殖困难，致癌风险增加废物焚烧或其它物质焚烧时散布，化工厂排放敌草快0.02 0.02 生白内障施用抗莠剂的流出草藻灭0.1 0.1 胃，肠出问题施用抗莠剂的流出异狄氏剂0.002 0.002 影响神经系统禁用杀虫剂残留熏杀环0 TT7胃出问题，再生繁殖困难，致癌风险增加化工厂排出，水处理过程中加入乙基苯0.7 0.7 肝、肾出问题炼油厂排放二溴化乙烯0 0.00005 胃出毛病，再生繁殖困难，炼油厂排放草甘膦0.7 0.7 胃出毛病，再生繁殖困难用抗莠剂时溶出七氯0 0.0004 肝损伤，致癌风险增加禁用杀白蚁药残留环氧七氯0 0.0002 肝损伤，再生繁殖困七氯降解难、致癌风险增加六氯苯0 0.001 肝，肾出问题，、致癌风险增加冶金厂，农药厂排放六氧环戊二烯0.05 0.05 肾，胃出问题化工厂排出林丹0.0002 0.0002 肾，肝出问题畜牧，木材，花园所使用杀虫剂流出或溶出甲氧滴滴涕0.04 0.04 再生繁殖困难用于水果，蔬菜，苜宿，家禽杀虫剂流出或溶出草氨酰0.2 0.2 对神经系统有轻微影响用于苹果，土豆，番茄杀虫剂流出多氯联苯0 0.0005 皮肤起变化，胸腺出问题，免疫力降低，再生繁殖或神经系统困难，增加致癌风险废渣回填土溶出，废弃化学药品的排放五氯酚0 0.001 肝，肾出问题，致癌风险增加木材防腐工厂排出毒莠定0.5 0.5 肝出问题除莠剂流出西玛津0.004 0.004 血液出问题除莠剂流出苯乙烯0.1 0.1 肝，肾，血液循环出问题橡胶，塑料厂排放，回填土溶出四氯乙烯0 0.005 肝出问题，从PVC管流出，工厂及干洗工场排放甲苯 1 1 神经系统，肾，肝出问题炼油厂排放总三卤甲烷（TTHMs）未规定⑤0.1肝，肾，神经中枢出问题，致癌风险增加饮用水消毒副产品毒杀芬0 0.003 肾，肝，甲状腺出问题，棉花，牲畜杀虫剂的流出或溶出2，4，5-涕丙酸0.05 0.05 肝出问题禁用抗莠剂的残留1，2，4-三氯苯0.07 0.07 肾上腺变化纺织厂排放1，1，1-三氯乙烷0.2 0.2肝，神经系统，血液循环系统出问题金属除脂场地或其它工厂排放1，1，2-三氯乙烷0.003 0.005肝，肾，免疫系统出问题化工厂排放三氯乙烯0 0.005 肝脏出问题，致癌风险增加炼油厂排出氯乙烯0 0.002 致癌风险增加PVC管道溶出，塑料厂排放二甲苯（总）10 10 神经系统受损石油厂，化工厂排出核素ß粒子和光子未定⑤4毫雷姆/年致癌风险增加天然和人造矿物衰变总α活性未定⑤15微微居理/升致癌风险增加天然矿物浸蚀镭226，镭228 未定⑤5微微居理/升致癌风险增加天然矿物浸蚀微生物贾第氏虫0 TT8贾第氏虫病，肠胃疾病人和动物粪便异养菌总数未定TT8对健康无害，用作为批示水处理效率，控制微生物的指标未定军团菌0 TT8军团菌病，肺炎水中常有发现，加热系统内会繁殖总大肠杆菌（包括粪型及艾氏大肠菌）0 5.0%-9用于指示其它潜在有害菌的存在人和动物粪便浊度未定TT8对人体无害，但对消毒有影响，为细菌生长提供场所，用于指未微生物的存在土壤随水流出病毒0 TT8肠胃疾病人和动物粪便国家二级饮用水规程：二级饮用水规程（NSDWRs或二级标准），为非强制性准则，用于控制水中对美容（皮肤，牙齿变色），或对感官（如嗅，味，色度，）有影响的污染物浓度。
半导体行业用水标准
半导体行业用水标准随着科技的发展和社会的进步，半导体行业成为了现代信息技术的核心产业之一。
在半导体制造的过程中，水被广泛使用，起到冷却设备和设施、清洗材料和设备、供应纯净环境等重要作用。
因此，在半导体行业中，设定并遵守严格的用水标准显得尤为重要。
本文将介绍半导体行业用水标准的背景、重要性以及如何确保和遵守这些标准的相关措施。
一、半导体行业用水标准的背景半导体制造涉及到多个工序，包括化学处理、湿法制程、干法制程、电镀、清洗、蚀刻、抛光等。
净化水是半导体工艺中使用最广泛的水类，质量的提升对半导体芯片的性能和可靠性有着重要的影响。
而半导体行业用水标准的制定就是为了确保水质符合制造半导体设备和器件的要求，保证半导体芯片的质量和性能。
二、半导体行业用水标准的重要性1. 产品质量保证：半导体芯片是电子产品的重要组成部分，其质量直接关系到电子产品的性能和可靠性。
严格的用水标准可以保证生产过程中水的纯净度，从而确保半导体芯片产品的质量。
2. 设备保护：在半导体制造过程中，许多设备对入水质量有严格的要求。
合格的用水标准可以减少设备的损坏和维护成本，延长设备的使用寿命。
3. 节能减排：半导体行业用水量较大，严格的用水标准可以通过提高水的再利用率和减少废水排放，达到节约用水、减少污染物排放的目的，符合可持续发展的要求。
三、半导体行业用水标准的具体要求1. 纯度要求：用水标准中对水的纯度有严格的要求，包括总溶解固体（TDS）、电导率、有机物、微生物等指标。
通常要求水质达到纯净水或超纯水的级别，确保半导体制造过程中不会引入杂质和污染物。
2. 温度要求：用水的温度对一些半导体工艺有严格要求，需要在一定的温度范围内进行操作，以保证工艺的稳定性和一致性。
3. 压力要求：用水的压力对一些设备和工艺也有重要影响，需要符合特定的压力范围，以确保系统正常运行和工艺的准确性。
4. 微生物控制：半导体行业对水中的微生物有严格的要求，包括细菌、菌落总数、大肠菌群等。
DI水(超纯水)的测试标准
DI水（超纯水）的测试标准对于DI水的测试，需要精密的仪器和受控制的环境，如需要达到一定级别的无尘环境，专门的实验室等。
不过大多数公司不可能投资巨额的资金去做该测试，将DI水送到有资格的外部实验室进行测试是一个可以考虑的做法。
下面的内容就DI水的常用测试项目和方法做简单的介绍：1、电阻率测试(Resistivity test )该测试要求DI水需要处于温度在25摄氏度状况下，多数情况下工厂可以在线监控该项测试，即可以在DI水的出水端安装一个电阻测试仪器，可以随时记录数据的变化。
除了在线监控外，也可以送到实验中心进行测试。
测试结果的判定可以根据产品的要求而定。
如在电脑的磁头工厂，DI水是直接用来清洗产品的，所以要求非常高，一般要求在15---18MΩ·cm之间。
测试方法是根据美国材料实验协会的标准（ASTM）。
2、蒸发后残留物测试（Residue after evaporation test）该测试是监控DI水残留物含量的测试，结果评估是看每升水中有多少ug残留物(ug/L)，其依据是根据ASTM D5462 /F1094进行控制。
3、细菌测试（Bacteria test）该测试监控DI水中微生物的含量，表面上我们看到的是一杯非常透明的干净的水，其实在水里面有很多微生物的存在，相对来说，DI水中的微生物会比我们饮用的自来水中少很多，因为DI 水的生产流程经过了多次过滤、消毒、紫外线杀菌等等过程。
做该测试会耗时较长，具体做法是使用培养皿对DI水进行细菌培植，到一定的时数后再使用放大镜看DI水中有多少细菌生长出来。
因为细菌需要养料才能生长，该测试就是根据该原理来测试细菌的数量。
其判定结果是观测在100ml水中有多少个细菌，需要观测出不同大小的数量。
4、液态尘粒测试（LPC test）该测试是监控DI水中一定粒径下粒子的含量，一般控制每毫升中离子的个数（个/ml）。
该测试是DI水非常重要的一个测试，也是监控DI水的必测项目。
国外实验室用水
16
Fluoride (F)
< 0.2 mg/L
17
Nitrate (NO3)
< 2 mg/L
18
Sulfate (SO42)
< 100 mg/L
19
Chlorine (R-Cl2)
< 0.5 mg/L
20
Chloramines(X-NH2)
< 0.1 mg/L
21
Culture/colony count
＜3mg/L
＜45mg/L
＜1.1Bq/L
污染物指标
项目
指标
挥发性酚(以苯酚计)
氰化物(以CN-计)
亚硝酸盐(以NL2-计)
总放射性
＜0.002mg/L
＜0.01mg/L
＜0.005mg/L
＜1.5Bq/L
微生物指标
项目
指标
水源水
灌装产品
细菌总数
大肠菌群
5CFU/ML
0MPN/100ML
50CFU/ML
放射性指标
总α放射性
总β放射性
0.1Bq/L
1Bq/L
< 100 CFU/mL
6、美国测试和材料试验学会（ASTM），临床试验标准国际委员会（NCCLS），
美国临床病理学会CAP规定的水质标准
ASTM
CAP
NCCLS
TypeⅠ
TypeⅡ
TypeⅢ
TypeⅠ
TypeⅡ
TypeⅢ
TypeⅠ
比电阻MΩ.cm@25℃
>16.66
1.0
1.0
>10
0.5
0.2
FDA对水系统的要求(翻译稿)
FDA 对水系统的要求纯水：H2O 分子量：18.02纯水是通过一种适当的方法获得的。
它可按照美国环境保护局的国家基本饮水条例或欧盟和日本的相关条例从水中加工而得。
它不包括任何附加物质。
注解—纯水可作为法定制剂的原料使用，除非有其他特别的说明，也可用于检测和分析测定（见：水在原料和过程中以及在检测和分析测定中分离的通则和必要条件）。
在无菌试验下处理达到必要条件，或者首先使之无菌并且保护其不受微生物的污染的纯水，可用于无菌制剂，非经肠给药除外。
不可将纯水用于非经肠给药制剂的制备。
制备非经肠给药制剂可用注射用水，抑菌性注射用水，无菌注射用水。
总有机碳量和电导率试验可用于作为法定制剂的原料、在试验和分析中使用而生产的纯水。
大量用于商业的经包装纯水的所有测试均低于无菌纯水的规格，标签除外。
药用水在生产、加工、配制药品时，水是最为广泛使用的物质、原材料或成份。
对这类水的微生物质量控制是很重要的，因为在水的纯化、贮存和分配过程中，水中的微生物可能会发生普遍存在的增殖。
如果这种水被用于最终产品的制造，这些微生物或其代谢产物可能会引起不良的后果。
如果水被用于生产药物的早期阶段，以及作为制备不同类别纯水的来源或饮用水，必须符合环境保护局（Environmental Protection Agency，EPA）发布的国家基本饮用水规定（National Primary Drinking Water Regulations，NPDWR ）(40 CFR141) 。
欧盟或日本的相关饮用水条例也可适用。
这些规定保证水中不存在大肠杆菌，如经确定该菌来自粪便，则可能预示着或表明其他来源于粪便的微生物的存在，包括可能对人致病的病毒。
另一方面，符合国家饮用水标准并不排除有其他微生物的存在，这类微生物不被作为公众卫生健康事件考虑，但是如果存在，在药物或制剂中会构成危害或被认为是不该有的。
由于这些原因，药用水有许多不同的级别。
水的类型饮用水（Drinking Water）—饮用水还未被专论涉及，但必须符合EPA NPDWR 的质量标准或欧盟、日本的相似规定。
工业用水标准
工业用水标准电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水出水电导率≤10μS/CM的纯净水，白酒生产用纯水，啤酒生产用纯水等，生产制造出水电导率≤5μS/CM的电镀用纯水设备、蓄电池用水设备、镀膜玻璃钢纯水设备、生产制造出水电导率0.110μS/CM的导电玻璃制造用水，实验室用超纯水。
生产出水电阻率在5-10MΩ.CM的锂电池、蓄电池生产用水，10~15MΩ.CM的电镀用水，光学材料清洗用水等等，生产制造电阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料锅炉用软化水、敏感新材料用水、半导体材料生产用水、尖端金属材料用水等。