《半导体物理学》期末考试试卷(A卷)-往届

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电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案半导体物理课程考试题A卷(120分钟)考试形式:闭卷考试日期2022年元月18日课程成绩构成:平时10分,期中5分,实验15分,期末70分一、选择题(共25分,共25题,每题1分)A)的半导体。

A.不含杂质和缺陷B.电阻率最高C.电子密度和空穴密度相等D.电子密度与本征载流子密度相等2、如果一半导体的导带中发现电子的几率为零,那么该半导体必定(D)。

A.不含施主杂质B.不含受主杂质C.不含任何杂质D.处于绝对零度3、对于只含一种杂质的非简并n型半导体,费米能级EF随温度上升而(D)。

A.单调上升B.单调下降C.经过一个极小值趋近EiD.经过一个极大值趋近Ei4、如某材料电阻率随温度上升而先下降后上升,该材料为(C)。

A.金属B.本征半导体C.掺杂半导体D.高纯化合物半导体5、公式某/mqτμ=中的τ是半导体载流子的(C)。

A.迁移时间B.寿命C.平均自由时间D.扩散时间6、下面情况下的材料中,室温时功函数最大的是(A)A.含硼1某1015cm-3的硅B.含磷1某1016cm-3的硅C.含硼1某1015cm-3,磷1某1016cm-3的硅D.纯净的硅7、室温下,如在半导体Si中,同时掺有1某1014cm-3的硼和1.1某1015cm-3的磷,则电子浓度约为(B),空穴浓度为(D),费米能级为(G)。

将该半导体由室温度升至570K,则多子浓度约为(F),少子浓度为(F),费米能级为(I)。

(已知:室温下,ni≈1.5某1010cm-3;570K时,ni≈2某1017cm-3)A、1某1014cm-3B、1某1015cm-3C、1.1某1015cm-3D、2.25某105cm-3E、1.2某1015cm-3F、2某1017cm-3G、高于EiH、低于EiI、等于Ei8、最有效的复合中心能级位置在(D)附近;最有利陷阱作用的能级位置在(C)附近,常见的是(E)陷阱。

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案⼀、填空题1.纯净半导体Si 中掺错误!未找到引⽤源。

族元素的杂质,当杂质电离时释放电⼦。

这种杂质称施主杂质;相应的半导体称N 型半导体。

2.当半导体中载流⼦浓度的分布不均匀时,载流⼦将做扩散运动;在半导体存在外加电压情况下,载流⼦将做漂移运动。

3.n o p o =n i 2标志着半导体处于平衡状态,当半导体掺⼊的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变;当温度变化时,n o p o 改变否?改变。

4.⾮平衡载流⼦通过复合作⽤⽽消失,⾮平衡载流⼦的平均⽣存时间叫做寿命τ,寿命τ与复合中⼼在禁带中的位置密切相关,对于强p 型和强n 型材料,⼩注⼊时寿命τn 为,寿命τp 为 .5.迁移率是反映载流⼦在电场作⽤下运动难易程度的物理量,扩散系数是反映有浓度梯度时载 qn n 0=µ ,称为爱因斯坦关系式。

6.半导体中的载流⼦主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射和晶格振动散射。

前者在电离施主或电离受主形成的库伦势场下起主要作⽤,后者在温度⾼下起主要作⽤。

7.半导体中浅能级杂质的主要作⽤是影响半导体中载流⼦浓度和导电类型;深能级杂质所起的主要作⽤对载流⼦进⾏复合作⽤。

8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲含铝1015cm -3 ⼄. 含硼和磷各1017 cm -3 丙含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由⾼到低的顺序是⼄甲丙。

样品的电⼦迁移率由⾼到低的顺序是甲丙⼄。

费⽶能级由⾼到低的顺序是⼄> 甲> 丙。

9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与⾮简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为⾮简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。

10.当P-N 结施加反向偏压增⼤到某⼀数值时,反向电流密度突然开始迅速增⼤的现象称为 PN 结击穿,其种类为:雪崩击穿、和齐纳击穿(或隧道击穿)。

级半导体器件物理期末试题(A

级半导体器件物理期末试题(A

np (−xp ) = np0eV VT
( 3)
与此类似,可以得到
pn (xn ) = pn0eV VT
(4)
( 3)、( 4) 两 式 即 为 所 要 证 明 的 边 界 条 件 。
2〔 15 分 〕 共基极连接双极结型晶体管(BJT):
( 1)〔 5 分 〕 画出电流分量示意图。
(2)〔 5 分 〕 写出各个极电流表达式。
( 1)〔 5 分 〕 画出电流分量示意图。
(2)〔 5 分 〕 写出各个极电流表达式。
(3)〔 5 分 〕 写出各个极电流之间满足的关系式。
3〔 15 分 〕 对于金属和 N 型半导体构成的肖特基势垒:
(1)〔 5 分 〕画出热平衡能带图。根据能带图写出内建电势差 qψ 0 和 肖特基势 垒 高 度 qφb 。
6〔 15 分 〕 根 据 外 量 子 效 率 公 式
( ) ( ) −1
−1
ηe = ηi 1+ αV AT = ηi 1+ α x j T
( 1)〔 8 分 〕 指 出 提 高 外 量 子 效 率 的 途 径 。 (2)〔 7 分 〕 说明光学窗口的作用。
答 :( 1)公 式 说 明 可 以 通 过 增 加 ηi 减 少 α 、 x j 或 通 过 增 加 T 来 提 高 外 量 子 效 率 。
厚度 a。
解:(1)空间电荷区宽度
W
(x)
=
⎧ ⎨
2kε
0
[V
(x) +ψ
0
− VG
]1
⎫2 ⎬

qN d

在 夹 断 点 , 令 W = a ,( 沟道厚度)以 及 VG −V = VTH , 有 :

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案

一、填空题1.纯净半导体Si 中掺V 族元素的杂质,当杂质电离时释放 电子 。

这种杂质称 施主 杂质;相应的半导体称 N 型半导体。

2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做 扩散 运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做 漂移 运动。

3.n o p o =n i 2标志着半导体处于 平衡 状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变 ;当温度变化时,n o p o 改变否? 改变 。

4.非平衡载流子通过 复合作用 而消失, 非平衡载流子的平均生存时间 叫做寿命τ,寿命τ与 复合中心 在 禁带 中的位置密切相关,对于强p 型和 强n 型材料,小注入时寿命τn 为 ,寿命τp 为 .5. 迁移率 是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量, 扩散系数 是反映有浓度梯度时载 qn n 0=μ ,称为 爱因斯坦 关系式。

6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射 和 晶格振动散射 。

前者在 电离施主或电离受主形成的库伦势场 下起主要作用,后者在 温度高 下起主要作用。

7.半导体中浅能级杂质的主要作用是 影响半导体中载流子浓度和导电类型 ;深能级杂质所起的主要作用 对载流子进行复合作用 。

8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲 含铝1015cm -3 乙. 含硼和磷各1017 cm -3 丙 含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是 乙 甲 丙 。

样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙 。

费米能级由高到低的顺序是 乙> 甲> 丙 。

9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为非简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。

10.当P-N 结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为 PN 结击穿 ,其种类为: 雪崩击穿 、和 齐纳击穿(或隧道击穿) 。

17-18华南农业大学期末考试试卷半导体物理A

17-18华南农业大学期末考试试卷半导体物理A

装订线华南农业大学期末考试试卷(A卷)2017-2018学年第一学期考试科目:半导体物理考试类型:(开卷)考试考试时间:120 分钟学号姓名年级专业题号一二三总分得分评阅人一、选择题(本大题共20 小题,每小题 1 分,共20 分。

请将正确答案填在下面表格内,写在其它位置无效。

)题号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10选项题号11 12 13 14 15 16 17 18 19 20选项1. 硅的晶体结构是()A.金刚石B.闪锌矿C. 纤锌矿D.氯化钠2. 历史上锗在同硅的竞争中失利,最不可能的原因是()A.硅便宜而锗贵B.锗的氧化物不如硅的氧化物稳定C. 同硅相比,锗容易碎D.硅最早进入人们视线,先入为主3.同硅相比,砷化镓具有一些明显优点。

下面不属于其优点的是()A.频率特性好B. 工作温度高C. 光电性能好D. 毒性小4.以下不属于深能级杂质特点的关键词是()A. 杂质浓度高B. 复合中心C. 电子陷阱D. 高速器件5.哪位发明家根据爱迪生效应制造出真空二极管?()A. 爱迪生B.弗莱明C. 史密斯D. 布劳恩6.下面那个选项为挥发性半导体存储器? ()A. FLASHB.DRAMC. EEPROMD. P ROM7.人眼所见之白色光至少包括几种以上波长之色光所形成? ()A. 一种B.二种C. 三种D. 四种得分8.砷化镓的禁带宽度大约为 1.41eV,请问其发光频率在什么范围?()A. 紫外光B.紫光C. 红光D. 红外光9.打印机里的硒鼓是一只表面上涂覆了硒的圆筒。

请问用于硒鼓上的硒利用了半导体的那种性质工作?A. 温度特性B.光电导特性C. 光伏特性D. 电容特性10.量子隧穿效应经常用于解释半导体器件的工作原理。

请问下面那个器件(或结构)的工作原理与隧穿效应无关?()A. 江崎二极管B.稳压二极管C. 金属-半导体欧姆接触D. 整流二极管11.下面说法中错误的是()A. 目前我国常用蓝光芯片的材质为InGaNB. Ⅲ、Ⅴ族杂质在硅和锗晶体中为深能级杂质C. 硅晶体结构是金刚石结构D. 砷化稼的能带结构是直接带隙结构12. 关于pn结,下列说法中不正确的是()A. pn结是结型半导体器件的心脏。

半导体物理学期末复习试题及答案一

半导体物理学期末复习试题及答案一

半导体物理学期末复习试题及答案一一、选择题1.与绝缘体相比,半导体的价带电子激发到导带所需要的能量( B )。

A. 比绝缘体的大B.比绝缘体的小C. 和绝缘体的相同2.受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A. 电子和空穴B.空穴C. 电子3.对于一定的N型半导体材料,在温度一定时,减小掺杂浓度,费米能级会( B )。

A.上移B.下移C.不变4.在热平衡状态时,P型半导体中的电子浓度和空穴浓度的乘积为常数,它和( B )有关A.杂质浓度和温度B.温度和禁带宽度C.杂质浓度和禁带宽度D.杂质类型和温度5.MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( B )。

A.相同B.不同C.无关6.空穴是( B )。

A.带正电的质量为正的粒子B.带正电的质量为正的准粒子C.带正电的质量为负的准粒子D.带负电的质量为负的准粒子7.砷化稼的能带结构是( A )能隙结构。

A. 直接B.间接8. 将Si 掺杂入GaAs 中,若Si 取代Ga 则起( A )杂质作用,若Si 取代As 则起( B )杂质作用。

A. 施主B. 受主C. 陷阱D. 复合中心9. 在热力学温度零度时,能量比F E 小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比F E 小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A. 大于1/2B. 小于1/2C. 等于1/2D. 等于1E. 等于010. 如图所示的P 型半导体MIS 结构的C-V 特性图中,AB 段代表( A ),CD 段代表(B )。

A. 多子积累B. 多子耗尽C. 少子反型D. 平带状态11. P 型半导体发生强反型的条件( B )。

A. ???? ??=i A S n N q T k V ln 0B.≥i A S n N q T k V ln 20 C. ???? ??=i D S n N q T k V ln 0 D. ???? ??≥i D S n N q T k V ln 20 12. 金属和半导体接触分为:( B )。

电子科技大学半导体物理期末考试试卷A试题答案

电子科技大学半导体物理期末考试试卷A试题答案

………密………封………线………以………内………答………题………无………效……2012半导体物理学期末试题一、选择填空(22分)1、在硅和锗的能带结构中,在布里渊中心存在两个极大值重合的价带,外面的能带( B ),对应的有效质量( C ),称该能带中的空穴为( E )。

A. 曲率大;B. 曲率小;C. 大;D. 小;E. 重空穴;F. 轻空穴2、如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为(F )。

A. 施主B. 受主C.复合中心D.陷阱 F. 两性杂质3、在通常情况下,GaN呈( A )型结构,具有( C ),它是(F )半导体材料。

A. 纤锌矿型;B. 闪锌矿型;C. 六方对称性;D. 立方对称性;E.间接带隙;F. 直接带隙。

4、同一种施主杂质掺入甲、乙两种半导体,如果甲的相对介电常数εr是乙的3/4,m n*/m0值是乙的2倍,那么用类氢模型计算结果是(D )。

A.甲的施主杂质电离能是乙的8/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的3/4B.甲的施主杂质电离能是乙的3/2,弱束缚电子基态轨道半径为乙的32/9C.甲的施主杂质电离能是乙的16/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的8/3D.甲的施主杂质电离能是乙的32/9,的弱束缚电子基态轨道半径为乙的3/85、.一块半导体寿命τ=15µs,光照在材料中会产生非平衡载流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡载流子将衰减到原来的(C )。

A.1/4 ; B.1/e ; C.1/e2; D.1/26、对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体,在温度足够高、n i>> /N D-N A/ 时,半导体具有( B )半导体的导电特性。

A. 非本征 B.本征7、在室温下,非简并Si中电子扩散系数Dn与ND有如下图(C )所示的最恰当的依赖关系:DnDnDnDn8、在纯的半导体硅中掺入硼,在一定的温度下,当掺入的浓度增加时,费米能级向(A )移动;当掺………密………封………线………以………内………答………题………无………效……杂浓度一定时,温度从室温逐步增加,费米能级向( C )移动。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

电子科技大学半导体物理A考试试题与参考答案

电子科技大学半导体物理A考试试题与参考答案

12、欧姆接触是指( D )的金属-半导体接触。
2
A、Wms=0
B、Wms <0
C、W ms >0
D、阻值较小并且有对称而线性的伏-安特性
13、在 MIS 结构的金属栅极和半导体上加一变化的电压,在栅极电压
由负值增加到足够大的正值的的过程中,如半导体为 P 型,则在半导
体的接触面上依次出现的状态为( B )。
C、电阻率最高; C、电子密度与本征载流子密度相等。
5、简并半导体是指( A )的半导体
A、(EC-EF)或(EF-EV)≤0 B、(EC-EF)或(EF-EV)≥0
C、能使用玻耳兹曼近似计算载流子浓度
D、导带底和价带顶能容纳多个状态相同的电子
1
6、当 Au 掺入 Si 中时,它引入的杂质能级是( A )能级,在半
二 0 0 五 至 二 0 0 六学 年 第 一 学期
一、选择填空(含多选题)(18 分)
1、重空穴是指( C

A、质量较大的原子组成的半导体中的空穴
B、价带顶附近曲率较大的等能面上的空穴
C、价带顶附近曲率较小的等能面上的空穴
D、自旋-轨道耦合分裂出来的能带上的空穴
2、硅的晶格结构和能带结构分别是( C )
E, 产生漂移电流:
j漂 = qµ p p0E
稳定时两者之和为零,即:
−qDp
dp0 dx
+
qµ p
p0 E
= 0
而 E = − dV ,有电场存在时,在各处产生附加势能-qV(x),使得能带发生倾斜。 dx
在x处的价带顶为:E V(x)=E V-qV(x),则x处的空穴浓度为:
3
= p0 (x)
NV
exp(−

《半导体物理学》期末考试试卷(A卷)-往届

《半导体物理学》期末考试试卷(A卷)-往届

赣 南 师 范 学 院2010–2011学年第一学期期末考试试卷(A 卷)开课学院:物电学院 课程名称:半导体物理学 考试形式:闭卷,所需时间:120分钟注意事项:1、教师出题时请勿超出边界虚线;2、学生答题前将密封线外的内容填写清楚,答题不得超出密封线;3、答题请用蓝、黑钢笔或圆珠笔。

一、填空题(共30分,每空1分)1、半导体中有 和 两种载流子,而金属中只有 一种载流子。

2、杂质原子进入材料体内有很多情况,常见的有两种,它们是 杂质和 杂质。

3、根据量子统计理论,服从泡利不相容原理的电子遵从费米统计率,对于能量为E 的一个量子态,被一个电子占据的概率为()f E ,表达式为 ,()f E 称为电子的费米分布函数,它是描写 的一个统计分布函数。

当0F E E k T ->>时,费米分布函数转化为()B f E ,表达式为 ,()B f E 称为电子的玻尔兹曼分布函数。

在0F E E k T ->>时,量子态被电子占据的概率很小,这正是玻尔兹曼分布函数适用的范围。

费米统计率与玻尔兹曼统计率的主要差别在于 ,而在0F E E k T ->>的条件下,该原理失去作用,因而两种统计的结果变成一样了。

4、在一定温度下,当没有光照时,一块n 型半导体中, 为多数载流子, 是少数载流子,电子和空穴的浓度分别为0n 和0p ,则0n 和0p 的关系为 ,当用g h E ν>>(该半导体禁带宽度)的光照射该半导体时,光子就能把价带电子激发到导带上去,此时会产生 ,使导带比平衡时多出一部分电子n ,价带比平衡时多出一部分空穴p ,n 和p 的关系为 ,这时把非平衡电子称为非平衡 载流子,而把非平衡空穴称为非平衡 载流子。

在一般小注入情况下,在半导体材料中,非平衡 载流子带来的影响可忽略,原因是 ,而非平衡 载流子却往往起着重要作用,原因是 。

5、非平衡载流子的复合,就复合的微观机构讲,大致可分为两种,直接复合和间接复合,直接复合是指 ,间接复合是指 。

半导体物理期末考试试卷a-参考答案与评分标准

半导体物理期末考试试卷a-参考答案与评分标准

电子科技大学二零零七至二零零八学年第一学期期末考试一、选择填空(22分)1、在硅和锗的能带结构中,在布里渊中心存在两个极大值重合的价带,外面的能带( B ),对应的有效质量( C ),称该能带中的空穴为( E )。

A. 曲率大;B. 曲率小;C. 大;D. 小;E. 重空穴;F. 轻空穴2、如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为(F )。

A. 施主B. 受主C.复合中心D.陷阱 F. 两性杂质3、在通常情况下,GaN呈( A )型结构,具有( C ),它是(F )半导体材料。

A. 纤锌矿型;B. 闪锌矿型;C. 六方对称性;D. 立方对称性;E.间接带隙;F. 直接带隙。

4、同一种施主杂质掺入甲、乙两种半导体,如果甲的相对介电常数εr是乙的3/4,m n*/m0值是乙的2倍,那么用类氢模型计算结果是( D )。

A.甲的施主杂质电离能是乙的8/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的3/4B.甲的施主杂质电离能是乙的3/2,弱束缚电子基态轨道半径为乙的32/9C.甲的施主杂质电离能是乙的16/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的8/3D.甲的施主杂质电离能是乙的32/9,的弱束缚电子基态轨道半径为乙的3/85、.一块半导体寿命τ=15µs,光照在材料中会产生非平衡载流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡载流子将衰减到原来的(C )。

A.1/4 ; B.1/e ; C.1/e2; D.1/26、对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体,在温度足够高、n i>> /N D-N A/ 时,半导体具有( B )半导体的导电特性。

A. 非本征 B.本征7、在室温下,非简并Si中电子扩散系数Dn与ND有如下图(C )所示的最恰当的依赖关系:DnDnDnDn8、在纯的半导体硅中掺入硼,在一定的温度下,当掺入的浓度增加时,费米能级向(A )移动;当掺杂浓度一定时,温度从室温逐步增加,费米能级向( C )移动。

最新电子科技大学半导体物理期末考试试卷A试题答案

最新电子科技大学半导体物理期末考试试卷A试题答案

电子科技大学二零 一零 至二零 一一 学年第 一 学期期 末 考试1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲. 含铝1×10-15cm -3 乙.含硼和磷各1×10-17cm -3 丙.含镓1×10-17cm -3室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是(C )A. 甲乙丙B. 甲丙乙C. 乙甲丙D. 丙甲乙3.题2中样品的电子迁移率由高到低的顺序是( B )4. 题2中费米能级由高到低的顺序是( C )5. 欧姆接触是指( D )的金属一半导体接触A. W ms = 0B. W ms < 0C. W ms > 0D. 阻值较小且具有对称而线性的伏安特性6.有效复合中心的能级必靠近( A )A. 禁带中部B.导带C.价带D.费米能级7.当一种n 型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n 0B.1/△nC.1/p 0D.1/△p8.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度9.MOS 器件绝缘层中的可动电荷是( C )A. 电子B. 空穴C. 钠离子D. 硅离子10.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN二、解释并区别下列术语的物理意义(30 分,7+7+8+8,共4 题)1. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量(7 分)答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。

有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。

在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。

17-18华南农业大学期末考试试卷半导体物理A

17-18华南农业大学期末考试试卷半导体物理A

华南农业大学期末考试试卷(A卷)2017-2018学年第一学期考试科目:半导体物理考试类型:(开卷)考试考试时间:120 分钟学号姓名年级专业一、选择题(本大题共20 小题,每小题 1 分,共20 分。

请将正确答案填在下面表格内,写在其它位置无效。

)1. 硅的晶体结构是()A.金刚石B.闪锌矿C. 纤锌矿D.氯化钠2. 历史上锗在同硅的竞争中失利,最不可能的原因是()A.硅便宜而锗贵B.锗的氧化物不如硅的氧化物稳定C. 同硅相比,锗容易碎D.硅最早进入人们视线,先入为主3.同硅相比,砷化镓具有一些明显优点。

下面不属于其优点的是()A.频率特性好B. 工作温度高C. 光电性能好D. 毒性小4.以下不属于深能级杂质特点的关键词是()A. 杂质浓度高B. 复合中心C. 电子陷阱D. 高速器件5.哪位发明家根据爱迪生效应制造出真空二极管?()A. 爱迪生B.弗莱明C. 史密斯D. 布劳恩6.下面那个选项为挥发性半导体存储器? ()A. FLASHB.DRAMC. EEPROMD. P ROM7.人眼所见之白色光至少包括几种以上波长之色光所形成? ()A. 一种B.二种C. 三种D. 四种8.砷化镓的禁带宽度大约为1.41eV,请问其发光频率在什么范围?()A. 紫外光B.紫光C. 红光D. 红外光9.打印机里的硒鼓是一只表面上涂覆了硒的圆筒。

请问用于硒鼓上的硒利用了半导体的那种性质工作?A. 温度特性B.光电导特性C. 光伏特性D. 电容特性10.量子隧穿效应经常用于解释半导体器件的工作原理。

请问下面那个器件(或结构)的工作原理与隧穿效应无关?()A. 江崎二极管B.稳压二极管C. 金属-半导体欧姆接触D. 整流二极管11.下面说法中错误的是()A. 目前我国常用蓝光芯片的材质为InGaNB. Ⅲ、Ⅴ族杂质在硅和锗晶体中为深能级杂质C. 硅晶体结构是金刚石结构D. 砷化稼的能带结构是直接带隙结构12. 关于pn结,下列说法中不正确的是()A. pn结是结型半导体器件的心脏。

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案..讲解学习

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案..讲解学习

电子科技大学二零 九 至二零 一零 学年第 一 学期期 末 考试半导体物理 课程考试题 A 卷 ( 120分钟) 考试形式: 闭卷 考试日期 2010年 元月 18日课程成绩构成:平时 10 分, 期中 5 分, 实验 15 分, 期末 70 分一、选择题(共25分,共 25题,每题1 分)A )的半导体。

A. 不含杂质和缺陷B. 电阻率最高C. 电子密度和空穴密度相等D. 电子密度与本征载流子密度相等2、如果一半导体的导带中发现电子的几率为零,那么该半导体必定( D )。

A. 不含施主杂质B. 不含受主杂质C. 不含任何杂质D. 处于绝对零度3、对于只含一种杂质的非简并n 型半导体,费米能级E F 随温度上升而( D )。

A. 单调上升B. 单调下降C. 经过一个极小值趋近EiD. 经过一个极大值趋近Ei4、如某材料电阻率随温度上升而先下降后上升,该材料为( C )。

A. 金属 B. 本征半导体 C. 掺杂半导体 D. 高纯化合物半导体5、公式*/m q τμ=中的τ是半导体载流子的( C )。

A. 迁移时间 B. 寿命 C. 平均自由时间 D. 扩散时间6、下面情况下的材料中,室温时功函数最大的是( A ) A. 含硼1×1015cm -3的硅 B. 含磷1×1016cm -3的硅 C. 含硼1×1015cm -3,磷1×1016cm -3的硅 D. 纯净的硅7、室温下,如在半导体Si 中,同时掺有1×1014cm -3的硼和1.1×1015cm -3的磷,则电子浓度约为( B ),空穴浓度为( D ),费米能级为( G )。

将该半导体由室温度升至570K ,则多子浓度约为( F ),少子浓度为( F ),费米能级为( I )。

(已知:室温下,n i ≈1.5×1010cm -3;570K 时,n i ≈2×1017cm -3)A 、1×1014cm -3B 、1×1015cm -3C 、1.1×1015cm -3D 、2.25×105cm -3E 、1.2×1015cm -3F 、2×1017cm -3G 、高于EiH 、低于EiI 、等于Ei8、最有效的复合中心能级位置在( D )附近;最有利陷阱作用的能级位置在( C )附近,常见的是( E )陷阱。

2006-半导体物理期末考试试卷A

2006-半导体物理期末考试试卷A

………密………封………线………以………内………答………题………无………效……电子科技大学二零零五至二零零六学年第一学期期末考试半导体物理课程考试题 A 卷(120分钟)考试形式:闭卷考试日期200 6年1 月13日注:1、本试卷满分70分,平时成绩满分10分,实验成绩满分10分;期中考试成绩10分。

2.、本课程总成绩=试卷分数+平时成绩+实验成绩。

课程成绩构成:平时分,期中分,实验分,期末分一、多选题:(18分)1.对于一定的p型非简并半导体材料,掺杂浓度降低将导致禁带宽度(),本征流子浓度();A、增加,B、不变,C、减少。

2. 对于一定的n型非简并半导体材料,温度一定时,减少掺杂浓度,将导致()靠近Ei;A、Ec , B、Ev, C、Eg, D、EF3. 热平衡时,半导体中的电子浓度与空穴浓度之积为常数,它只与()有关,而与()无关;A、杂质浓度B、杂质类型C、禁带宽度,D、温度4. 当施主能级ED 与费米能级EF相等时,电离施主的浓度为施主浓度的()倍;A、1,B、1/2,C、1/3,D、1/4。

5. 对于非简并Si单晶样品,温度降低使得其禁带宽度(),其本征载流子浓度()。

A、增加B、不变C、减小6. 影响非简并掺杂半导体器件性能的两种主要载流子的散射机制是():A、位错散射B、晶格振动散射C、中性杂质散射D、电离杂质7. n型和p型两片GaAs晶片是均匀掺杂的,即N D(n型)=N A(p型)》n i。

那么n型晶片的多子浓度()p型晶片的多子浓度。

n型晶片的电阻率()p型晶片。

………密………封………线………以………内………答………题………无………效……A、等于B、大于C、小于8. 300K下,轻掺杂p型Si变为重掺杂p型Si后其电子迁移率将(),空穴迁移率将()。

A、增加B、不变C、减小9. 描述载流子输运的重要特性时,载流子的迁移率是与()相关的参数,扩散系数是与()相关的参数。

A、扩散运动B、漂移运动C、热运动10. “表面电场效应”是指载流子被平行于半导体表面的电场加速的现象。

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案

一、填空题1.纯净半导体Si 中掺V 族元素的杂质,当杂质电离时释放 电子 。

这种杂质称 施主 杂质;相应的半导体称 N 型半导体。

2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做 扩散 运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做 漂移 运动。

3.n o p o =n i 2标志着半导体处于 平衡 状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变 ;当温度变化时,n o p o 改变否? 改变 。

4.非平衡载流子通过 复合作用 而消失, 非平衡载流子的平均生存时间 叫做寿命τ,寿命τ与 复合中心 在 禁带 中的位置密切相关,对于强p 型和 强n 型材料,小注入时寿命τn 为 ,寿命τp 为 .5. 迁移率 是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量, 扩散系数 是反映有浓度梯度时载 qn n 0=μ ,称为 爱因斯坦 关系式。

6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射 和 晶格振动散射 。

前者在 电离施主或电离受主形成的库伦势场 下起主要作用,后者在 温度高 下起主要作用。

7.半导体中浅能级杂质的主要作用是 影响半导体中载流子浓度和导电类型 ;深能级杂质所起的主要作用 对载流子进行复合作用 。

8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲 含铝1015cm -3 乙. 含硼和磷各1017 cm -3 丙 含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是 乙 甲 丙 。

样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙 。

费米能级由高到低的顺序是 乙> 甲> 丙 。

9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为非简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。

10.当P-N 结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为 PN 结击穿 ,其种类为: 雪崩击穿 、和 齐纳击穿(或隧道击穿) 。

半导体物理试卷及答案

半导体物理试卷及答案

《 半导体物理 》课程考试试卷( A )开课二级学院:,考试时间: 年____月____日 时考试形式:闭卷√、开卷□,允许带 计算器 入场考生姓名: 学号: 专业: 班级:一、选择题(每小题2分,共10分) 1、室温下一硫化镉样品的可动载流子密度为16310cm -,迁移率为2100/cm Vs ,则此样品的电导率是 1()cm -Ω。

A .16 B .17 C .18 D .192、一块2cm 长的硅片,横截面是20.1cm ,用于测量电子迁移率。

已知掺杂浓度为15310D N cm -=,测得电阻值为90Ω,则其电子迁移率为 2/cm Vs 。

A .1450 B .550 C .780 D .1390 3、室温下,费米分布函数在F E 处的值为 A .0 B .0.5 C .0.56 D .1 4、对某块掺杂硅材料在整个温度范围内测量霍尔系数,结果均为0H R <,则该材料的导电类型为 A .N 型 B .P 型 C .本征 D .不确定 5、一个零偏压下的PN 结电容,每单位面积的耗尽层电容20.772/d C mF m =,硅的介电常数s ε为1211.88.8510/F m -⨯⨯,则耗尽层宽度是A .135m μB .125m μC .135nmD .125nm 二、判断题(每小题2分,共10分) 1、载流子的扩散运动产生漂移电流。

( ) 2、简并化半导体的主要特点是掺杂浓度很低。

( ) 3、SiC 是宽带隙的半导体材料。

( ) 4、弗仑克尔缺陷是指空位和间隙原子成对出现的缺陷。

( ) 5、对于窄禁带半导体材料,热电击穿是重要的击穿机制。

()三、填空题(每空2分,共10分)1、有效的陷阱中心能级在附近。

n p= 。

2、一定温度下,非简并半导体的热平衡载流子浓度的乘积003、最初测出载流子有效质量的实验名称是。

4、金属半导体接触可分为两类,分别是和欧姆接触。

5、不含任何杂质和缺陷的理想半导体称为半导体。

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赣 南 师 范 学 院2010–2011学年第一学期期末考试试卷(A 卷)开课学院:物电学院 课程名称:半导体物理学 考试形式:闭卷,所需时间:120分钟注意事项:1、教师出题时请勿超出边界虚线; 2、学生答题前将密封线外的内容填写清楚,答题不得超出密封线; 3、答题请用蓝、黑钢笔或圆珠笔。

一、填空题(共30分,每空1分) 1、半导体中有 电子 和 空穴 两种载流子,而金属中只有 电子 一种载流子。

2、杂质原子进入材料体内有很多情况,常见的有两种,它们是 替代式 杂质和间隙式 杂质。

1、 3、根据量子统计理论,服从泡利不相容原理的电子遵从费米统计率,对于能量为E 的一个量子态,被一个电子占据的概率为()f E ,表达式为 ,()f E 称为电子的费米分布函数,它是描写 在热平衡状态下,电子在允许的量子态上如何分布 的一个统计分布函数。

当0F E E k T ->>时,费米分布函数转化为()B f E ,表达式为 ,()B f E 称为电子的玻尔兹曼分布函数。

在0F E E k T ->>时,量子态被电子占据的概率很小,这正是玻尔兹曼分布函数适用的范围。

费米统计率与玻尔兹曼统计率的主要差别在于 前者受泡利不相容原理的限制 ,而在0F E E k T ->>的条件下,该原理失去作用,因而两种统计的结果变成一样了。

4、在一定温度下,当没有光照时,一块n 型半导体中, 电子 为多数载流子, 空穴 是少数载流子,电子和空穴的浓度分别为0n 和0p ,则0n 和0p 的关系为 大于 ,当用g h E ν>>(该半导体禁带宽度)的光照射该半导体时,光子就能把价带电子激发到导带上去,此时会产生 电子空穴对 ,使导带比平衡时多出一部分电子n ,价带比平衡时多出一部分空穴p ,n 和p 的关系为 ,这时把非平衡电子称为非平衡 多数 载流子,而把非平衡空穴称为非平衡 少数 载流子。

在一般小注入情况下,在半导体材料中,非平衡 多数 载流子带来的影响可忽略,原因是 注入的非平衡多数载流子浓度比平衡时的多数载流子浓度小得多 ,而非平衡 少数 载流子却往往起着重要作用,原因是 2、 注入的非平衡少数载流子浓度比平衡时的少数载流子浓度大得多。

5、非平衡载流子的复合,就复合的微观机构讲,大致可分为两种,直接复合和间接复合,直接复合是指 电子在导带和价带之间的直接跃迁,引起电子和空穴的直接复合 ,间接复合是指 电子和空穴通过禁带的能级(复合中心)进行复合 。

载流子在复合时,一定要释放出多余的能量,放出能量的方法有三种,分别为 、 、 3、 发射光子 发射声子 将能量给予其它载流子,增加它们的动能 。

6、在外加电场和光照作用下,使均匀掺杂的半导体中存在平衡载流子和非平衡载流子,由于 半导体表面非平衡载流子浓度比内部高 ,从而非平衡载流子在半导体中作 运动,从而形成 电流,另外,由于外加电场的作用,半导体中的所有载流子会作运动,从而形成 电流。

二、选择题(共10分,每题2分) 1、本征半导体是指 的半导体。

A 、不含杂质和缺陷B 、电子密度与空穴密度相等C 、电阻率最高D 、电子密度与本征载流子密度相等 2、在Si 材料中掺入P ,则引入的杂质能级 A 、在禁带中线处 B 、靠近导带底 C 、靠近价带顶 D 、以上都不是3、以下说法不正确的是A 、价带电子激发成为导带电子的过程,称为本征激发。

B 、本征激发后,形成了导带电子和价带空穴,在外电场作用下,它们都将参与导电。

C 、电子可以从高能量的量子态跃迁到低能量的量子态,并向晶格释放能量。

D 、处于热平衡状态下的导电电子和空穴称为热载流子。

4、以下说法不正确的是A 、对n 型半导体,随着施主浓度N D 的增加,费米能级E F 从禁带中线逐渐向导带底方向靠近。

B 、对p 型半导体,随着受主浓度N A 的增加,费米能级E F 从禁带中线逐渐向价带顶方向靠近。

C 、杂质半导体中载流子浓度和费米能级E F 的位置由杂质浓度所决定,与温度无关。

D 、在杂质半导体中,费米能级EF 的位置不但反映了半导体的导电类型,而且还反映了半导体的掺杂水平。

5、关于电中性方程00D A p n n p +-+=+,说法不正确的是A 、这是含有一种施主杂质和一种受主杂质情况下的电中性条件。

B 、它的意义是半导体中单位体积内带正电的空穴数等于单位体积中带负电的电子数。

C 、半导体中荷电的包括导带电子、价带空穴、电离施主和电离受主。

D 、该条件下,宏观状态表现为半导体不显电性。

三、计算题(共60分)1、(1)试说明在室温下,某半导体的电子浓度n n =其电导率σ为最小值。

式中i n 是本征载流子浓度,,p n μμ分别为空穴和电子的迁移率。

试求在上面条件时的空穴浓度和电子浓度。

(2)当133222.510/,1900/(),3800/()i p n n cm cm V s cmV s μμ=⨯=⋅=⋅时,试求Ge 的本征电导率和最小电导率。

(3)试问当0n 和0p (除了00i n p n ==时)为何值时,该Ge 材料的电导率等于本征电导率? (本题20分)一、解:(1)因为n p nq pq σμμ=+,又2i np n =,所以22i n p i n nq q n n σμμ=+≥=根据不等式的性质,当且仅当n nq μ=2i p n q nμ时,上式取等。

解得:1/2()p i nn n μμ=,即此时电导率σ最小。

相应地,此时21/2()i n ipn p n n μμ==(2)对本征Ge :13192()2.510 1.610(19003800)2.2810(/)i i n p n q S cm σμμ--=+ =⨯⨯⨯⨯+ =⨯在最小电导率条件下:min1319((2(2.510)(1.610)/n pi n q n q n S cm σμμ--2=+ =2 =⨯⨯⨯⨯ =2.12⨯10()(3)当材料的电导率等于本征电导率时,有:00()n p i n p n q p q n q μμμμ+=+即:200()i n p i n p n n q q n q n μμμμ+=+整理得:2200()0n i n p ip n n n n μμμμ-++=解得:0nn =带入数据得:00()2i i n n n n ==舍或∴1330 1.2510/2in n cm ==⨯ 213300510/i n p cm n ==⨯显然,此材料是p 型材料。

2、设空穴浓度是线性分布,在3μm 内浓度差为1015cm -3,2400/()p cm V s μ=⋅。

试计算空穴扩散电流密度。

(室温下)(本题10分)空穴扩散电流密度:()p pd pJ qD dx扩=- 由题意,空穴线性分布,且在3μm 内浓度差为1015cm -3,则空穴的浓度梯度为:1531844()10 3.310310d p x cm cm dx cm---=-=-⨯⨯ 根据爱因斯坦关系式:0ppD k Tqμ=0p p k T D q μ=∴002184192()0.026400/()( 3.310)3.410/()p p p k T d p d pJ q k T q dx dxeV cm V s cm C s cm μμ-⨯⨯=-⨯⨯=-⨯⋅⨯-⨯=⨯⋅扩=-3、施主浓度17310D N cm -=的n 型硅,室温下的功函数是多少?若不考虑表面态的影响,它分别同Al ,Au 接触时,形成阻挡层还是反阻挡层?(对硅:电子亲和能取4.05eV ,1932.810/c N cm =⨯;功函数: 4.18Al W eV =, 5.20Au W eV =) (本题10分)4、一单晶硅中均匀地掺入如下杂质:掺磷1631.510cm -⨯,掺硼153510cm -⨯。

试计算: (1)室温下载流子浓度和费米能级的位置。

(2)室温下的电导率。

(3)T=600K 时的载流子浓度。

已知:室温下,本征载流子浓度=1031.510cm -⨯,电子迁移率=21000/cm V s ⋅,空穴迁移率=2400/cm V s ⋅,电子电荷=191.610C -⨯,600K 下的本征载流子浓度=153610cm -⨯。

(1()ln(sh x x -=) (本题20分)(1)令D N +和A N -表示电离施主和电离受主的浓度,则电中性方程为00A D n N p N -++=+ (I )室温下,半导体处于过渡区,杂质已全部电离,153510A A N N cm --==⨯,1631.510D D N N cm +-==⨯,代入(I )式整理得:16300 1.010n p cm --=⨯ (II )又200i n p n = (III ),1031.510i n cm -=⨯ (IV),联立(II )、(III )、(IV)式可解得:1630430 1.0102.210n cmp cm--⎧=⨯⎪⎨=⨯⎪⎩ 11001631531103*()()221.5105100.026()2 1.5100.35D D AF i i i ii i N N N E E k Tsh E k Tsh n n cm cm E eV sh cm E eV-------=+=+⨯-⨯=+⨯⨯⨯=+即此时费米能级在禁带中线上面0.35eV 处。

(2)电导率00n p n q p q σμμ=+ 由于00n p ,故可忽略空穴对电流的作用,即此时01632191.0101000/ 1.6101.6/nn q cm cm V s C S cmσμ--==⨯⨯⋅⨯⨯= (3)T=600k 时,半导体处于本征激发区,本征激发开始起主要作用。

此时,杂质已全部电离,(II )、(III)式仍然成立。

该温度下 153610i n cm -=⨯ (V )联立(II )、(III )、(V)式解得:16301530 1.3102.810n cmp cm--⎧=⨯⎪⎨=⨯⎪⎩。

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