工程师技术讲解:基于单硅后级的电路仿真

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单级阻容耦合晶体管放大器电路设计与仿真

单级阻容耦合晶体管放大器电路设计与仿真

单级阻容耦合晶体管放大器电路设计与仿真单级阻容耦合晶体管放大器是一种常见的放大电路,用于增强信号的幅度。

通过适当的电路设计,我们能够实现理想的电压放大效果,并通过仿真验证其性能。

在电子技术领域中,放大器被广泛应用于各种电子设备中。

单级阻容耦合晶体管放大器具有简单、稳定、易于调整的特点,因此备受关注。

本文将介绍单级阻容耦合晶体管放大器的电路设计原理及其仿真方法,希望能给电子技术爱好者提供一些参考。

二、电路设计原理1. 选择晶体管型号在开始设计之前,我们需要选择适合的晶体管型号。

不同的应用场景可能需要不同的参数要求,因此需要根据具体的需求选择合适的型号。

2. 电路基本原理单级阻容耦合晶体管放大器的基本原理是利用晶体管的放大特性,通过控制基极电流来实现信号放大。

通过阻容耦合方式将输入信号耦合到晶体管的基极,然后通过集电极电阻来输出放大后的信号。

3. 电路参数计算根据放大器的设计要求,我们需要计算出合适的电路参数。

这些参数包括输入电阻、输出电阻、放大倍数等。

通过合理地选择电阻和电容的数值,可以获得较好的电路性能。

三、电路仿真方法1. 选择仿真软件在进行电路仿真之前,需要选择一款合适的仿真软件。

常用的仿真软件有Multisim、LTspice等,可以根据实际情况选择最适合的软件。

2. 构建电路模型根据设计原理和计算结果,利用仿真软件搭建出单级阻容耦合晶体管放大器的电路模型。

确保连接正确并符合设计要求。

3. 设置仿真参数在进行仿真前,需要设置仿真参数。

这些参数包括输入信号的幅度、频率、直流偏置电压等。

确保仿真环境与实际应用场景相符。

4. 仿真结果分析进行仿真后,我们可以分析输出信号的波形、频谱,以及电压增益等性能指标。

通过这些结果,可以评估电路设计的合理性,并在需要时进行调整。

单级阻容耦合晶体管放大器是一种常见且实用的电路结构,通过合理的设计和仿真可以获得较好的放大效果。

在实际应用中,需要根据具体要求选择合适的晶体管型号,并进行电路参数计算和仿真分析,以保证电路的性能。

基于Proteus仿真的单向可控硅实训电路设计

基于Proteus仿真的单向可控硅实训电路设计
2 01 1, 1 3( 1 ): 8 4 -8 5.
( 三) 考 核 中待 解 决 的 问题 我 们 采 取 开 卷 考 核 的 办 法 进 行 了 几 年 的 期 末 考
核 。 与 环 境 影 响 评 价 工 程 师 考 核 大 纲 比较 . 涉 及 的 环
业 技 能 水 平 , 同 时 提 高 自身 的 科 研 能 力 。以 下 针 对 一
个基于 P r o t e u s仿 真 的 可 控 硅 测 试 电 路 实 训 项 目 进 行
分 析 研 究
观 题 。我 们 考 试 的 内 容 比 环 评 师 考 试 的 内 容 要 稍 少 一
些 . 题 型 选 择 比环 评 师 考 试 的 形 式 更 灵 活 一 些 . 包 括
李 杰
( 重 庆 市龙 门浩 职 业 中学校 重 庆 4 0 1 3 3 6 ) 摘要: 中 等 职 业 学 校 的 培 养 目标 强 调 : 在 重视 学 生 专 业 理 论 知 识 教 学 的 同 时 , 更 注 重 学 生 专 业 技
能的锻炼 、 培养 、 提高 , 以 及做 人 做 事 能 力 的增 强 。 目前 , 中 职 学 校 的 各 级 各 类 专 业 技 能 大 赛 日益 增 多, 专 业 实训 技 能 教 学 水 平 亟 须 快速 提 高 , 而 专 业 技 能 必须 以 专 业理 论 为 基 础 和 依 据 。 因 此 , 实训 项 目的 钻研 、 开发、 设计 , 理 实 一 体 化 教 学 模 式 的 实 施 就 显 得 越 来 越 重 要 。 利 用 电 子 仿 真 软 件 帮 助 我 们
选择题 、 填 空题 、 简答 题 、 计 算 题 和 案 例 分 析 题 。 在 知
识 点 上 . 既 考 核 学 生 对 基础 知 识 的掌 握 程 度 . 也 考 核 学 生 将 环 评 知 识 应 用 到 实 际 案 例 分 析 中 的 能 力

半导体工艺学silvaco仿真实验报告

半导体工艺学silvaco仿真实验报告
2013半导体工艺学silvaco仿真实验报告电子1102112140492511硅的局部氧化工艺中鸟嘴效应的仿真2512混合环境的氧化2515locos工艺中多晶硅缓冲2519沟槽侧墙向氧化的方向性25110沟槽氧化过程中的无效区的形成2411硼掺杂和退火2412硼扩散的氧化增强效应2413砷对晶格的损伤的扩散增强效应2417发射极推进效应102419砷的激活1124112铟掺杂和退火122312使用svdp模型倾斜角的依靠性122313使用svdp模型掩蔽层厚度的依赖性132315离子注入剂量对p沟道的影响142316使用高能量掺杂倒掺杂阱的形成152318磷穿过厚氮化硅层的掺杂162319掺杂的横向蔓延1723110用高倾角形成ldd1823115202811投影式光刻仿真202813用相移掩膜技术psg进行平坦光刻2128120显影坚膜后的光刻胶流动模型2228125光学邻近修正掩膜板242711淀积机器比较252719沟槽的填充和平面化2527117传统淀积2627119互联的刻蚀回流和金属化282616使用钛化硅的自对准工艺302713沟槽刻蚀
半导体工艺学 silvaco 仿真实验报告
电子 1102 11214049
浦探超
2013
目录
一、 氧化...................................................................................................................................2 25.1.1 硅的局部氧化工艺中鸟嘴效应的仿真.....................................................................2 25.1.2 混合环境的氧化..........................................................................................................3 25.1.5 LOCOS 工艺中多晶硅缓冲..........................................................................................4 25.1.9 沟槽侧墙向氧化的方向性.........................................................................................5 25.1.10 沟槽氧化过程中的无效区的形成............................................................................6

单晶Si太阳能电池工艺仿真与性能分析

单晶Si太阳能电池工艺仿真与性能分析
通 大 学 江 苏 省 专 用 集 成 电 路 设 计 重 点 实 验 室 苏 南 通 ( ,江 1 南 226019 ; 谷 科 技 海 ,上 2 矽 200040) :日 摘 要 益 成 熟 的 集 成 电 路 工 艺 与 器 件 计 算 机 辅 助 设 计 工 具 有 助 于 缩 短 半 导 体 工 艺 和 器 件 的 开 发 周 期 低 开 发 成 本 而 越 来 越 被 广 泛 应 用 于 具 出 了 一 种 简 单 太 、降 ,因 。基 ,给 TCAD 工 pn 结 细 介 绍 了 其 短 路 电 流 路 电 压 充 因 子 以 及 转 换 效 率 等 性 能 参 数 的 阳 能 电 池 的 工 艺 过 程 ,详 、开 、填 仿 真 方 法 以 衬 底 上 单 晶 阳 能 电 池 为 例 别 讨 论 了 其 伏 安 特 性 谱 特 性 度 ,并 ,分 、光 、照 p型 Si 太 实 验 方 法 相 比 较 于 辅 助 设 计 方 法 对 加 快 国 内 太 阳 能 电 池 工 艺 的 特 性 和 温 度 特 性 。与 ,基 TCAD 的 技 术 发 展 将 起 到 积 极 的 作 用 。 :计 ;硅 ; pn 结 ;伏 关 键 词 算 机 辅 助 设 计 太 阳 能 电 池 安 特 性 : TM914 文 :A 文 : 1003353X ( 中 图 分 类 号 献 标 识 码 章 编 号 2010) 03020904
of ASIC Design
, Luo Xiangdong , Chang Zhiqiang


: The simulation tools for technology computer aided design could be useful for time saving and cost consumption and has been more and more widely used . Based on TCAD tools, the simple processes for a pn junction solar cell were presented, the simulation methods for solar cell ’ s parameters, such as short circuit current , opencircuit voltage, filling factor, as well as conversion efficiency, were discussed . And the IV curve, spectrum, illumination and temperature characteristics of monocrystalline silicon with ptype substrate were analyzed . Compared with the experimental method, the aided design method which is based on

单硅机后级混频电路

单硅机后级混频电路

单硅机后级混频电路单硅机后级混频电路一、前言单硅机(Monolithic Microwave Integrated Circuits)简称为MMIC(Microwave Monolithic Integrated Circuits),是在单晶片上实现的各种射频功能器件,具有小体积、重量轻、可缩短时间设计、高功率、较低成本等显著优点。

为了充分发挥MMIC功率积聚和低噪声收益的优势,一般会在MMIC的输入后面加一级后级混频放大器,一般称之为MMIC后级混频电路。

二、 MMIC后级混频放大器设计方法1、设计目标本文介绍单硅机后级混频放大器的设计方法,其基本目标是:(1)保证放大器输出功率;(2)保证放大器纹波和噪声指标满足要求;(3)输入和输出阻抗相匹配;(4)具有一定的功率动态范围;(5)尽可能的低功耗运行。

2、放大器设计步骤(1)根据系统需要,放大器设计的基本参数,如:输入输出阻抗、放大器增益,动态范围、纹波等指标;(2)确定放大器基本结构;(3)确定放大器的组件参数;(4)进行原理图连接以及PCB绘制;(5)检测组装的放大器;(6)总结放大器的工作性质和测试数据等。

三、 MMIC后级混频放大器电路特性分析1、增益和负载匹配MMIC后级混频放大器的增益具有很大的动态范围,一般大于20dB,可以满足系统的需要。

同时,放大器的输入和输出阻抗要符合设计要求,一般50Ω,可以通过采用合适的均衡器满足要求,从而提高放大器的增益。

2、噪声特性MMIC后级混频放大器的噪声指标要求很高,一般在3dB以内,主要取决于放大器结构、组件参数和工艺等因素。

3、纹波MMIC后级混频放大器的纹波也是一个十分重要的参数,一般都要求低于-35dBc/Hz,因此,设计放大器时,使用低频相位误差和低频噪声的低频增益环节有助于改善放大器的纹波情况。

四、结论MMIC后级混频放大器的设计是一种复杂的工作,要求掌握多方面的知识,从而确保放大器的各项性能指标能够满足系统的要求。

单硅机后级混频电路

单硅机后级混频电路

单硅机后级混频电路
单硅机后级混频电路是一种用于无线通信系统中的关键电路,它可以将不同频率的信号混合在一起,以便在接收端进行解调和处理。

在现代通信系统中,单硅机后级混频电路扮演着至关重要的角色,它可以实现高效的频谱利用和信号处理,从而提高通信系统的性能和可靠性。

单硅机后级混频电路通常由多个混频器和滤波器组成,其中混频器用于将输入信号的频率转换到所需的中频段,而滤波器则用于去除不需要的频率分量。

在混频器中,通常会使用局部振荡器来产生参考信号,以便与输入信号进行混频。

通过合理设计混频器和滤波器的参数,可以实现对输入信号的精确处理和转换。

在单硅机后级混频电路中,需要考虑的关键参数包括混频器的转换增益、转换损耗、输入输出阻抗匹配等,以及滤波器的通带和阻带特性。

通过优化这些参数,可以实现对不同频率信号的有效混合和处理,从而实现通信系统的高性能和稳定性。

除了混频器和滤波器之外,单硅机后级混频电路还可能包括放大器、功率分配器等辅助电路,以实现对信号的增强和分配。

这些辅助电路的设计和优化也对整个混频电路的性能起着至关重要的作用。

总的来说,单硅机后级混频电路是无线通信系统中不可或缺的一部分,它通过将不同频率的信号混合在一起,实现了高效的信号处理
和频谱利用。

在未来的通信系统中,随着技术的不断发展和进步,单硅机后级混频电路的设计和优化将会变得更加重要,以满足日益增长的通信需求和挑战。

希望通过不断的研究和创新,可以进一步提高单硅机后级混频电路的性能和可靠性,为通信系统的发展做出更大的贡献。

单硅后级电路制作流程

单硅后级电路制作流程

单硅后级电路制作流程(中英文实用版)Title: Single Silicon Sub-circuit Fabrication Process中文标题:单硅后级电路制作流程---English:The fabrication of a single silicon sub-circuit involves several critical steps.Initially, the design phase requires precise calculations and schematic drawings to ensure the circuit"s functionality.Once the design is finalized, the photolithography process is used to transfer the circuit pattern onto a silicon wafer.中文:单硅后级电路的制作包含几个关键步骤。

首先,设计阶段需要精确的计算和原理图绘制,以确保电路的功能性。

一旦设计完成,光刻工艺就被用来将电路图案转移到硅片上。

---English:After the pattern transfer, the wafer undergoes various cleaning processes to remove any contaminants that could affect the circuit"s performance.Then, the wafer is subjected to photoresist removal, dry etching, and chemical mechanical polishing to refine the circuit"s features.中文:在图案转移之后,硅片会经历各种清洁过程,以去除可能影响电路性能的杂质。

硅基晶体管的小信号放大器设计与仿真

硅基晶体管的小信号放大器设计与仿真

硅基晶体管的小信号放大器设计与仿真在电子工程领域中,硅基晶体管是一种常用的电子元件。

它是一种半导体器件,是电子器件中广泛使用的主要元件之一。

硅基晶体管广泛应用于放大电路、振荡电路、开关电路、逻辑门电路等。

在电子电路中,小信号放大器设计和仿真是一项非常重要的工作。

小信号放大器是电子电路中最常用的信号处理电路之一,其主要作用是将微弱的信号放大以便更好地处理和分析。

本文将介绍硅基晶体管小信号放大器的设计和仿真过程。

一、硅基晶体管介绍硅基晶体管是一种半导体器件,它的基本结构包括n型半导体、p型半导体和p-n结。

控制硅基晶体管导通的是基极电压,而集电极和发射极的工作状态由控制信号和基极电压的大小决定。

硅基晶体管的主要优点是可靠性高、工作稳定、制作成本低廉、尺寸小等。

二、小信号放大器的基础理论小信号放大器是一个以硅基晶体管为主要元件的电子电路,其作用是对微弱信号进行放大。

在设计小信号放大器时需要了解几个基本的理论:1、增益放大器的增益是指输出信号与输入信号之比。

增益常以分贝为单位表示,即增益分贝=20log(AV)。

其中,AV表示电压增益、电流增益或功率增益。

2、带宽放大器的带宽是指它能够放大的频率范围。

这个范围通常通过-3dB带宽来衡量。

3、输入阻抗和输出阻抗输入阻抗是指放大器对输入信号的阻碍程度,输出阻抗是指放大器输出端的阻抗。

在一些应用中,输入和输出阻抗的大小非常重要。

三、小信号放大器设计步骤一:选择晶体管硅基晶体管的选择是小信号放大器设计中非常重要的一步。

选用合适的晶体管不仅可以提高放大器的增益,还可以提高分辨率和减少噪声。

因此,在进行硅基晶体管小信号放大器设计时需要根据具体的应用场景选择合适的晶体管。

步骤二:确认电路拓扑小信号放大器的电路拓扑有很多种,包括共基极、共射极、共集极等。

不同的电路拓扑适用于不同的应用场景。

在选择电路拓扑时,需要权衡放大器的增益、输入阻抗、输出阻抗和带宽等因素。

步骤三:选取元件参数选取元件参数时需要考虑元件的特性、工作条件、放大器的要求等因素。

基于UC3842单端反激电源的设计与仿真分析

基于UC3842单端反激电源的设计与仿真分析

图1 UC3842的内部结构图图2 总体设计框图电压,再经过大容量滤波电容得到直流高压电。

输入额定电压为220V,电压最大值为311V,考虑2倍裕量,选择整流二极管1N4005(600V/1.0A),输出侧可选择容值为80μF电解电容。

3.2 反馈回路设计(图4)反馈回路采用精密稳压源TL431和线性光耦[14]袁先举,苌飞霸,王子洪等.医院应急调配设备及维修配件精准储备探讨[J].医疗卫生装备, 2021.[15]陈淑芬.医疗调配中心的实践探讨[J].中国医疗器械信息, 2017, 23(20):2.4N25A。

光耦工作在线性放大区,其电流放大系数传输比CTR 为20%。

其中,U o =12V,U re f =2.5V,=10mA。

UC3842外围电路设计选取R 17=1.2kΩ,C 假设开关电源效率为耐压,可选择3.5 变压器设计(表选磁芯材料和型号。

选用软磁铁氧体度的变化量△o nT max_=磁芯填充系数:铜的填充系数:电流密度:选用P A e1=0.297cm 计算变压器初级电感量。

DCM 模式在最大输出功率时,电流临界连续:计算铁芯上所开气隙的长度δ:(6)计算变压器原边绕组匝数:(7)取68匝,计算匝比,确定各副边绕组匝数:(8)1V 为输出整流二极管压降。

图3 稳压电源原理图图4 反馈回路表2 变压器技术指标电气性能指标断续模式(DCM)输入电压V in_min =249V 输出电压V O1=12V 输出功率24W 效率η=0.9输入功率P i n =26W 最大占空比0.45工作频率150kHz 输出电压纹波50mV表1 开关电源技术指标电气性能指标断续模式(DCM)输入电压176~264V 输出电压V O1=12V 输出功率24W 效率η=0.75输入功率P in =32W 最大占空比0.45工作频率150kHz 输出电压纹波50mV取5匝,计算变压器原副边绕组电流有效值。

变压器原边电流峰值为:P 2变压器原边电流有效值为:变压器各副边电流有效值为:(13)确定原副边导线线径和股数。

一种高温soi硅压阻压力芯片的设计与仿真

一种高温soi硅压阻压力芯片的设计与仿真
关键词:高温压力传感器;绝缘体上硅S0I;芯片敏感结构设计;有限元分析;最优尺寸
在航空测试领域,压力传感器主要配套给飞机控制系统、辅助 动力装置、环境控制系统、健康管理系统等,用于测量包括发动机 各截面、燃滑油管路、压气机进出口、飞机液压传动、推进器、座 舱气压等位置的压力。通过监测飞机、发动机主要部件的压力参数 及其变化,将信号输送给控制系统,进而实现对发动机的控制、健 康评估、故障预测和诊断2)。目前广泛使用的单晶硅压阻式压力
in
(1)
•基金项目:博士后国际交流计划引进项目(博管办[2018J115号);中国博士后科学基金第65批面上资助(2019M651934 ) 0
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电子技术 Electronic Technology
电子技术与软件工程 Electronic Technology & Software Engineering
电子技术与软件工程 Electronic Technology & Software Engineering
一种高温SOI硅压阻压力芯片的设计与仿真
文/王尊敬 李闯 涂孝军 路翼畅 (苏州长风航空电子有限公司传感器事业部江苏省苏州市215151 )
电子技术 Electronic Technology
30
40
50
60
1/h
40
30
25
22
20
表3: SOI压力芯片主要结构尺寸
参数
L
H
1
h
a]
a2
b
尺寸(gm) 2000 500 1000 40
50
30
5
表4:不同压力下传感器仿真输出电压
压力/MPa 0.25 0.5 0.75 1

单硅机后级电路原理

单硅机后级电路原理

单硅机后级电路原理今天来聊聊单硅机后级电路原理,这东西可真是有点意思呢。

我琢磨这个单硅机后级电路原理啊,就想起小时候玩的弹弓。

咱们先把弹弓拉开,就好比电路当中先积蓄能量,这弹弓拉开到一定程度就有了能把小石子弹射出去的力量,单硅机后级电路也是先积蓄电能。

那这个能量在电路里怎么体现呢?单硅机后级电路中有一个电容,这个电容就像一个小水库,把电能一点点储存起来。

说到这里,你可能会问,这电容储存了电然后又怎样呢?这就要说到控制电容放电的硅管了。

硅管就像一个阀门,控制着电容这个“小水库”什么时候把电放出去。

当它打开的时候,电流就像汹涌的洪水一样冲向外面。

但是这电流不是随便就能形成有效的作用的,还需要变压器的帮忙,变压器就像是一个魔法放大器,能把电压一下子变得很高很高。

打个比方吧,这就像把普通的小水流放进一个特殊的管道(变压器),出来的时候就变成了强大的水枪能够射得很远。

单硅机后级电路输出高电压、大电流的电脉冲,这个脉冲就会用于一些特殊的应用,比如在渔业方面电鱼的时候,这个强脉冲可以让鱼一下子被电晕,但要注意的是,电鱼在很多地方是违法行为,咱们在这里只是说这个电路的实际可能存在的功用原理。

我一开始也不明白这变压器是怎么把电压升得那么高的呢?其实这和变压器的线圈匝数有关系。

电流通过变压器初级线圈,根据电磁感应原理,在次级线圈就产生了更高或者更低的电压。

当初级线圈的匝数比次级线圈匝数少很多的时候,电压就被放大很多很多倍。

老实说,我还困惑这电路当中一些元件参数的细微调整会对电路整体性能有那么大影响。

学习这个原理的过程中,我发现做一些简单的实验,一点点改变电容的大小或者硅管的型号之类的,都会使输出的脉冲产生变化。

这就像在弹弓上更换不一样粗的皮筋或者不一样大小的弹丸,射出去的效果完全不同。

这单硅机后级电路原理还有很多值得深入研究的地方,它的实际应用不仅仅局限于刚刚提到的电鱼之类的,在一些工业检测甚至科学研究中也可能有应用,只是需要按照规定合法地去使用。

单硅机后级混频电路

单硅机后级混频电路

单硅机后级混频电路单硅机后级混频电路一、混频简介调制混频电路是把低频信号调制成高频点射信号的一种电路。

它隐含了两个基本功能:1.把低频信号放大,并调制成高频的点射信号;2.产生高精度的混频,以便在接收机的解调电路中引入稳定的载波。

这种电路可以用作普通的前级放大器,也可以作为信号发生器或调制器使用,是电视机有线、射频传感等多种通信设备中的重要组成部分。

单硅机混频电路的主要组成部分涉及到了功率放大器、调制器和混频器三个部分。

1.功率放大器用于放大输入的微弱信号,使其可以有效地调制到较高的射频;2.调制器将低频信号调制到射频信号上,使其能够发射出去;3.混频器将载波信号与调制信号进行混合,以产生点射信号。

二、单硅机混频器单硅机混频器是一种由同一种晶体管或同一种半导体构成的混频电路,它用来把较低频率的信号调制到较高频率的载波信号上,从而使射频信号能够有效地发射出去。

单硅机混频器的主要优点是在低成本和紧凑的封装结构中,能够提供高效率、高抗干扰能力以及高稳定度的射频信号。

其结构简单,占用空间小,且能够容易地利用技术进行调试,其功率规模的调整也可以通过芯片实现。

由于单硅机混频器采用的是单片晶体管元件,因此它的抗噪声能力和调制精度都比其他普通的混频电路要强,同时也可以降低准备成本,并且其结构也更加紧凑。

三、单硅机混频器的应用单硅机混频器是电视机有线、射频传感器、数据调制解调器、蜂窝等移动通信系统等多种通信设备的重要组成部分。

此外,它还可以用作收音机的前级放大器,用于多种低功耗、紧凑的收发信号应用。

单硅机混频器也可以用来解决许多无线电频率稳定和调制精度方面的问题,可以大大提高射频发射传输的效率,并且可以有效地抑制干扰信号,使发射的射频信号质量更高、更坚固。

逆变器单硅后极混频制作流程

逆变器单硅后极混频制作流程

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串LC单硅后级分析

串LC单硅后级分析

串LC单硅后级分析常见鱼机单硅后级电路,硅元件和loCo的联接方式有串联和并联之分,对负载而言有负载与locO并接的输出方式和电容并接的输出方式,并单硅电路我国使用比较普遍,以电容输出的变形并单硅用法和串联方式单硅电路国内使用较少,我们一般把它叫做单硅变形电路,下文是变形单硅电路的一种,即硅原件和LC回路是串接的硅后级电路,为叙述方便,我将其称为串单硅;电容输出的分析方法和它类似,有部分差别,本文主要详细分析串单硅后级的工作原理,参数选择特点和计算方法,图1是总参考图原理部分:<1>升压充电期间原理分析接通电源,前级DC-DC变换器经整流电路输出正常直流高电压,同时硅触发驱动电路启动开始工作,此时负载电阻R1由于硅处于关闭状态,负载上输出低电压.触发脉冲到来时,硅被触发,接通后级电路,负载开始得电,输出平顶直流电压部分,平顶电压数值为电源供电电压数值;后机电路为两路并联,硅导通后相当于导线接通,一路向负载供电,一路向另一与负载并联的LO CO RO支路供电,该支路工作时随参数选择不同工作的状况有如下几种情况(1)过阻尼方式,临界方式.这两种情况下电容CO最高电压为供电电压E,电容储能期间鱼机工作时为获得高电压高效省电尖脉冲,由于这种方式电容最高电压较低,一般不采用这种模式.(2)阻尼振荡工作方式:这种情况电容CO在工作中可以获得高于电源供电电压的峰值,选择不同LO CO RO电容峰值可在E-2E之间变化;Ro越小损耗越小,电容峰值越接近2E,越大电容最高电压越低,向E靠近,变形串单硅鱼机后级的尖脉冲形成就依赖于LO CO RO支路具有升压功能的阻尼振荡的模式.下图为升压期间工作电路说明图,其中图2为等效分解图和相关参考,图3为硅导通时LO CO RO支路电流充电路径图.<1>:充电升压期间的相关计算充电期间电流路径,临界以下过阻尼曲线b和阻尼振荡曲线a (1):LoCoRo,硅元件在充电期间形成升压阻尼振荡的前提条件及各相关参数间的关系(2)形成震荡的边界条件(3):阻尼振荡输出时最高Umax的确定:(4):鱼机使用情况下的实用关系计算式(5)曲线与周期偏移量的关系阻尼振荡前提条件下,理想状态为R0数值的时候,loCo对应的周期,当电阻R0不为零时不再完全有理性参数决定由于损耗震荡强度随电阻R0减弱不同,周期偏移量越大阻尼振荡电容的最高电压幅值越低,阶段性的成线性关系,图中显示了影响关系,理想状态下峰值最高可达2E.尖峰电压过低会影响捕鱼效果,实际使用时必须达到1.5E的电源电压,从图可以看出对应偏移量要小于3%以下(6):鱼机参数选择计算制约式充电期间电容升压的高低取决于loCoRo参数的选择,鱼机m常数实际值的选择最低1.5,(参见后面部分),上图为m=1.5时对应百分比近似为3时的参考图,不同的loCo在受脉宽的限制下不同取值时loCo回路总电阻(主要是导线阻值,电感阻值,可控硅导通阻值)必须小于上面边界参数,其他的可以参照上面计算改变相关比例.(7):充电期间lo Co Ro支路电流峰值的估算推导。

单硅后级关断原理

单硅后级关断原理

单硅后级关断原理嘿,朋友们!今天咱来聊聊单硅后级关断原理。

这玩意儿啊,就像是一场奇妙的电学魔法!你看啊,单硅就好像是一个特别厉害的指挥官,它掌控着电流的走向和开关。

当需要关断的时候,它就果断地发出指令,就像将军一声令下,千军万马都得听令!电流呢,就像是一群调皮的小孩子,在电路里跑来跑去。

而单硅后级关断原理就是要让这些调皮鬼在合适的时候停下来。

这可不容易啊,就好比让一群正在玩耍的孩子立刻安静下来,得有足够的威严和技巧才行!单硅怎么做到的呢?它就像是一个聪明的守门员,能精准地判断什么时候该拦住电流这个“球”。

它通过控制自身的状态,来决定电流能不能通过。

这多神奇啊!咱可以把这个过程想象成一条道路,电流是来来往往的车辆。

单硅呢,就是路口的红绿灯。

红灯一亮,车辆就得停下来;绿灯一亮,车辆就可以继续行驶。

是不是很好理解呀?要是没有单硅后级关断原理,那电流不就乱套啦?就像没有交通规则的道路,那得堵成啥样啊!而且很多电子设备不就没法正常工作了嘛。

你说这单硅后级关断原理重要不重要?那肯定重要得很呐!它让我们的电子世界变得有序、高效。

所以啊,可别小瞧了这单硅后级关断原理,它虽然看不见摸不着,但却在背后默默地发挥着巨大的作用呢!它就像一个幕后英雄,悄悄地守护着我们的电子生活。

没有它,咱的那些高科技玩意儿还不知道会变成啥样呢!你们说是不是这个理儿?它真的是太神奇啦,能让电流这么听话,乖乖地按照我们的要求来行动。

这就是科学的魅力啊,总是能创造出这么多让人惊叹的东西。

朋友们,好好感受一下单硅后级关断原理的神奇吧,它真的是电学领域的一颗璀璨明珠啊!让我们为这个伟大的原理点赞!原创不易,请尊重原创,谢谢!。

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工程师技术讲解:基于单硅后级的电路仿真电路模型:
仿真波形如下:
对仿真结果总结得到的是:电容在被反向充电达到顶峰后即向充电方向的反向放电,这时可控硅关断。

图中电容开始反向放电时假设参数如图:ik 为关闭前的维持电流,im 为为电感回路的最大峰值电流,总电流要满足下面的条件:iO=ik+iL------(1)
其中iL 此时有: im=iL---------(2)
有下面条件制约:1/2*C*U2 =1/2*L*i2 --------------(3)
此时U=E i=Im -------------(4)
(1) 式变形关闭条件: im(3)和(4)式得: im=(√C/L)*E------------(6)
iO=E/RO -------------------(7)
ik 大功率可控硅一般为几十mA 和总电流以及电容最大电流相比可以忽略不计,以利简化计算不影响结果分析。

上面两式合并为: (√C/L)*ERO可见是否关断与电源电压无关,只与电感、电容、负载有关。

捕鱼理论告诉我们:脉宽同样功率下最高效脉宽范围为(1---3) ms,常规选取一般电容最大取5UF 最小取2UF,脉宽3ms 计算,由下面公式计算: T=2∏√L*C-------(9)
有L 大约有(50---125)mh 范围;
如果取1ms,电容(2---5)UF,上面公式计算有:L 大约(6---14)mh,将条件带入(8)式计算: 第一种情况RO 关闭条件取值范围:。

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