真空脱气膜MD
真空脱气膜MD(课堂PPT)
Henry&Dalton定律的运用
Henry’s Law DOo2= H1 *Po2
Po2=H2* Ptotal
Vacuum
Dalton’s Law Ptotal=PH2o + PN2 + PO2+……
Gas strip
5 2020/6/20
MD操作模式的发展
Strip gas
48 Contactor
Water Flow Rate
(gal/min)
0 5 10 15 20 25 30 16
14
1
12 .75
10
8
Shellside
.50
6
4
.25
2
0 0 20 40 60 80 100 110
Water Flow Rate (liter/min)
1028 Contactor
Membrane Area: 15.1 ft2 (1.4 m2) All Polyolefin Contactor
4 x 28-inch Contactor Single Unit Capacity: 5 gpm – 30 gpm (1.1–6.8 m3/h) Membrane Area: 210 ft2 (19.5 m2) Vessel: Polypropylene, Stainless Steel or PVDF
UPW Tank
Polisher No.1
Polisher No.2
UV No.2
UV No.1
CfoOr 2IoRnemBeodvaLlife Extension
Final Filter POU
N2 , O2 Removal
膜蒸馏概述——精选推荐
膜蒸馏概述膜蒸馏概述2010-08-26 20：17膜蒸馏概述发布：多吉利来源：膜蒸馏概述同反渗透技术一样，膜蒸馏最初发展的一个主要推动力是准备用于脱盐，以替代传统的高能耗蒸馏方法。
与膜蒸馏有关的最早文献可能是Kober的论文，他观察到用胶棉袋子密封的硫酸钱水溶液体积不断减少，同时袋子的外侧出现硫酸按晶体。
他也注意到，甚至在远低于溶液沸点温度下，这种蒸发的速度也很可观。
对该现象的传递机理，Kober做出了两种猜测，其一，他认为胶棉袋子的材质类似凝胶(gels)，水可以从容器内侧扩散到外面，这种解释接近目前的渗透蒸发原理。
其二是，容器本身是有微孔的材料，因而蒸汽分子可以自由通过，但由于表面张力及其他原因，液体不能透过容器。
这种猜测并不能解释提到的现象(如容器外侧出现硫酸钱晶体)，但Kobc：的第二种解释已揭示了膜蒸馏的本质。
1963年，Bodell在一份专利中最早提出了膜蒸馏过程，但在专利中仅说明了膜蒸馏的应用，即用硅橡胶的管式膜制备饮用水。
1967年，wevll的专利中详细地描述了经改进的膜蒸馏装置。
通过weyl的改进，设计的装置通量为1kg/m2·h。
但与此同时出现的反渗透装置的水通量达到5一75 kg/m2·h，所以膜蒸馏逐渐被人们淡忘了。
60年代后期，Findley 发布了研究膜蒸馏的成果，包括基础理论和用各种不同膜的直接接触式膜蒸馏的实验结果。
尽管实验比较粗糙，但他还是成功定性地说明了膜孔中的空气、膜厚度和孔隙率的影响。
Rodger在1968至1975年间有多项专利被批准，几项专利着重开发用于膜蒸馏的板框式膜组件，将分离膜与换热隔层分割排布，以提高膜组件的热效率。
1971年的专利设计了多效膜蒸馏，以分离挥发性不同的组份，如重水的分离。
1972年的专利设计了膜蒸馏的脱盐工艺，包含了料液脱气、膜表面处理等工序在内的整个系统，使用的膜囊括如今使用的大部分材料，如PTFE、PP、PvDF以及疏水处理后的亲水膜。
脱气膜系列
脱气膜系列∙ETO脱O2膜|∙ETC脱CO2膜|∙ETN脱NH3膜|ETN脱气膜(脱NH3)所属类别：ETN脱NH3膜产品简介：ETN脱气膜系列采用艾吉克K40膜丝，孔隙率在艾吉克所有膜丝中最大，适合脱氨气过程中所需要的大气体通量。
主要用于脱除废水中的氨气。
详细信息膜接触器（脱气膜）用于废水脱氨的原理:氨氮在水中存在以下电离平衡：NH4+OH--→NH3+H2O随着PH升高，氨在水中以NH3气态形式存在的比例升高，在一定的温度和压力下，NH3的气态和液态两相达到平衡。
假若改变平衡系统的条件之一，如浓度、压力或温度，平衡就向减弱这个改变的方向移动。
脱气膜从废水中脱氨就是遵从这一原理而进行的过程：该过程的实质是扩散与吸收的连续过程，解吸与吸收在膜的两侧同时完成。
副产品铵盐的质量浓度可达20%~30%，成为清洁的工业原料，而废水中的氨氮可以降至1mg/L以下，适用于煤化工、制药、冶金等行业的高浓度氨氮废水处理。
ETN脱气膜用于废水脱氨的优点：a、氨脱除率高，可将废水中氨的含量降到5ppm以下；b、运行成本低，只有传统工艺的5%以下；c、设备占地面积小，只有传统工艺的三分之一以下；d、无氨气泄露，实现清洁生产。
ETN脱气膜用于废水脱氨系统：ETN脱气膜采用高分子聚烯烃复合物为原料，经艾吉克独有技术加工成特细中空纤维膜，具有膜接触面积大、膜丝强韧等特点。
跟国内其它同类产品比较，我们有以下几大优势：1、采用独特的拉伸技术，可以精确控制膜丝的开孔率，适合不同工艺用途；2、膜丝经过特殊疏水化处理（国内唯一），保证长时间的“过气不过水”；3、疏水之后的膜丝，采用了与进口产品相同的特殊编织工艺（国内唯一），使膜丝在组件内部填充更均匀，气/水两相接触面更大，从而脱气效率更高；4、组件封装上，我们同样是国内唯一一家采用了中间隔板的设置，使气/水两相接触更充分，脱气效果更好！以上技术和工艺是艾吉克公司经过多年摸索所得，解决了困扰国内膜接触器行业数十年的几个关键技术难题。
LIQIUCELL脱气膜膜手册
涂敷工厂的200 立方米/小时（880加仑/分钟）的14英寸膜系统微电子研究领域的18 立方米/小时（79加仑/分钟）的10英寸膜系统行业业绩 C on t a ct o rT yp ea聚烯烃膜容量Fiber Type1x3 辐射流式2.5x8 外流式4x13 外流式6x28 外流式6x28 无挡板10x28 外流式高纯度14x28 外流式X40X50XIND 聚烯烃膜微型膜组件 最大到200毫升/分钟X–1升/分钟布水管中空纤维液体出口膜丝滤芯外壳封闭端盖真空单个Liqui-Cel 6 x 28 NBTM膜元件处理容量：5-50加仑/分钟（1.1-11.4 立方米/小时）。
主要应用领域：只用于真空抽吸去除溶解氧。
Liqui-Cel NBTM设计是采用中空纤维膜的辐射流装置。
Liqui-Cel NBTM膜组件没有中间挡板。
而是由一个封闭端盖起导流挡板作用。
Liqui-Cel NBTM膜组件液体出口端在膜组件的侧面，液体辐射状流经中空纤维。
NB(无中间挡板)设计在没有吹扫气体只能采用真空抽吸操作模式的领域中具MiniModule ® 小型膜组件设计MiniModule ® 小型膜组件没有采用中间挡板导流设计。
这种膜组件采用液体从膜丝内壁流过，而膜丝外壁采用真空抽吸。
这些小型膜组件是为小流量而设计。
这些装置是专门用于生化技术和分析仪器的水中气体脱除。
模块化设计能够灵活地实现您的系统未来快速平衡方式保证了设备迅速启动。
单位体积内的膜面积最大化保证了产品的优秀性能和空间的使用效率。
不同的膜组件尺寸和材料选择适合于各种系统设计反渗透锅炉Liqui-Cel ®膜组件广泛用于各行各业。
在高纯和工业领域使用Liqui-Cel ®膜组件以提高产能和实现腐蚀控制已成为行业的标准。
下面图示当今Liqui-Cel ®膜组件的一些应用。
电脱盐/连续电脱盐反渗透离子交换反渗透反渗透在反渗透后离子交换或电脱盐（EDI）前去除CO2, 不仅减少化学消耗而且能使EDI达到最佳的运行状态。
脱气膜计算书
张先生:
您好! 感谢您的来电.
按照您的要求: 工艺流程为: 二级RO→EDI→N2封桶槽→liqui-cel脱DO→抛光混床
→P.O.U
流量分别为4m3/hr忽然1m3/hr,水温为常温,要求出口DO< 5ppb 设计结果见下表.
对于4m3/hr (见下表option1)采用4inch X-40 Fiber PP housing Extra-flow Liqui-cel，4 支串联即可达到您们的除氧要求。
采用吹N2加真空的方法, 吹N2的量为0.6m3/hr,N2的纯度要求为99.995%. 对应的真空泵(水封真空泵)尺寸是15.2m3/hr,真空度50torr的真空泵.
对于1m3/hr (见下表option2)采用4inch X-40 Fiber PP housing Extra-flow Liqui-cel，2 支串联即可达到您们的除氧要求。
采用吹N2加真空的方法, 吹N2的量为0.3m3/hr,N2的纯度要求为99.995%. 对应的真空泵(水封真空泵)尺寸是7.1m3/hr,真空度50torr的真空泵.
4 inch X-40 Fiber PP housing Extra-flow Liqui-cel CIF到上海的价格为：USD3400/pc
另外10×28 Extra-flow X-ind fiber, FRPhousing, contactor的价格有所变动, 出厂价格为USD 8,400/pc.
供货周期:收到订单后2～3周
付款方式: 全额预付款
如有问题,敬请联系,感谢您对liqui-cel产品的关注和支持!。
半导体行业超纯水制备用脱气膜组件产品认证技术要求
一、概述随着半导体产业的快速发展，超纯水作为半导体制造过程中的重要原材料，其制备和质量要求也日益严格。
其中，脱气膜组件产品作为超纯水的重要处理设备，其认证技术要求尤为关键。
本文将就半导体行业超纯水制备用脱气膜组件产品的认证技术要求进行探讨。
二、超纯水在半导体制造中的重要性1. 半导体生产工艺对超纯水质量的极高要求2. 超纯水在半导体生产工艺中的作用及影响三、脱气膜组件产品在超纯水制备中的作用1. 脱气膜组件产品的主要功能2. 脱气膜组件产品在超纯水制备中的应用四、脱气膜组件产品认证技术要求1. 膜材料的选择和性能要求脱气膜组件产品的认证技术要求首先包括膜材料的选择和性能要求。
膜材料需要具有较高的抗化学腐蚀性和耐温性，以保证在超纯水制备过程中的稳定性和持久性。
膜材料的透气性能也是认证的重要指标，需要保证脱气膜组件产品的脱气效率和处理能力。
2. 设计和制造工艺要求脱气膜组件产品的认证技术要求还涉及其设计和制造工艺。
要求脱气膜组件产品在使用过程中能够确保超纯水的无菌、无菌、耐高压和耐高温等特性。
脱气膜组件产品的密封性和稳定性也是认证的重要指标，需要经过严格的测试和检验。
3. 认证测试方法和标准脱气膜组件产品的认证技术要求还包括认证测试方法和标准。
这些测试方法和标准需要覆盖脱气膜组件产品在各种条件下的性能表现，包括透气性能测试、耐化学腐蚀性测试、耐温性测试、密封性测试等。
测试结果需要符合行业标准和规范，以确保脱气膜组件产品的质量和可靠性。
4. 服务和售后保障要求除了产品本身的技术要求，脱气膜组件产品的认证技术要求还应包括服务和售后保障方面的要求。
供应商需要提供产品的安装调试、使用培训和日常维护等方面的支持，确保脱气膜组件产品在使用过程中能够稳定可靠地工作。
五、结论在半导体行业超纯水制备中，脱气膜组件产品的认证技术要求至关重要。
只有满足了严格的膜材料性能、设计制造工艺、认证测试标准和服务保障要求，脱气膜组件产品才能够在超纯水制备过程中发挥其应有的作用，确保最终产品的质量和稳定性。
半导体厂工安、厂务常用缩写词语汇编
半导体厂常用缩写词语汇编ISEP Industrial safety and environmental protection 工业安全环保ESH Environment safety and health 环保安全卫生ERC Emergency Response Center 紧急应变中心GMS Gas Monitoring System 气体监测系统FA Fire Alarm system 火灾报警系统VESDA Very Early Smoke Detection Apparatus 极早期烟雾探测设备SPM Single Point Monitoring Gas Detector 单点气体侦测器SCBA Self-Contained Breathing Apparatus 自给式空气呼吸器ISO International Organization for Standardization 国际标准化组织4in1 CO, H2S, O2, LEL in one detector 四合一侦测器LEL Low Explosive Level 气体爆炸下限LAU Leak Alarm Unit 气体警报灯UV/IR Ultra-Violet Infrared 紫外红外火焰探测器SDS Safety Data Sheet 安全资料表FAC Facility 厂务CUP Central Utility Plant 中央动力厂房I&E Instrument and Electric Section 仪电系统课FMCS Facility Monitoring Control System 厂务监控系统MCC Motor Control Center 马达控制中心VFD Variable Frequency Device 变频器PA Public Address system 公共广播系统LCM Lighting Control Management 电灯管理系统SCADA Supervisory Control And Data Acquisition 监视控制和数据搜集系WTE Water Treatment Engineering Section 水处理课UPW Ultra-Pure Water 超纯水DI Deionize Water 去离子水ICW Industry City Water 工业用水CW City Water 自来水PCW Process Cooling Water 制程冷却水PV Process Vacuum 制程真空CV House Vacuum 清洁吸尘AWD Acid Waste Water Drain 一般废水N-AWD Ammonia Waste Water Drain 含氨废水HFD High Fluoride Waste Water 含氟废水LSR Local Scrubber Recycle Water 洗涤塔回收水RCW Reclaim water 制程回收再利用水BGW Backgrounding Waste Water 晶背研磨废水CMPD Chemical Mechanical Polishing Drain 化学机械研磨废水RO Reverse Osmosis 逆渗透膜TOC Total Organic Carbon 总有机碳MB Mixed Bed 混床UF Ultra Filtration 超滤SC Strong Cation 强阳离子SA Strong Anion 强阴离子WA Weak Anion 弱阴离子DO Dissolved Oxygen 溶解氧MD Membrane Degasify 脱气膜GC Gas and Chemical System Section 气化课GC Gas Cabinet 气瓶柜VMB Valve Manifold Box 阀箱VMP Valve Manifold Panel 阀盘PN2 Purification N2 纯化氮气GN2 General N2 一般用氮气CDA Compressor Dry Air 压缩干燥空气CQC Continuous Quality Control 连续品质控制系统CDS Chemical Dispense System 化学系统SDS Slurry Dispense System 化学研磨系统Bulk Gas 为大气中普遍存在之制程气体, 如N2, O2, Ar 等Inert Gas 为一些特殊无强烈毒性的气体, 如NH3, CF4, CHF3, SF6 等Toxic Gas 为具有强烈危害人体的毒性气体, 如SiH4, Cl2, BCl3 等.BSGS Bulk Special Gas Supply System 大宗特殊气体供应系统DCS Dichloro Silicane 二氯甲硅烷MECH Mechanical System Section 机械系统课GEX General Exhaust 普通及热排气SEX Scrubber Exhaust 酸排气VEX VOCs(Volatile organic compounds) Exhaust 有机排气AEX Alkaline (Ammonia) Exhaust 碱性排气BMS Building Management System 办公楼空调系统AHU Air Handling Unit 空调箱MAU Make-up Air Unit 外气空调箱VAV Variable Air Volume box 可变风量风箱FFU Fan Filter(ULPA) Unit 风扇过滤单元HEPA High Efficiency Particulate Filter 高效率过滤器ULPA Ultra Low Penetration Filter 超高效率过滤器A/S Air Shower 风淋室FD Fire Damper 防火风门FSD Combined Fire Smoke Damper 组合式防火防烟风门SD Smoke Damper 防烟风门PHX Plated type Heat Exchanger 板式热交换器DCC Dry Cooling Coil 干盘管FCU Fan Coil Unit 小型冷风机SF Smoke Fan 消防排烟风车EF Exhaust Fan 通风排气风车VEN Vent 排气AS Air Supply 一般送风L/C Local Scrubber 洗涤塔C/S Central Scrubber 中央洗涤塔C/T Cooling Tower 冷却塔PMS Particle Monitoring System 环境微粒监测系统H&S Hookup and Site Service 二次配和厂区服务CCTV Close Circuit Television 闭路电视其它FAB Fabrication 常指半导体生产的制造工厂MFG Manufacturing 制造部IC Integrated Circuit 集成电路CIM Computer Integrated Manufacturing 电脑整合制造OI Operation Instruction manual 操作指导手册OPI Operation Interface 操作界面PM Preventive Maintenance 预防保养SOP Standard Operating Procedure 标准操作程序SPC Process Statistical Control 制程统计管制Cp Process Capability 工艺能力Cpk Process Capability index 工艺能力指数OOC Out Of Control 超出控制界线OOS Out Of Spec 超出规格界线OCAP Out Of Control Action Plan 超出管制界线的相应对策FMEA Failure Mechanism Effect Analysis 故障模式及结果分析WIP Wafer In Process 在制品SEM Scanning Electron Microscope 扫描式电子显微镜TF Thin Film 薄膜LIT Lithography 微影DIF Diffusion 扩散ETC Etch 蚀刻PVD Physical vapor deposition 物理气相沉积CVD Chemical vapor deposition 化学气相沉积IMP Implantation of ion 离子植入CMP Chemical Mechanical Polishing 化学机械研磨I/O Input/Output 输入/输出DI/DO Digital Input/ Digital Output 数字输入/数字输出AI/AO Analog Output/Analog Output 模拟输入/模拟输出LED Light Emitting Diode 发光二极管PCB Printed Circuit Board 印刷电路板PLC Programmable Logic Controller 可编程式逻辑控制器。
热处理VD LF 真空脱气处理
我是搞锻造热处理的，不过也曾在我厂VD包和LF炉上干过，现简单介绍如下自己干过的、一些钢水精炼的方法。
真空除气法（VD）法 VD炉没有热源，一般不用造渣精炼，常规做法是将精炼包吊入真空坑抽真空十几分钟后即吊出注锭，一般无底吹氩，液渣面交换差（渣面下～300mm钢液的脱气效果好，深部脱气差），注温比LF低。
炼钢厂用于要求稍宽松的冶炼。
VD法的基本功能是：①脱气和真空碳脱氧。
②脱硫。
真空氧气脱碳（VOD）法由西德莎尔等钢厂在1965年开发，VOD法是在真空减压条件下顶吹氧气脱碳，并通过包底吹氩促进钢液循环，在冶炼不锈钢时能容易地把钢中碳降到0.02%～0.08%范围内而几乎不氧化铬。
并对钢液进行真空处理，加上氩气的搅拌作用，反应的动力学条件很有利，能获得良好的去气、去夹杂物的效果。
氩氧混合脱碳（AOD）法基本功能是：①去碳保铬。
②脱硫。
美国1968年开发。
AOD法的含义是用氩、氧混合气体脱除钢中的碳、气体及夹杂物，可以用廉价的高碳铬铁炼出优质的低碳不锈钢。
这是一种在非真空下精炼含铬不锈钢的工艺。
它是将氩氧混合气体用消耗式喷枪吹入钢液中，氧首先与钢中碳起反应生成一氧化碳CO，降低钢中的碳含量。
此时生成的CO分压较高，由于存在氩气泡，分压较高的CO即扩散到氩气泡中，降低了碳氧反应所生成的CO分压，促进了碳氧反应的继续进行。
如果氩气充分而且分布良好，只要熔池中有足够的氧，脱碳反应就不会停止，因而可获得超低碳的钢（脱碳量为0.7～1.6％）。
真空下循环除气RH法它是利用抽吸管提升钢液进真空腔而使钢液脱气，其基本功能是脱碳和脱氧。
扩展功能可以使钢水深脱碳，强化脱硫处理。
钢包精炼法（LRF）钢包精炼，由于设备先进而显示出它的独特优点：容易控制钢液温度；严格控制钢的化学成分；精确控制钢液的脱氧、脱硫，控制硫含量低于0.005%；由于工艺灵活性大，适应性强，炼出的高质量的钢种覆盖面大；同时以减少炼钢炉的时间来提高生产率；并可在炼钢与浇铸之间，提供一定的缓冲作用。
Liqui-Cel液体脱气膜使用说明书(中文译本)
液体脱气膜使用说明
目录
第一节 技术概述 .................................................................................................................................... 3 第二节 气体脱除技术 ............................................................................................................................ 4
中空纤维类型特性名称单位x40x30外径m300300内径m200240泡点psi240200断裂负重g430330断裂伸长率21214030克伸长率1212孔隙度2540第4页共16页孔径m003003气体吸收当用于气体吸收例如曝气或充二氧化碳工艺时气体流过中空纤维膜内侧液体则由中空维膜外即壳侧流动
注意事项：
当使用空气作清扫气时，一定注意： · 水温不能超过 30 摄氏度。 · 源水要去除游离氯、臭氧等氧化性强于 Liqui-Cel 膜组件的物质。
如果以上情况发生，膜的寿命会减短，性能无法保证。
当使用惰性气体作为清扫气时，一定注意： ·源水要去除游离氯、臭氧等氧化性强于 Liqui-Cel 膜组件的物质。 ·对于城市自来水，在水温<30 摄氏度时，游离氯<1ppm 是可行的。无论如何，为
空度对 脱气的影响。
表 3： 真空度
越大出水溶 解氧浓度，ppb
125mmHg 1400
74mmHg 850
50mmHg 580
36mmHg 425
超纯水脱气膜工作原理
超纯水脱气膜工作原理Ultra-pure water is essential in many industries such as pharmaceuticals, electronics, and power plants. It is crucial to remove all impurities, including gases, to ensure the quality of the water used in these processes. The deaeration membrane is a key component in achieving this level of purity.超纯水在制药、电子和发电厂等许多行业中至关重要。
消除所有杂质，包括气体，以确保在这些过程中使用的水的质量非常关键。
脱气膜是实现这种纯度水平的关键组件。
The working principle of the deaeration membrane involves the selective permeation of gases through a membrane material. This membrane is designed to allow specific gases, such as oxygen and carbon dioxide, to pass through while blocking other impurities. As the water flows over the membrane, these gases are removed, resulting in ultra-pure water on the other side.脱气膜的工作原理涉及气体通过膜材料的选择性渗透。
这种膜的设计允许特定气体，如氧气和二氧化碳，通过，同时阻止其他杂质。
当水流过膜时，这些气体被去除，从而在另一侧产生超纯水。
半导体名词缩写索引表[1]
![半导体名词缩写索引表[1]](https://img.taocdn.com/s3/m/8e7f9cda33d4b14e852468fa.png)
SHE 电力系统 监控系统 FAC FAC
违反统计制程管制规则
OOS OQC OWW P PAPR PAr PAW PC PCVD PCW PDB PE PEB PECVD PEL PEL-Ceiling PEL-STEL
PEL-TWA
Out of Spec Out-going Quality Control Organic Waste Water Power Air Powered Air-Purifying Respirator Process Argon Phosphoric Acid Waste Process Chamber Photo CVD Process Cooling Water Power Distribution Box Process Engineer Pre-Exposure Bake plasma-enhanced CVD Permissible Exposure Limit
General Exhaust Gravity Filter Gas Insulated Switch Group Leader Gas Monitoring System General Nitrogen Gas Rack
High Destiny Plasma CVD High Efficiency Particulate Filter High Fluoride Waste
即化学需氧量
连续品质控制系统 中央动力厂房 化学气相沉积 自来水 含氨废水 干冷盘管 双冷却系统 介质化学气相沉积
DF DIW DL DO DUV DUPS E EAR EAP EBR EE EIC ERC ERCV ERT ESV ET EUV F FAB FAC FA_Lab FCU FFU FMCS FWW G GC GEX GF GIS GL GMS GN2 GR H HDP CVD HEPA HFW Hook Up
浅议提高vd效率的难题及对策
浅议提高vd效率的难题及对策VD在炉外精炼中可有效脱去钢水中的氧、氮和氢等有害气体成分,提高钢水的纯净度。
在转炉—精炼—连铸的生产工艺流程中,VD效率直接影响着高纯净度、高强度、高质量钢的生产效率。
某厂100t双工位VD生产过程中暴露出的影响其效率的难题,本文对其原因进行了分析,并结合生产实际提出了相应的对策。
1.影响VD效率的几个难题影响VD效率提高的难题较多,在蒸汽、冷却水及电控系统运行正常时,基本上可概括为“漏、堵、卡”3类难题。
1.1“漏”造成VD效率低下V D在对钢水进行脱气真空处理时“漏”时有发生,一般表现在:①真空室密封圈及其排水电磁阀漏气;②炉盖车上的观察孔溢钢破空阀漏;③冷凝器和各喷射泵进口法兰漏等。
这些“漏”的问题直接造成VD形成工作真空度的时间过长或无法形成工作真空度,“漏”掉了VD的效率。
1.2“ 堵”使VD难以达到设计效率VD在正常生产过程中有时也会添“堵”,一般表现在:破空装置和E2喷射泵易堵等。
这些“堵”导致VD的真空脱气时间过长或不能形成工作真空度,“堵”得V D难以达到设计效率。
1.3“卡”使VD效率不稳定VD在对每炉钢水进行脱气真空处理时也会发生一些“卡”的现象,一般表现在:①氮破真空蝶阀蝶片卡死;②V9破空阀卡阻等。
这些“卡”的现象一旦发生,将造成VD无法继续形成真空,并导致后续钢水不能进行真空脱气精炼,全连铸生产被迫断浇,生产组织被打乱,“卡”住了VD的效率。
2影响VD效率的原因分析2.1“ 漏”的原因分析真空室密封圈及其排水电磁阀漏气是VD生产过程中常见的问题。
VD真空室密封设计为法兰水槽加密封圈型,当一炉钢水在真空状态下脱气完毕后,要先提升炉盖车,待冷却水注满法兰水槽后再移动炉盖车,这样才能有效地防止密封圈不被炉盖车内小炉盖上的高温钢渣烧损。
但在实际操作中,有时冷却水还没注满法兰水槽却移动了炉盖车,这时密封圈极易烧损。
密封圈一旦损坏,待下炉钢水进行真空脱气处理时,往往会产生密封不严。
脱气膜用途及原理简介
脱气膜用途及原理简介脱气膜介绍脱气膜是控制液体脱气、供气的中空纤维膜组件。
具有致密表皮层的独特中空纤维不透过液体，只透过气体，适合用于液体的脱气、供气。
主要用途· 超纯水的脱氧、脱二氧化碳· 锅炉供水的脱氧· 超声波清洗机用水的除泡处理优良的耐久性脱气膜,具有致密表皮层与内部的支撑层完全融为一体。
并非复合而成的结构。
这种一体化结构，不仅是性能优越，耐久性也很好。
通过采用具有致密表皮层的中空纤维脱气膜，可以将凝结水的产生控制在较低水平。
脱气膜不同与过滤膜过滤膜过滤超过一定大小的颗粒，水直接透过膜的微孔。
脱气膜只透过气体，而不透过液体。
特征性能参数☆、膜外径：350~360μm☆、膜内径：250~260μm☆、膜壁厚：50μm☆、微孔孔径：0.01~0.2μm☆、透气率：>7.0×10-2(cm3/cm2 ·S· cmHg)☆、孔隙率：45~65%☆、水通量：0.25T/H/支(0.10Mpa/25℃);1T/H/支(0.10Mpa/25℃); 3.5T/H/支(0.10Mpa/25℃);4T/H/支(0.10Mpa/25℃)☆、单支面积：15m2/22 m245m2/50 m2☆、脱除率：≥85%(单级)☆、工作运行跨压≥0.1Mpa☆、膜材料：采用进口膜丝材料☆、对应大规模化的超纯水供给设备☆、由于不使用氮气，可实现低成本、高效率的运转(进行脱气处理需要使用真空泵作为气体移动的动力源。
)制造方法：不使用一切溶剂和其它添加物质运行条件：单级膜组件：脱气率：85%两级膜组件串联，脱气率：95%·源水要去除游离氯、臭氧等氧化性强于脱气膜组件的物质。
·对于城市自来水，在水温<><>膜组件放置位子与方向性垂直放置：·水必须下入上出，如果串联，前一个膜组件的出水必须从下一个膜组件的下部进入。
脱气膜元件使用说明书
首先根据脱气要求确定脱气膜的型号、数量、布置方式以及需要的排气量和真空度。排气量和真空度决定了真空泵的大小。
电磁阀通常是闭合的。
真空泵打开时，在正常操作情况下， V204和V-202应该保持闭合，V-201应该打开。
当液面到达设定水平之上时， V-201应该关闭。 在不到两秒钟之后， V-202和V-204应该打开。
当液面到达设定水平以下时， V-204， V-202应该关闭。 在不到两秒钟之后，V-201应该打开。
使用真空方式时，注意以下信息：
在进CREFLUX脱气膜之前去除余氯、臭氧和所有其他氧化性的物质。
对城市给水的用途，允许余氯在1 ppm，温度<40℃ (<104℉)的情况下使用。 然而，为减少膜的氧化作用，特别是开启和关闭任何液流时一直保持真空的操作状态。
避免与表面活化剂，酒精的接触，并且操作时的氧化剂(臭氧等等)可能使膜寿命受影响或者损坏膜。 如果您有关于您的系统设计的问题，请与膜技术公司联系。
(36 mm Hg)
出口含量（PPb）
1400
850
580
425
测试条件：二根DGM5040串联的脱气膜系统
流速3 m3/hr
温度25℃
入口根据饱和氮气、氧气和二氧化碳计算
2、真空侧配置和操作：
下列是在真空方式下基本的仪器配置列表。 (参见图5)。
压力开关(PS-301)
真空表显示(PI-301)
检查阀门(V-302)
注：加气吹脱操作模式常见的应用是在二级反渗透系统之间脱除CO2，或者在进EDI系统前脱除CO2，通过多级串联，可以把CO2浓度降低至1ppm。是最经济有效的方法。
1、加气体侧的基本配置和操作：
裁床真空膜的用途-概述说明以及解释
裁床真空膜的用途-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述裁床真空膜是一种广泛应用于制造业的新技术和工具。
它通过将材料放置在真空膜下，并利用负压力使薄膜贴合在材料表面上，从而实现对材料的精确裁剪和成型。
裁床真空膜不仅可以用于纺织品、皮革、橡胶等柔性材料的裁剪，还可以应用于金属板材、塑料板材等刚性材料的成型，因此在制造业中具有广泛的应用前景。
裁床真空膜的工作原理非常简单，当材料放置在真空工作台上时，启动真空泵会抽走工作台下的空气，从而在材料和工作台之间形成负压。
同时，边缘的真空膜会收紧并贴合在材料表面上，固定住材料不发生移动。
接下来，只需将切刀或模具移动到指定位置，切割或成型材料即可。
通过调整真空强度和材料的放置方式，裁床真空膜可以实现对各种形状和尺寸的材料进行精确的切割和成型。
裁床真空膜主要用途广泛，适用于多个行业。
在纺织品行业中，裁床真空膜可以用于裁剪衣物、窗帘、家具面料等柔性材料，不仅提高了生产效率，还能够保证切割的精确度和一致性。
在汽车内饰、家具制造和航空航天等行业中，裁床真空膜则可以用于刚性材料的成型，如车内座椅、沙发、飞机座椅等。
正是由于裁床真空膜能够对各种材料进行高精度处理，使得制造业的生产效率和产品质量都得到了显著的提高。
此外，裁床真空膜还具有一些其他的优点。
首先，它可以方便地适应各种形状和尺寸的材料，无论是简单的二维表面还是复杂的三维形状，都能够轻松应对。
其次，由于真空膜与材料表面紧密贴合，可以避免材料的歪斜和移动，从而最大程度地减少了材料的浪费。
此外，裁床真空膜操作简单、安全可靠，且能够提高生产效率，降低劳动强度，是制造业中不可或缺的利器。
综上所述，裁床真空膜作为一种新技术和工具，在制造业中有着广泛的应用前景。
通过利用真空膜的负压力和材料贴合性，裁床真空膜可以对各种材料进行精确的切割和成型，从而提高生产效率和产品质量。
随着制造业的不断发展，相信裁床真空膜的用途将会越来越广泛，其发展前景也将更加广阔。
真空脱气膜MDPPT课件
Henry’s Law DOo2= H1 *Po2
Po2=H2* Ptotal
Vacuum
Dalton’s Law Ptotal=PH2o + PN2 + PO2+……
Gas strip
5 2020/11/10
MD操作模式的发展
Strip gas
48 Contactor
Water Flow Rate
(gal/min)
0 5 10 15 20 25 30 16
14
1
12 .75
10
8
Shellside
.50
6
4
.25
2
0 0 20 40 60 80 100 110
Water Flow Rate (liter/min)
1028 Contactor
MD的用途
可除去以下气体： 水中溶解的O2 水中溶解的CO2 水中溶解的N2等其他气体 水中由O3转化而来的O2（消毒杀菌尾声）
3 2020/11/10
MD的工作原理
Henry’s Law DO=H *Po2 液体中所溶解的气体量跟此气体在液气 界面上气体空间的分压成正比关系。
Dalton’s Law Ptotal=PH2o +PN2 + PO2+………. 混合气体的总压力等于各种气体分压的 总和。
e
Process O2 Removal. Hybrid or Stand Alone
System
Liqui-Cel
UV
UV
ERCexremcaeotsevsdaOlfr2om O3 CfoOr 2IoRnemBeodvaLlife Extension Conversion
中空纤维气体分离膜技术指标
中空纤维气体分离膜技术指标一、技术指标概述中空纤维气体分离膜技术是一种高效、低能耗的气体分离技术，广泛应用于工业气体分离、净化及制备等领域。
为了确保中空纤维气体分离膜的性能和稳定性，以下技术指标值得关注。
二、技术指标详解1. 膜材质中空纤维气体分离膜的材质直接影响其分离性能和使用寿命。
常见的膜材质包括聚烯烃、聚砜、聚酰亚胺等。
这些材质具有不同的气体渗透性能和化学稳定性，适用于不同的应用场景。
2. 孔径大小膜的孔径大小决定了气体分子通过膜的难易程度，是影响分离效率的重要参数。
孔径大小需根据所要分离的气体组分和透过要求进行选择。
孔径太小，气体渗透阻力大，通量小；孔径太大，则可能造成膜的分离性能下降。
3. 透气阻力透气阻力表示气体通过膜所需的压力差，反映了膜的透气性能。
透气阻力越大，表示气体通过膜所需的压力差越大，通量越小。
较低的透气阻力有利于提高气体的透过速度和生产能力。
4. 分离效率分离效率是指膜对特定气体组分的选择透过性，即透过膜的气体组分与原料气体中该组分的比值。
分离效率越高，表示膜对目标气体组分的选择透过性越好。
提高分离效率有助于提高产品质量和降低能耗。
5. 稳定性稳定性是指中空纤维气体分离膜在长时间运行过程中保持性能不变的能力。
良好的稳定性有助于延长膜的使用寿命和提高生产效率。
稳定性的影响因素包括材质、制膜工艺、操作条件等。
6. 耐温性耐温性表示中空纤维气体分离膜在高温下的稳定性和性能保持能力。
高温条件下，膜材质可能会发生热分解、热变形等现象，影响其性能和使用寿命。
耐温性好的膜材料能在较高温度下保持较好的稳定性和分离性能。
7. 化学稳定性化学稳定性表示中空纤维气体分离膜对化学物质的抗腐蚀能力和稳定性。
在某些应用场景中，原料气体可能含有腐蚀性物质或化学杂质，具有良好化学稳定性的膜材料能有效地抵抗这些物质的侵蚀，保持稳定的分离性能和使用寿命。
8. 机械强度机械强度表示中空纤维气体分离膜的抗压能力和抗拉伸能力。
超纯水脱气膜工作原理
超纯水脱气膜工作原理超纯水是指经过一系列精密的水处理设备处理后得到的水，它具有极高的纯度和低离子浓度。
超纯水广泛应用于电子、光伏、半导体、制药等高科技领域，然而，超纯水中仍存在微量气体，如氧气、二氧化碳等。
这些气体的存在会对超纯水的使用产生不利影响，因此需要通过脱气膜脱除。
超纯水脱气膜是一种膜分离技术，通过膜的特殊性能去除水中的气体，从而提高水质的纯度。
本文将对超纯水脱气膜的工作原理进行详细介绍。
一、超纯水脱气膜的组成超纯水脱气膜一般由主膜和支撑层两部分组成。
主膜是起脱气作用的膜，通常由聚四氟乙烯（PTFE）、聚合醚酮（PEEK）等材料制成，具有微孔结构和较高的气体透过性。
支撑层则是为了加强膜的机械性能和稳定性，通常由聚酯、聚醚酮、聚丙烯等材料制成。
超纯水脱气膜的组成保证了其在脱气过程中具有良好的气体透过性和稳定性，能够有效去除水中的气体。
二、超纯水脱气膜的脱气原理超纯水脱气膜的脱气原理主要包括膜的渗透作用和气体扩散作用。
当超纯水通过脱气膜时，气体分子会受到压力差和浓度差的作用而渗透到膜的另一侧，从而实现脱气。
1. 膜的渗透作用超纯水脱气膜的主要脱气原理是通过膜的渗透作用去除水中的气体。
膜具有微孔结构，而气体分子的尺寸通常比液体分子要小，因此气体分子可以通过膜的微孔而渗透到膜的另一侧。
在脱气过程中，气体分子会受到渗透压力和浓度差的作用而向低压侧渗透，从而实现脱气。
2. 气体扩散作用除了膜的渗透作用，超纯水脱气膜的脱气原理还包括气体的扩散作用。
当超纯水通过脱气膜时，气体分子在膜的微孔中发生扩散，从而实现脱气。
气体分子的扩散速率通常与温度、压力、气体种类和膜材料有关，因此在脱气过程中需要控制好这些因素，以提高脱气效率。
三、超纯水脱气膜的脱气过程超纯水脱气膜的脱气过程通常包括进水、压力差、脱气和排水四个步骤。
在脱气过程中，需要通过控制好膜的渗透作用和气体扩散作用，以实现高效的脱气效果。
1. 进水超纯水首先经过预处理设备得到较干净的水，然后通过进水管道进入超纯水脱气膜系统。
(整理)脱气膜元件及脱气设备使用手册
* 这就驱使从液体中的气体从液体移向气体。
液/气接触面在孔隙位置脱气膜元件具有脱气效率高、使用寿命长(正常使用寿命5年以上)的特点，主要是通过以下二方面来达到：n 采用增强型中空纤维膜孔隙率达到50%以上，分布均匀，脱气效率高，强度高;n 专利的布水结构，布水均匀使水放射形的流经中空纤维膜以增大接触面积，提高了气体透过膜的几率。
3、根据不同的脱气要求，可以采用不同的设计模式，常用的有三种模式(见图3)：二、加气吹脱操作模式加气吹脱模式是待脱气的液体在中空纤维膜的外侧流动，在中空纤维膜的内侧通压缩气体(通常为压缩空气)进行吹扫。
气体吹扫的目的是为了将膜内侧的待脱除气体分压降低至几乎为零。
气相和液相总是要趋向动态的溶解平衡点，由于分压不同，液相中的气体就不断由液相向膜内侧的气相移动，并由吹扫气体带走。
这就降低了液相中的溶解气体浓度。
从而达到脱除气体的目的。
注：加气吹脱操作模式常见的应用是在二级反渗透系统之间脱除CO2，或者在进EDI系统前脱除CO2，通过多级串联，可以把CO2浓度降低至1ppm。
是最经济有效的方法。
1、加气体侧的基本配置和操作：当使用压缩气体作为吹扫气体时仪表基本配置(参见图4)。
2、脱除二氧化碳时可以采用压缩气体或无油的压缩空气，基本操作步骤：1) 通过调整压力调节阀门(PCV201)，把进气压力设置压力在0.7 kg/cm2以下。
2) 通过调整针形阀门(V-212)，观察流量计至设计的空气流量。
3) 通空气到每根脱气膜组件。
4) 出气气体排放到一个开阔地带以避免在密闭空间内氧气耗尽.。
5) 如果采用压缩空气，必须是无油压缩空气的。
6) 如果在高纯度要求的情况下，在压力调节阀门之前须采用0.2微米空气过滤器;一般工业应用采用1.0微米过滤器即可。
如果在脱除二氧化碳时没有压缩气体或无油压缩空气，可以使用鼓风机进行空气扫除。
鼓风机的选择可以根据脱气膜需要的风量以及气相侧的压降来确定。
吹风机的出风温度不能升高(>30℃)过高的空气温度会影响中空纤维膜的使用寿命。
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纯水系统中MD使用点
Pretreatmen t UPW Tank
Recycle
No.2RO
Ion Exchange
DI Tank
UV No.1
LiquiLiqui-Cel
Polisher No.2 UV No.2
CO2 Removal for Ion Bed Life Extension
Final Filter POU
17 2011-11-29
AT&T Ultrapure Water Deoxygenation System
Sematech Sponsored Design Basis: 10 gpm (2.30 m3/hr) 77°F (25°C) ° ° Inlet O2 Saturated (8.5 ppm) System Design: Two 4×28 Contactors in × Series N2 Sweep – 1.0 scfm (1.6 m3/hr) per Contactor Outlet Achieved: < 15 ppb Dissolved O2
目前，一般采用C模式
6 2011-11-29
MD工作原理剖析图 MD工作原理剖析图
Strip gas 高压N2分子 向 方 流 水 PP材质膜壁 水分子 各种气体分子
膜 孔 0.03um 只 能 通 过各种气体分子, Strip gas & Vacuum 水分子则不能通过
7 2011-11-29
MD的运转模型 MD的运转模型
18 2011-11-29
MD Introduction
THE END
19 2011-11-29
8 2011-11-29
除气膜的制作
200 µm 300 µm
0.03 µm Pore
9 2011-11-29
MD的使用模式设计 MD的使用模式设计
Liquid Outlet
Parallel Configuratio n for Flow
Liquid Inlet Liquid Outlet
Series Configuratio n for Efficiency
LiquiLiqui-Cel
LiquiLiqui-Cel
Reclaim
LiquiLiqui-Cel
LiquiLiqui-Cel
O2 and CO2 Removal to Recycle Back into Loop
UV
UV
LiquiLiqui-Cel
DI Tank
Ion Exchang e
Process O2 Removal. Hybrid or Stand Alone
4 2011-11-29
Henry&Dalton定律的运用 Henry&Dalton定律的运用
Henry’s Law DOo2= H1 *Po2
Po2=H2* Ptotal
Dalton’s Law
Vacuum
Ptotal=PH2o + PN2 + PO2+……
Gas strip
5 2011-11-29
MD操作模式的发展 MD操作模式的发展
Strip gas WaterTo Vacuum outlet Water outlet Strip gas
Water outlet
Strip gas
To Vacuum Water inlet
To Vacuum Water inlet
A
B
C
Water inlet
Membrane Degasify Introduction
ExtraExtra-Flow Membrane Contactor Technology
for Gas Transfer
MD
1 2011-11-29
概要
MD的用途 MD的工作原理介绍 MD的使用 MD产品的相关信息
2 2011-11-29
SAMPLE
CONTACTOR
PI FEED WATER
PI CHECK DRAIN VALVE VENT/ DRAIN
VAC EXHAUST
12 2011-11-29
纯水系统中可能使用MD 之POU
LiquiLiqui-Cel System
Pretreatmen t
RO
Vacuum Tower
RO Tank
Liquid Inlet
10 2011-11-29
GSMC ＵPW系统一段MD设计模式 PW系统一段MD设计模式
进水
1
2 3 4
5
出水
共五组并联，每组２个串联
进０. 进０.７Mp N2
11 2011-11-29
MD串联系统架构
PI N2 FEED FI
CONTACTOR
FI
PRODUCT WATER
N2 , O2 Removal
LiquiLiqui-Cel
Polisher No.1
14 2011-11-29
MD 之性能曲线
Water Flow Rate (gpm)
90 100 110 130 150 170 190 100 90 110 130 150 170 190
Combo
Oxygen Removal (%)
MD的用途 MD的用途
可除去以下气体： 水中溶解的O2 水中溶解的CO2 水中溶解的N2等其他气体 水中由O3转化而来的O2（消毒杀菌尾声）
3 2011-11-29
MD的工作原理 MD的工作原理
Henry’s Law DO=H *Po2 液体中所溶解的气体量跟此气体在液气 界面上气体空间的分压成正比关系。 Dalton’s Law Ptotal=PH2o +PN2 + PO2+………. 混合气体的总压力等于各种气体分压的 总和。
UV
Excess O2 CO2 Removal Removal Created from O3 for Ion Bed Life Extension Conversion
Polisher Final Filter POU
N2 , O2 Removal
Total Gas Control and Final Polishing 13 of O2 2011-11-29
14
Pressure Drop (psig)
产品系列
2.5 x 8-inch Contactor Single Unit Capacity: 0.5 gpm – 3 gpm (0.1 – 0.7 m3/h) Membrane Area: 15.1 ft2 (1.4 m2) All Polyolefin Contactor 4 x 28-inch Contactor Single Unit Capacity: 5 gpm – 30 gpm (1.1–6.8 m3/h) Membrane Area: 210 ft2 (19.5 m2) Vessel: Polypropylene, Stainless Steel or PVDF 10 x 28 Contactor Single Unit Capacity: 44 gpm – 210 gpm (10 – 47.7 m3/h) Membrane Area: 1400 ft2 (130 m2) Vessel: 316 L Stainless Steel or Plastic with PVDF inner surface
Oxygen Removal (%)
Combo
90
95 90 85 80 75
50 mm Hg
50 mm Hg
80
100 mm Hg
100 mm Hg
70 15
One Contactor
25 35 45
Two Contactor in Series
15 25 35 45
Water Flow Rate (m3/hr) Temperature 20ºCห้องสมุดไป่ตู้
12 10 8 6 4 2 0 0 20 40 60 80 100 110 .25
6
Shellside
4
.50
Shellside
2
0 15 25 35 45
55
Water Flow Rate (liter/min)
Water Flow Rate (m3/h)
16 2011-11-29
Pressure Drop (psig)
15 2011-11-29
压降曲线：
4×8 Contactor ×
0 5
10×28 Contactor ×
Water Flow Rate (gal/min)
25 30 8 1 .75 50 100 150 200 250 20
Water Flow Rate (gal/min)
10 15
16
Pressure Drop (psig)