功率MOS与高压集成电路-1
高压mos芯片
高压mos芯片高压 MOS（Metal-Oxide-Semiconductor）芯片是集成电路的一种，具有高电压处理能力和高速开关能力。
它广泛应用于驱动高压负载的场合，如电机驱动、LED驱动、电源控制等。
高压 MOS 芯片的结构与普通的 MOS 电路差不多，但工作电压通常在几十伏特至数百伏特以上。
因此，在设计高压 MOS 芯片时需要考虑到以下关键因素：1. 电场面积电场是芯片中的重要物理参数，它决定了 MOS 芯片的最大电压。
当电场太大时，会导致电子运动速度过快、氧化层断开，从而出现击穿现象。
因此，需要采用合适的掺杂浓度、尺寸和管腔结构等措施，来减小电场，提高芯片的耐压能力。
2. 介电层和取向介电层是高压 MOS 芯片不可或缺的部分，它起到上电极和管腔之间的隔离作用，同时对芯片的性能也有很大影响。
例如，使用厚度足够的氧化层可以提高芯片的耐电压能力；采用合适的取向可以改变芯片的电流特性，从而满足不同的应用需求。
3. 聚焦控制高压 MOS 芯片中的聚焦控制是指在正常工作电压范围内操作芯片时控制电流的过程。
为了确保芯片的稳定性和可靠性，在设计中需要考虑到摆幅、栅电容和电流导通等因素，并利用模拟仿真等工具进行优化。
4. 温度控制和散热高压 MOS 芯片在工作过程中会产生大量热量，如果不能及时散热会对芯片的性能造成很大影响。
因此，在设计芯片结构时需要考虑到合适的散热结构，如采用金属散热片或散热孔等方式来降低芯片温度。
总之，高压 MOS 芯片是一种高性能的电路，具有广泛的应用前景。
随着技术的不断进步和需求的不断增加，高压 MOS 芯片将会在更多的领域得到广泛应用。
高压功率mos
高压功率mos
高压功率MOS管是电子设备中非常重要的元件之一，它具有高电压、大电流、高频率和高效率等特点。
在高压功率MOS管的应用中，不同的耐压值会对应不同的反应速度。
耐高压的MOS管反应速度相对较慢，而耐低压的MOS管反应速度则更快。
因此，在实际应用中，需要根据具体需求选择不同耐压值的MOS管。
此外，高压功率MOS管还具有高开关频率、低驱动电流、高导通阻抗等特点。
其反向恢复时间也很快，可以有效地降低开关损耗。
在选择和使用高压功率MOS管时，需要注意其最大功耗、最大结温、储存温度等参数，以确保其正常工作和延长其使用寿命。
同时，对于不同的应用场景，还需要考虑MOS管的驱动方式和保护措施等问题。
总之，高压功率MOS管是一种非常重要的电子元件，它可以为电子设备提供高效、稳定、可靠的工作性能。
在选择和使用时需要注意其特性和应用需求，以确保其正常工作和延长其使用寿命。
2011硕 高压LDMOS器件HiSIM-HV模型的参数提取研究张健
II
2011 届华东师范大学工程硕士专业学位论文
BSIMProPlus software．The four device geometries are large dimensions (W=20μm， L=20μm)， narrow dimensions(W=2μm/5μm， L=20μm)， short dimensions(W=20μm， L=2.5μm/3μm/5μm), and small dimensions (W=2μm, L=2.5μm)． In the research， the measured devices are modeled by HiSIM-HV in MBP. With the parameter extraction method proposed in this paper, the parameters extracted are focused on mobility, doping concentration, threshold voltage, source and drain resistor, short channel effect, channel length effect and self-heating effect. The I-V simulated data in Hspice after parameters extraction fit the measured results very well. All I-V curves errors are less than 5%, meeting the requirement of the industry. And it proves the method proposed can be applied in the scalable parameter extraction of HV LDMOS.
mos与门电路
mos与门电路摘要：1.MOS 与门电路概述2.MOS 与门电路的工作原理3.MOS 与门电路的种类和应用正文：一、MOS 与门电路概述MOS 与门电路，全称为MOS（Metal-Oxide-Semiconductor）与门电路，是一种基于半导体材料制作的逻辑门电路。
它是计算机科学和电子工程领域中常见的一种数字逻辑电路，主要用于实现计算机系统中的布尔运算和逻辑判断。
MOS 与门电路具有高输入阻抗、低噪声和低功耗等特点，广泛应用于数字集成电路和超大规模集成电路的设计与制造。
二、MOS 与门电路的工作原理MOS 与门电路主要由nMOS（n-type MOS）和pMOS（p-type MOS）两种晶体管构成。
在MOS 与门电路中，晶体管的输入端为高阻态，输出端为低阻态。
当输入端电压达到一定值时，输出端晶体管导通，从而实现逻辑“1”的输出。
当输入端电压未达到一定值时，输出端晶体管截止，实现逻辑“0”的输出。
MOS 与门电路的工作原理可以分为以下两种情况：1.与门：当所有输入端电压都为高电平时，输出端晶体管导通，输出逻辑“1”。
其他情况下，输出端晶体管截止，输出逻辑“0”。
2.或门：当任意一个输入端电压为高电平时，输出端晶体管导通，输出逻辑“1”。
当所有输入端电压都为低电平时，输出端晶体管截止，输出逻辑“0”。
三、MOS 与门电路的种类和应用根据输入端晶体管的数量，MOS 与门电路可以分为2 输入端与门、3 输入端与门等不同类型。
同时，根据输出端的逻辑状态，MOS 与门电路可以分为与门、或门、非门、与非门、或非门、异或门等多种类型。
MOS 与门电路广泛应用于计算机科学、通信技术、自动控制等领域。
例如，在计算机系统中，MOS 与门电路可以用于实现运算器、控制器等部件的逻辑运算；在通信领域，MOS 与门电路可以用于实现数字信号的处理和传输；在自动控制领域，MOS 与门电路可以用于实现控制系统的逻辑判断和控制。
功率 mos fet 与 高 压 集 成 电 路
功率 MOSFET与高压集成电路1. 引言功率MOSFET（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor，金属氧化物半导体场效应晶体管）作为一种重要的元器件在电力电子设备中得到广泛应用。
高压集成电路则是针对高压环境下的应用需求而设计的集成电路。
本文将深入探讨功率MOSFET与高压集成电路的相关知识，介绍其原理、特性、应用以及发展方向。
2. 功率MOSFET原理与特性2.1 MOSFET原理MOSFET由源极、漏极和栅极组成，通过调节栅极电压来控制源漏两端的电流。
其原理基于场效应，当栅极电压不同时，形成不同或无导通状态的通道。
功率MOSFET相比普通MOSFET主要区别在于其结构设计和材料选择，以应对更高的功率和电压需求。
2.2 功率MOSFET特性1.低开关损耗：功率MOSFET具有低导通电阻和快速开关特性，使其能够在高频率工作下降低功耗。
2.高电流承载能力：功率MOSFET能够承受较高的电流，适用于高功率应用场景。
3.高耐压能力：功率MOSFET设计采用耐压较高的材料和结构，能够承受较高的电压。
4.低驱动电压：功率MOSFET的栅极电压较低，能够通过微弱的电信号即可实现控制。
3. 高压集成电路的发展与应用3.1 高压集成电路的发展历程高压集成电路的发展经历了几个重要的阶段： 1. 离散器件阶段：早期应用中，高压环境下的功能通常通过离散器件实现，存在组装、占用空间大等问题。
2.SOI技术阶段：随着基础半导体材料技术的发展，硅上绝缘体（Silicon on Insulator，SOI）技术被应用于高压集成电路的设计，提高了集成度和性能。
3. 新材料与封装技术阶段：随着碳化硅（SiC）和氮化硅（GaN）等新材料的应用，高压集成电路在高效率、高功率密度、高可靠性等方面有了突破。
3.2 高压集成电路的应用领域高压集成电路的应用领域广泛，包括但不限于以下几个方面： 1. 电力电子：高压集成电路在工业和家庭电力电子设备中发挥重要作用，如变流器、逆变器、电源管理等。
功率半导体器件 LDMOS VDMOS
关于功率MOSFET（VDMOS & LDMOS）的报告---时间日期：2009.11.12---报告完成人：祝靖1．报告概况与思路报告目的：让研一新同学从广度认识功率器件、了解功率器件的工作原理，起到一个启蒙的作用，重点在“面”，更深层次的知识需要自己完善充实。
报告内容：1）从耐压结构入手，说明耐压原理；2）从普通MOS结构到功率MOS结构的发展；（功率MOS其实就是普通MOS结构和耐压结构的结合）；3）纵向功率MOS（VDMOS）的工作原理；4）横向功率MOS（LDMOS）的工作原理；5）功率MOSFET中的其它关键内容；（LDMOS和VDMOS共有的，如输出特性曲线）报告方式：口头兼顾板书，点到即止，如遇到问题、疑惑之处或感兴趣的地方，可以随时打断提问。
2．耐压结构（硅半导体材料）目前在我们的研究学习中涉及到的常见耐压结构主要有两种：①反向PN结②超结结构(包括)；2.1 反向PN结（以突变结为例）图2.1所示的是普通PN结的耐压原理示意图，当这个PN结工作在一定的反向电压下，在PN结内部就会产生耗尽层，P区一侧失去空穴会剩下固定不动的负电中心，N区一侧会失去电子留下固定不动的正电中心，并且正电中心所带的总电量＝负电中心所带的总电量，如图2.1a所示，A区就是所谓耗尽区。
图2.1b所示的是耗尽区中的电场分布情况（需熟悉了解），耗尽区以外的电场强度为零，Em称为峰值电场长度（它的位置在PN，阴影部分的面积就是此时所加在PNP区和N区共同耐压。
图2.2所示的是P+N结的情况，耐压原理和图1中的相同，但是在这种情况中我们常说N负区是耐压区域(常说的漂移区)(a)(b)图2.1 普通PN结耐压示意图（N浓度＝P浓度）图2.2 P＋N结耐压示意图（N浓度<<P浓度）图2.3所示的是反向电压变化情况下的耗尽层内部的电场强度的变化情况，随着N一侧的电压的上升，耗尽层在展宽（对于P+N-结来说，耗尽层展宽的区域为N区一侧，也就是耐压区一侧），峰值电场强度Em的值也在不断升高，但是当Em=Ec时，PN结发生击穿，Ec称为临界电场强度，此时加在PN结两端的电压大小就是击穿电压（BV（如表2.1所示），同种材料不同浓度的临界电场也不同，但是对于硅材料来说，在我们目前关系的浓度范围之内，浓度变化对电场强度的影响不大，因图 2.3 电场强度和电压的关系示意图 Table2.1 不同材料的临界电场2.2 超结结构（SuperJunction ）（了解）除了上述所说的P+N-结结构之外，还有一种我们会接触到的耐压结构——超结结构。
mos甲类功率放大电路_解释说明以及概述
mos甲类功率放大电路解释说明以及概述1. 引言1.1 概述MOS甲类功率放大电路是一种常用的电子元件，它在许多领域中广泛应用。
本文将对MOS甲类功率放大电路进行深入解读和分析，以及探讨其应用场景和优势。
1.2 文章结构本文共包括五个主要部分：引言、MOS甲类功率放大电路的基本原理、设计与搭建MOS甲类功率放大电路的步骤和要点、实际应用案例分析与讨论，以及结论与展望。
在引言部分，我们将介绍本文的主题，并提供文章结构的概述。
1.3 目的本文旨在帮助读者全面了解MOS甲类功率放大电路的工作原理和特点，并提供有关设计、搭建和调试此类电路的步骤和技巧。
此外，通过实际应用案例的分析，读者可以更好地理解该电路在不同领域中的具体应用情景。
接下来，我们将深入探讨MOS甲类功率放大电路的基本原理。
2. MOS甲类功率放大电路的基本原理2.1 MOS甲类功率放大电路的作用与应用场景MOS甲类功率放大电路是一种常见的功率放大电路，主要用于将输入信号的功率进行放大，并驱动负载以输出高功率信号。
它在各种领域中广泛应用，特别适合需要高效能、低失真、高保真度以及较大输出功率需求的电子设备。
下面将介绍该电路的工作原理和特点。
2.2 MOS甲类功率放大电路的工作原理解析MOS甲类功率放大电路由一个MOS管组成，该管在负载上产生需要被放大的信号。
其基本原理如下：当输入信号施加到控制极（即栅极）时，通过控制栅极结间接反型（有P导Amples）来控制D-S通道阻抗从而调整输出量。
当输入信号施加到栅极上时, 控制栅-源（G-S）结区反向偏置，形成了一个受控压阈扭挠稳定冶容且无偏差线性呈现出V贯线性比例过程，与控制栅源间反向压缩指数模型缺菊直线关系。
假设输入信号为正弦波，其通过MOS甲类功率放大电路后，输出信号也将是一个相同频率的放大正弦波。
2.3 MOS甲类功率放大电路的特点和优势分析MOS甲类功率放大电路具有以下特点和优势：1. 高效能：MOS甲类功率放大电路可以达到较高的效能，能够以最小的能耗实现较大的输出功率，从而提供高效能的工作性能。
MOS管驱动电路详解
MOS管驱动电路综述连载（一）时间：2009-07-06 8756次阅读【网友评论2条我要评论】收藏在使用MOS管设计开关电源或者马达驱动电路的时候，大部分人都会考虑MOS的导通电阻，最大电压等，最大电流等，也有很多人仅仅考虑这些因素。
这样的电路也许是可以工作的，但并不是优秀的，作为正式的产品设计也是不允许的。
1、MOS管种类和结构MOSFET管是FET的一种（另一种是JFET），可以被制造成增强型或耗尽型，P 沟道或N沟道共4种类型，但实际应用的只有增强型的N沟道MOS管和增强型的P沟道MOS管，所以通常提到NMOS，或者PMOS指的就是这两种。
至于为什么不使用耗尽型的MOS管，不建议刨根问底。
对于这两种增强型MOS管，比较常用的是NMOS。
原因是导通电阻小，且容易制造。
所以开关电源和马达驱动的应用中，一般都用NMOS。
下面的介绍中，也多以NMOS为主。
MOS管的三个管脚之间有寄生电容存在，这不是我们需要的，而是由于制造工艺限制产生的。
寄生电容的存在使得在设计或选择驱动电路的时候要麻烦一些，但没有办法避免，后边再详细介绍。
在MOS管原理图上可以看到，漏极和源极之间有一个寄生二极管。
这个叫体二极管，在驱动感性负载（如马达），这个二极管很重要。
顺便说一句，体二极管只在单个的MOS管中存在，在集成电路芯片内部通常是没有的。
2、MOS管导通特性导通的意思是作为开关，相当于开关闭合。
NMOS的特性，Vgs大于一定的值就会导通，适合用于源极接地时的情况（低端驱动），只要栅极电压达到4V或10V就可以了。
PMOS的特性，Vgs小于一定的值就会导通，适合用于源极接VCC时的情况（高端驱动）。
但是，虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动，但由于导通电阻大，价格贵，替换种类少等原因，在高端驱动中，通常还是使用NMOS。
3、MOS开关管损失不管是NMOS还是PMOS，导通后都有导通电阻存在，这样电流就会在这个电阻上消耗能量，这部分消耗的能量叫做导通损耗。
高压VDMOSFET导通电阻的优化设计
高压VDMOSFET导通电阻的优化设计白朝辉;王标【摘要】以500 V VDMOS为例,首先分析了高压VDMOS导通电阻与电压的关系,重点讨论穿通型VDMOS的外延厚度与器件的耐压和导通电阻的关系.给出对高压VDMOS外延层厚度的优化方案,并基于理论分析在器件仿真设计软件平台上成功完成了耐压500 V、导通电阻0.85 Ω的功率VDMOS器件的设计和仿真.【期刊名称】《现代电子技术》【年(卷),期】2007(030)016【总页数】3页(P174-176)【关键词】VDMOS;穿通型VDMOS;优化外延层;导通电阻【作者】白朝辉;王标【作者单位】西安卫光科技有限公司,陕西,西安,710065;西安卫光科技有限公司,陕西,西安,710065【正文语种】中文【中图分类】TP4511 引言功率VDMOS (Vertical Double-diffused Metal Oxide Semiconductor)是在MOS集成电路工艺基础上发展起来的新一代电力电子开关器件，实现了电力设备高功率大电流高耐压的要求。
由于其独特的开关速度快、驱动功率小、安全工作区宽、温度稳定性好、没有少子存储效应、具有负的电流温度系数等优点，被广泛地应用于开关电源、汽车电子、不间断电源、电力转换电路、节能灯、逆变器等各种领域。
为了降低器件本身的功耗，希望器件的导通电阻越小越好。
然而通过增大器件面积来减少器件导通电阻会使器件的生产成本增加；因此，如何减小器件单位面积的导通电阻(即特征导通电阻)就成为人们研究的重要课题。
本文旨在通过计算找出500 V的VDMOS导通电阻的最佳化设计并使用Tsuprem4和MEDICI对其仿真验证。
2 高压VDMOS电阻本文设计的主要电参数指标为耐压BVDS大于500 V、导通电阻Ron小于0.85 Ω、阈值Vth为2～4 V、最大电流Id为8 A。
不同耐压的VDMOS中的N+源电阻、沟道电阻、JFET区电阻、漂移区电阻、衬底电阻在VDMOS的导通电阻所占的比例不同，如图1所示。
第3章-MOS集成电路器件基础
第三章 MOS集成电路器件基础
PMOS在截止区、 线性区、 恒流区的电流方程如 式(3 - 5)所示：
|UGS|<|UTHP| (3-5a)
0
(截止区)
I DP
PCox W [2(U
2 L
pCox 2
W L
U
GS
GS UTHP
UTHP 2 (1
)U DS
U
2 DS
(3-5b) ]|UDS|<|UGS|-|UTHP|
第三章 MOS集成电路器件基础
G 多晶硅 D
S
氧化 层
W
N＋ P型 衬 底
Leff
N＋
Ldra wn
LD
图3 - 1 NMOS管的简化结构
第三章 MOS集成电路器件基础
3.1.2 N阱及PMOS 为了使MOS管的电流只在导电沟道中沿表面流动
而不产生垂直于衬底的额外电流， 源区、 漏区以及沟 道和衬底间必须形成反偏的PN结隔离， 因此， NMOS 管的衬底B必须接到系统的最低电位点(例如“地”)， 而PMOS管的衬底B必须要接到系统的最高电位点(例如 正电源UDD)。 衬底的连接如图3 - 2(a)、 (b)所示。
出来的， 但在集成电路中， 在同一硅片衬底上要做许 多管子， 为保证它们正常工作， 一般N管的衬底要接 到全电路的最低电位点, P管的衬底接到最高电位点UDD。
第三章 MOS集成电路器件基础
UDD
G2
V2
B2 S2
G1
V1
S1
B1
图3-10 UBS<的MOS 管（V2）
第三章 MOS集成电路器件基础
源区(N＋ )
反型层 源区(N＋ )
电流
高压功率集成电路中LDMOS的设计研究_高海
Research for Design LDMOS in HVPICGAO H ai,CH EN G Dong-f ang,X U Zhi-p ing(Ce nter of M icro-electronics R esearch and E xp loitation o f S hanghai Unive rsity,S hanghai200072,China)Abstract:HVPIC means the combination of specific pow er tr ansistors that bear v ery high voltage(up to sever al hundr ed vo lts)and the control circuit biased by low voltage into a m onolithic IC chip.T he desig n problem s of the sing le crystal LDMOS in HVPIC are analy sed by means of com puter simulation and on the transisto r theory.The softw ar e sim ulation Medici is used as device sim ulation to ol.T he discussio n involves N w ell doping concentration,substrate doping concentration,P o pposite do ping layer and junction depth that may affect the breakdow n v oltage.The author analyses influence of L p (the space betw een P opposite doping layer and drain N+region)on the br eakdo wn voltage.The re-sults show that the device has a high br eakdo wn voltage by optimum desig n for various parameters, and is affected slightly by the variation of process parameters.Key words:HVPIC;M EDICI;LDMOS;RESU RFEEACC:1220;1265高压功率集成电路中LDMOS的设计研究高 海,程东方,徐志平(上海大学微电子研究与开发中心,上海200072)ª摘 要:高压功率集成电路(HVP IC),是指将需要承受高电压(达数百伏)的特定功率晶体管和其它低压的控制电路部分兼容,制作在同一块IC芯片上。
MOS管功率放大器电路图与原理图文及其解析
MOS管功率放大器电路图与原理图文及其解析放大器电路的分类本文介绍MOS管功率放大器电路图，先来看看放大器电路的分类，按功率放大器电路中晶体管导通时间的不同可分：甲类功率放大器电路、乙类功率放大器电路和丙类功率放大器电路。
甲类功率放大器电路，在信号全范围内均导通，非线性失真小，但输出功率和效率低，因此低频功率放大器电路中主要用乙类或甲乙类功率放大电路。
功率放大器是根据信号的导通角分为A、B、AB、C和D类,我国亦称为甲、乙、甲乙、丙和丁类。
功率放大器电路的特殊问题（1）放大器电路的功率功率放大器电路的任务是推动负载，因此功率放大电路的重要指标是输出功率，而不是电压放大倍数。
（2）放大器电路的非线形失真功率放大器电路工作在大信号的情况时，非线性失真时必须考虑的问题。
因此，功率放大电路不能用小信号的等效电路进行分析，而只能用图解法进行分析。
（3）放大器电路的效率效率定义为：输出信号功率与直流电源供给频率之比。
放大电路的实质就是能量转换电路，因此它就存在着转换效率。
常用MOS管功率放大器电路图MOS管功率放大器电路图是由电路稳压电源模块、带阻滤波模块、电压放大模块、功率放大模块、AD转换模块以及液晶显示模块组成。
（一）MOS管功率放大器电路图-系统设计电路实现简单，功耗低，性价比很高。
该电路，图1所示是其组成框图。
电路稳压电源模块为系统提供能量；带阻滤波电路要实现50Hz频率点输出功率衰减；电压放大模块采用两级放大来将小信号放大，以便为功率放大提供足够电压；功率放大模块主要提高负载能力；AD转换模块便于单片机信号采集；显示模块则实时显示功率和整机效率。
（二）MOS管功率放大器电路图-硬件电路设计1、带阻滤波电路的设计采用OP07组成的二阶带阻滤波器的阻带范围为40～60 Hz，其电路如图2所示。
带阻滤波器的性能参数有中心频率ω0或f0，带宽BW和品质因数Q。
Q值越高，阻带越窄，陷波效果越好。
2、放大电路的设计电压放大电路可选用两个INA128芯片来对微弱信号进行放大。
一种用于驱动高边功率开关的电荷泵电路
设计应用esign & ApplicationD0 引言高边功率开关是功率集成电路的典型电路之一。
它是将驱动电路、控制电路与保护电路能够集成于一个芯片中，在一定程度上实现智能化的控制功能，将会大大降低芯片的设计难度并且提高其性能。
而电荷泵电路则是其中必不可少的重要驱动电路。
随着人们对便携式电子设备的消费需求越来越高，电子产品的高性能、低功耗、轻型化等需要使得电源开关相关的芯片性能要求愈加提升，而对电荷泵电路的性能要求也随之越来越高。
智能功率开关将控制电路，保护电路，驱动电路以及一些外围接口与功率开关做成一体化的集成芯片。
其中驱动电路就是本文所提及的电荷泵电路。
智能功率开关分为高边功率开关和低边功率开关，高边与低边的区别在用作开关作用的MOS 管接在电源端还是地端。
根据不同的应用环境会选择不同的功率开关。
高边功率开关如图1 所示，高压功率管NMOS 起主要的开关作用，通过电荷泵驱动电路对功率MOS 管的栅极进行充放电来控制其开启与关断。
电荷泵是一种电荷转移的方式进行工作的电路，在本文所研究的这款芯片中，电荷通过对功率管的栅电容进行周期性的充电，将栅电压逐渐提高到功率管的开启电压以上，从而保证芯片能够开启。
由于电荷泵会对栅极进行持续的充电，因此栅极电压会充到电源电压以上，需要一个钳位电路来限制栅极的最高电压，即电荷泵电路的输出电压。
图１ 高边功率开关电路原理1 电荷泵电路的设计背景和基本原理１．１ 电荷泵电路的设计背景一种用于驱动高边功率开关的电荷泵电路A charge pump technology for driving high-side power switch任 立 张国俊（电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室，四川 成都 610054）摘 要：提出了一种新型的电荷泵电路设计，该设计利用电容电压不能突变的原理，设计了一种可以用来驱动高边功率开关管栅极电压的电荷泵结构。
采用该结构后的高边功率管的栅极电压，可以在控制信号开启后很短的时间内，将栅极电压迅速抬升至电源电压以上，确保功率开关管可以正常导通。
功率MOS与高压集成电路-1
高压功率器件的应用领域
整流 线性功率放大 开关功率变换
高压功率器件的应用领域
整流
Vin
Vin
~
Vout Vout
time
Vout
Vin
~ VinVout来自time整流
Vin
Vin
~
控制
Vout Vout
time
功率放大
耐压×速度 导通电阻
耐压 一个良好的设计要求Q越高越好
表征高压功率器件的指标
安全工作区SOA 正向安全工作区 反向安全工作区
I 反向安全工作区 电流限制 功耗限制 击穿限制 正向安全工作区 电流限制
击穿限制
V
高压功率器件的研究内容
如何提高耐压 如何提高电流容量 如何提高速度 如何提高安全工作区 如何提高控制能力 如何降低工艺难度
功率MOS与高压集成电路
内容提要
绪论 垂直导电MOS型功率器件 雪崩击穿与结终端技术 横向高压、功率MOS型器件 功率集成电路与高压集成电路 新型功率器件与功率系统集成
参考书目
陈星弼院士 《功率MOSFET与高压集成电
路》 东南大学出版社， 1996年
B.J. Baliga 《Power Smeiconductor
Devices》， PWS publishing company
张波 ，《功率半导体器件》英文自编讲义
第一章 绪论
什么是高压功率器件
能工作在较高电压情况下的半导体器件称为高压 器件。 这里的“高压”是一个较模糊的概念。 数字电路： 25V ～100V 射频电路： 20V～100V 电源电路： 20V～1200V 马达控制电路： 60～1500V 特殊领域：>2000V
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内容提要
绪论 垂直导电MOS型功率器件 雪崩击穿与结终端技术 横向高压、功率MOS型器件 功率集成电路与高压集成电路 新型功率器件与功率系统集成
参考书目
陈星弼院士 《功率MOSFET与高压集成电
路》 东南大学出版社， 1996年
B.J. Baliga 《Power Smeiconductor
功率=电流×电压
功率器件的定义 具有处理较大功率的器件, 一般定义为功率 大于500mW的器件.
高压器件不一定是功率器件. 功率器件的工作电压不一定就高. 注意这里功率是指器件所能处理的功率, 而非 器件自身的功率损耗.
表征高压功率器件的指标
• 优值Q 导通 电阻 的导 纳值
优值Q=
耐压×速度 导通电阻
耐压 一个良好的设计要求Q越高越好
表征高压功正向安全工作区 反向安全工作区
I 反向安全工作区 电流限制 功耗限制 击穿限制 正向安全工作区 电流限制
击穿限制
V
高压功率器件的研究内容
如何提高耐压 如何提高电流容量 如何提高速度 如何提高安全工作区 如何提高控制能力 如何降低工艺难度
高压功率器件的应用领域
整流 线性功率放大 开关功率变换
高压功率器件的应用领域
整流
Vin
Vin
~
Vout Vout
time
Vout
Vin
~ Vin
Vout
time
整流
Vin
Vin
~
控制
Vout Vout
time
功率放大
Devices》， PWS publishing company
张波 ，《功率半导体器件》英文自编讲义
第一章 绪论
什么是高压功率器件
能工作在较高电压情况下的半导体器件称为高压 器件。 这里的“高压”是一个较模糊的概念。 数字电路： 25V ～100V 射频电路： 20V～100V 电源电路： 20V～1200V 马达控制电路： 60～1500V 特殊领域：>2000V