四探针方法测电阻率(原理公式推导) PPT

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实验三四探针法测试硅片的电阻率

实验三四探针法测试硅片的电阻率

实验三四探针法测试硅片的电阻率实验三四探针法测试硅片的电阻率一、实验目的1.理解非平衡载流子的注入与复合过程;2.了解非平衡载流子寿命的测量方法;2.学会光电导衰退测量少子寿命的实验方法。

二、实验原理1.方块电阻对任意一块均匀的薄层半导体,厚W,宽h,长L。

图1 薄层半导体示意图如果电流沿着垂直于宽和厚的方向,则电阻为,当时,表面成方块,它的电阻称为方块电阻,记为,单位为(1)式中的方块电阻与电阻层厚度h和电阻率有关,但与方块大小无关,这样得到(2)对于一扩散层,结深为,宽h,长L,则。

定义L=h时,为扩散层的方块电阻,(3)这里的、均为平均电阻率和平均电导率。

若原衬底的杂质浓度为,扩散层杂质浓度分布为,则有效杂质浓度分布为。

在处,。

又假定杂质全部电离,则载流子浓度也是。

则扩散层的电导率分布为,对结深的方向进行积分求平均,可得到。

(4)若为常数,由(3)式,有。

其中表示扩散层的有效杂质总量。

当衬底的原有杂质浓度很低时,有,则(单位面积的扩散杂志总量)因此有。

2.四探针法测扩散层的方块电阻将四根排成一条直线的探针以一定的压力垂直地压在被测样品表面上,在1、4探针间通过电流I(mA),2、3探针间就产生一定的电压V(mV)。

(如图)图2 直线四探针法测试原理图材料电阻率(?.cm) (5)式中C为探针修正系数,由探针的间距决定。

当试样电阻率分布均匀,试样尺寸满足半无穷大条件时C=(cm) (6)式中:S1,S2,S3 分别为探针对1与2,2与3,3与4之间的距离,探头系数由制造厂对探针间距进行测定后确定,并提供给用户。

每个探头都有自已的系数。

C≈6.28±0.05,单位为cm (7)(a)块状或棒状样品体电阻率测量:由於块状或棒状样品外形尺寸远大於探针间距,符合半无穷大的边界条件,电阻率值可直接由(5)式求出。

(b)薄片电阻率测量:薄片样品因为其厚度与探针间距相近,不符合半远穷大边界条件,测量时要附加样品的厚度,形状和测量位置的修正系数。

四探针方法测电阻率 原理公式推导

四探针方法测电阻率 原理公式推导
式中:ρ0 为块状体电阻率测量值; W:为样品厚度(um);S:探针间距(mm); G(W/S)为样品厚度修正函数,可由附录IA或附录 1B查得; D(d/S)为样品形状和测量位置的修正函数,可由附 录2查得。W/S<0.5时,实用。 当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
0W S2l1n2D(dS)
探针方法测量半导体的电阻率
〈一〉实验目的 〈二〉实验原理 〈三〉仪器结构特征 〈四〉操作步骤 〈五〉注意事项 〈六〉技术参数
<一> 实验目的
1、理解四探针方法测量半导体电阻率的原理; 2、学会用四探针方法测量半导体电阻率。
<二> 实验原理
1、体电阻率测量:
当1、2、3、4四根 金属探针排成一直线时, 并以一定压力压在半导体 材料上,在1、4两处探 针间通过电流I,则2、3 探针间产生电位差V。
四探针法测量原理图Βιβλιοθήκη 材料电阻率 VC(1)
I
探针系数
C 11
20π 1
1
(2)
S1 S2 S1S2 S2S3
式中:S1、S2、S3分别为探针1与2,2与3,3 与4之间距,用cm为单位时的值,S1=S2=S3=1mm. 每个探头都有自己的系数。C6.280.05单位cm。
若电流取I = C 时,则ρ=V,可由数字电压表直 接读出。
4、将工作选择档置于“自校”,使电流显示出 “199*”,各量程数值误差为4字。
5、将工作选择档置于“调节”,电流调节在I =6.28=C,C为探针几何修正系数。
1.显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作选择开关 (短路、测量、调节、自校选择)5、电压量程开关6、输入插 座7、调零细调8、调零粗调9、电流调节10、电源开关11、电 流选择开关 12、极性开关

四探针培训资料PPT课件

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0.19 190 0.137 0.138 0.139 0.139 0.140 0.141 0.141 0.142 0.143 0.144
0.20 200 0.144 0.145 0.145 0.146 0.147 0.148 0.149 0.149 0.150 0.151
14
0.21 210 0.151 0.152 0.153 0.154 0.154 0.155 0.156 0.157 0.157 0.158
由上式可以看出,半导体中杂质浓度越高,接触电阻越小。虽然 欧姆接触的接触电阻较小,但是对于精度要求较高的半导体电阻 率的测量而言却是不可忽略的。这就造成了实际测量数据与样品 标称值存在一定误差。被测半导体样品中杂质分布的均匀性直接 影响接触电阻的分布情况,杂质的分布不可能绝对均匀,所以接 触电阻不可能处处相等,这就造成测量误差不等的情况。
2
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四探针测试技术方法分为直线四探针法和方形四探针 法。方形四探针法又分为竖直四探针法和斜置四探针法。 方形四探针法具有测量较小微区的优点,可以测试样品的 不均匀性,微区及微样品薄层电阻的测量多采用此方法。
四探针法按发明人又分为Perloff法、Rymaszewski法、 范德堡法、改进的范德堡法等。值得提出的是每种方法都 对被测样品的厚度和大小有一定的要求,当不满足条件时, 必须考虑边缘效应和厚度效应的修正问题。
流子的状态密度函数g(E)和概率分布函数f(E)。当外界 温度一定,则半导体在热平衡状态下的电子浓度n0和空穴浓 度p0分别写为:
可以看出,当环境温度T发生变化时,载流子浓度n0和p0随
7
之变化,则半导体的电阻率第改7页变/共。19页
此外载流子的迁移率μ也与温度密切相关。迁移率受两种散射的 影响,一种是晶格散射,另一种是电离杂质散射。晶格散射概 率μL和温度T的关系为μL∝T-3/2。当温度升高,晶格散射的影响 下载流子的迁移率将下降。这是由于温度升高使晶格振动加强, 载流子受到散射的概率增大的缘故。而电离杂质散射概率μI与 温度T的关系为μI∝NI-1T3/2,NI表示半导体中已电离的杂质浓 度。可以看出,当温度升高,载流子的迁移率增大。这是由于 载流子随机热运动速度变快,减少了在电离杂质附近停留的时 间,受到散射的影响被减小了。

半导体物理-四探针方法测电阻率

半导体物理-四探针方法测电阻率
4、将工作选择档置于“自校”,使电流显示出 “199*”,各量程数值误差为4字。
5、将工作选择档置于“调节”,电流调节在I =6.28=C,C为探针几何修正系数。
1.显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作选择开关 (短路、测量、调节、自校选择)5、电压量程开关6、输入插 座7、调零细调8、调零粗调9、电流调节10、电源开关11、电 流选择开关 12、极性开关
2.四探针测试探头:探针间距:1mm;游 移率:±1.0%;探针:碳化钨 Φ0.5mm 压力:0~2kg可调。
(a)块状和棒状样品体电阻率测量: 由于块状和棒状样品外形尺寸与探针间距 比较,合乎于半无限大的边界条件,电阻 率值可以直接由(1)、(2)式求出。
(b)簿片电阻率测量 簿片样品因为其厚度与探针间距比较, 不能忽略,测量时要提供样品的厚度形 状和测量位置的修正系数。
电阻率值可由下面公式得出:
C
V I
G(W S
)D( d S
)
0G(WS
)D( d S
)
式中:ρ0 为块状体电阻率测量值;
W:为样品厚度(um);S:探针间距(mm);
G(W/S)为样品厚度修正函数,可由附录IA位置的修正函数,可由附
录2查得。W/S<0.5时,实用。
当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
0
W S
1 2 ln 2
D(d ) S
2、带扩散层的方块电阻测量 当半导体薄层尺寸满足于半无限大时:
R0
(V
ln 2 I
)
4.53V I
若取I = 4.53 I0,I0为该电流量程满度值, 则R0值可由数字表中直接读出的数乘上10 后得到。
<三> 仪器结构特征

四探针法测电阻率

四探针法测电阻率

四探针法测量导体的电阻率电阻率的测量是导体材料常规参数测量项目之一。

测量电阻率的方法很多,如二探针法、三探针法、四探针法、电容---电压法、扩展电阻法等. 四探针法则是一种广泛采用的标准方法,在半导体工艺中最为常用,其主要优点在于设备简单,操作方便,精确度高,对样品的几何尺寸无严格要求.并且四探针法测量电阻率有个非常大的优点,它不需要较准;有时用其它方法测量电阻率时还用四探针法较准。

本文主要讲述四探针法测量导体材料电阻率的工作原理.直流四探针法也称为四电极法,主要用于半导体材料或超导体等的低电阻率的测量。

使用的仪器以及与样品的接线如图1(a)所示。

由图可见,测试时四根金属探针与样品表面接触,外侧两根1、4为通电流探针,内侧两根2、3为测电压探针。

由电流源输入小电流使样品内部产生压降,同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其他二根探针的电压即V23(伏)。

(a)仪器接线(b)点电流源(c)四探针排列图1 四探针法测试原理示意图若一块电阻率为ρ的均匀半导体样品,其几何尺寸相对于探针间距来说可以看作半无限大。

如图1(b)所示, 当探针引入的点电流源的电流为I ,由于均匀导体内恒定电场的等位面为球面,则在半径为r 处等位面的面积为2πr 2,电流密度为J=I/2πr 2根据电导率与电流密度的关系可得E =2222JI I r r ρσπσπ==由电场强度和电位梯度以及球面对称关系, 则d E dr ϕ=- 22I d Edr dr r ρϕπ=-=-取r为无穷远处的电位为零, 则()202r r r dr d Edr r ϕρϕπ∞∞-I =-=⎰⎰⎰ 则距点电荷r 处的电势为 ()2I r r ρϕπ=上式就是半无穷大均匀样品上离开点电流源距离为r的点的电位与探针流过的电流和样品电阻率的关系式,它代表了一个点电流源对距离r处的点的电势的贡献.1. 非直线型四探针对于图1(c)的情形, 四根探针位于样品中央,电流从探针1流入 从探针4流出, 则可将1和4探针认为是点电流源,2和3探针的电位为:2122411()2I r r ρϕπ=- 3133411()2I r r ρϕπ=-2、3探针的电位差为:2323122413341111()2I V r r r r ρϕϕπ=-=--+ 所以可推导得四探针法测量电阻率的公式为:I V C r r r r I V 2313413241223)1111(2=+--∙=-πρ 式中,134132412)1111(2-+--=r r r r C π为探针系数,单位为cm ;r 12、r 24、r 13、r 34分别为相应探针间的距离。

四探针法测电阻率共14页

四探针法测电阻率共14页

实验四探针法测电阻率1.实验目的:学习用四探针法测量半导体材料的体电阻率和扩散薄层的电阻率及方块电阻。

2.实验内容①硅单晶片电阻率的测量:选不同电阻率及不同厚度的大单晶圆片,改变条件(光照与否),对测量结果进行比较。

②薄层电阻率的测量:对不同尺寸的单面扩散片和双面扩散片的薄层电阻率进行测量。

改变条件进行测量(与①相同),对结果进行比较。

3.实验原理:在半导体器件的研制和生产过程中常常要对半导体单晶材料的原始电阻率和经过扩散、外延等工艺处理后的薄层电阻进行测量。

测量电阻率的方法很多,有两探针法,四探针法,单探针扩展电阻法,范德堡法等,我们这里介绍的是四探针法。

因为这种方法简便可行,适于批量生产,所以目前得到了广泛应用。

所谓四探针法,就是用针间距约1毫米的四根金属探针同时压在被测样品的平整表面上如图1a所示。

利用恒流源给1、4两个探针通以小电流,然后在2、3两个探针上用高输入阻抗的静电计、电位差计、电子毫伏计或数字电压表测量电压,最后根据理论公式计算出样品的电阻率[1]式中,C为四探针的修正系数,单位为厘米,C的大小取决于四探针的排列方法和针距,探针的位置和间距确定以后,探针系数C 就是一个常数;V 23为2、3两探针之间的电压,单位为伏特;I 为通过样品的电流,单位为安培。

半导体材料的体电阻率和薄层电阻率的测量结果往往与式样的形状和尺寸密切相关,下面我们分两种情况来进行讨论。

⑴ 半无限大样品情形图1给出了四探针法测半无穷大样品电阻率的原理图,图中(a)为四探针测量电阻率的装置;(b)为半无穷大样品上探针电流的分布及等势面图形;(c)和(d)分别为正方形排列及直线排列的四探针图形。

因为四探针对半导体表面的接触均为点接触,所以,对图1(b )所示的半无穷大样品,电流I 是以探针尖为圆心呈径向放射状流入体内的。

因而电流在体内所形成的等位面为图中虚线所示的半球面。

于是,样品电阻率为ρ,半径为r ,间距为dr 的两个半球等位面间的电阻为 它们之间的电位差为 dr r IIdR dV 22πρ==。

四点探针

四点探针

•R=பைடு நூலகம்/I
…….. 1
表面层 空间电荷层(界面层) 基体
电阻率 、方阻
L W d

样品
•R=ρ(L/S) ….. 2 •S=W*d ……..3
由1和2式可得 ρ=SV/LI ….4
•ρ=CFSV/LI…..5
C为探针系数,F为校正因子
方阻
• 当L=W时,即为正方形时,所测得电阻为 方块电阻。 • R =ρ/d………6 • 由上式可知道 方阻只与样品d(厚度)有关。
电阻率四根等距探针竖直的排成一排同时施加适当的压力使其与被测样品表面形成欧姆连接用恒流源给两个外探针通以小电流i精准电压表测量内侧两探针间电压v
四点探针
李舒坤
2013年02月07日
内容
1.原理 2.电阻率 3.方阻
四探针测试原理
四根等距探针竖直的排成一排,同时施加适 当的压力使其与被测样品表面形成欧姆连接, 用恒流源给两个外探针通以小电流I,精准电 压表测量内侧两探针间电压V.
电流方向
L1
L2
L1,L2分别是太阳电池的细栅线

利用直流四探针法测量半导体的电阻率

利用直流四探针法测量半导体的电阻率

利用直流四探针法测量半导体的电阻率一、测试原理:当四根金属探针排成一条直线,并以一定压力压在半导体材料上时,在1,4两根探针间通过电流I,则2,3探针间产生电位差V(如图所示)。

根据公式可计算出材料的电阻率:其中,C 为四探针的探针系数(cm ),它的大小取决于四根探针的排列方法和针距。

二、仪器操作:(一)测试前的准备:1、将电源插头插入仪器背面的电源插座,电源开关置于断开位置;2、工作方式开关置于“短路”位置,电流开关处于弹出位置;3、将手动测试架的屏蔽线插头与电气箱的输入插座连接好;4、对测试样品进行一定的处理(如喷沙、清洁等);5、调节室内温度及湿度使之达到测试要求。

(二)测试:首先将电源开关置于开启位置,测量选择开关置于“短路”,出现数字显示,通电预热半小时。

1、放好样品,压下探头,将测量选择开关置于“测量”位置,极性开关置于开关上方;2、选择适当的电压量程和电流量程,数字显示基本为“0000”,若末位有数字,可旋转调零调节旋钮使之显示为“0000”;3、将工作方式开关置于“I 调节”,按下电流开关,旋动电流调节旋钮,使数字显示为“1000”,该值为各电流量程的满量程值;4、再将极性开关压下,使数显也为1000±1,退出电流开关,将工作方式开关置于1或6.28处(探头间距为1.59mm 时置于1位置,间距为1mm 时置于6.28位置);(调节电流后,上述步骤在以后的测量中可不必重复;只要调节好后,按下电流开关,可由数显直接读出测量值。

)5、若数显熄灭,仅剩“1”,表示超出该量程电压值,可将电压量程开关拨到更高档;IV C 3,2=ρ6、读数后,将极性开关拨至另一方,可读出负极性时的测量值,将两次测量值取平均数即为样品在该处的电阻率值。

三、注意事项:1、压下探头时,压力要适中,以免损坏探针;2、由于样品表面电阻可能分布不均,测量时应对一个样品多测几个点,然后取平均值;3、样品的实际电阻率还与其厚度有关,还需查附录中的厚度修正系数,进行修正。

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率

(a)块状和棒状样品体电阻率测量: 由于块状和棒状样品外形尺寸与探针间距 比较,合乎于半无限大的边界条件,电阻 率值可以直接由(1)、(2)式求出。
(b)簿片电阻率测量 簿片样品因为其厚度与探针间距比较, 不能忽略,测量时要提供样品的厚度形 状和测量位置的修正系数。
电阻率值可由下面公式得出:
式中:ρ0 为块状体电阻率测量值; W:为样品厚度(um);S:探针间距(mm); G(W/S)为样品厚度修正函数,可由附录IA或附录 1B查得; D(d/S)为样品形状和测量位置的修正函数,可由附 录2查得。W/S<0.5时,实用。 当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
探针方法测量半导体的电阻率
〈一〉实验目的
〈二〉实验原理
〈三〉仪器结构特征
〈四〉操作步骤
〈五〉注意事项
〈六〉技术参数
<一> 实验目的
1、理解四探针方法测量半导体电阻率的原理; 2、学会用四探针方法测量半导体电阻率。
<二> 实验原理
1、体电阻率测量:
当1、2、3、4四根 金属探针排成一直线时, 并以一定压力压在半导体 材料上,在1、4两处探 针间通过电流I,则2、3
在半导体材料断面测量时:直径范围
Φ15~100mm,其高度为400mm,如果要对大
于400mm长单晶的断面测量,可以将座体的
V型槽有机玻璃板取下,座体设有一个腰形
孔,用户可以根据需要增设支衬垫块使晶体
长度向台下延伸,以满足测量长单晶需求,
测试架有专门的屏蔽导线插头与电气箱联结。
<四> 实验步骤
1、测试准备:电源开关置于断开位置,工作 选择置于“短路”,电流开关处于弹出切断 位置。将测试样品放在样品架上,调节高度 手轮,使探针能与其表面保持良好接触。

四探针法测量面电阻

四探针法测量面电阻

利用直流四探针法测量半导体的电阻率一,测试原理:当四根金属探针排成一条直线,并以一定压力压在半导体材料上时,在1,4两根探针间通过电流I,则2,3探针间产生电位差V(如图所示).根据公式可计算出材料的电阻率:其中,C为四探针的探针系数(cm),它的大小取决于四根探针的排列方法和针距. 二,仪器操作:(一)测试前的准备:1,将电源插头插入仪器背面的电源插座,电源开关置于断开位置;2,工作方式开关置于"短路"位置,电流开关处于弹出位置;3,将手动测试架的屏蔽线插头与电气箱的输入插座连接好;4,对测试样品进行一定的处理(如喷沙,清洁等);5,调节室内温度及湿度使之达到测试要求.(二)测试:首先将电源开关置于开启位置,测量选择开关置于"短路",出现数字显示,通电预热半小时.1,放好样品,压下探头,将测量选择开关置于"测量"位置,极性开关置于开关上方; 2,选择适当的电压量程和电流量程,数字显示基本为"0000",若末位有数字,可旋转调零调节旋钮使之显示为"0000";3,将工作方式开关置于"I调节",按下电流开关,旋动电流调节旋钮,使数字显示为"1000",该值为各电流量程的满量程值;4,再将极性开关压下,使数显也为1000±1,退出电流开关,将工作方式开关置于1或6.28处(探头间距为1.59mm时置于1位置,间距为1mm时置于6.28位置);(调节电流后,上述步骤在以后的测量中可不必重复;只要调节好后,按下电流开关,可由数显直接读出测量值.)5,若数显熄灭,仅剩"1",表示超出该量程电压值,可将电压量程开关拨到更高档;6,读数后,将极性开关拨至另一方,可读出负极性时的测量值,将两次测量值取平均数即为样品在该处的电阻率值.三,注意事项:1,压下探头时,压力要适中,以免损坏探针;2,由于样品表面电阻可能分布不均,测量时应对一个样品多测几个点,然后取平均值; 3,样品的实际电阻率还与其厚度有关,还需查附录中的厚度修正系数,进行修正.1. 在测容性负载阻值时,绝缘输出短路电流大小与测量数据有什么关系,为什么? 绝缘输出短路电流的大小可反映出该兆欧表内部输出高压源内阻的大小。

四探针法测量电阻率

四探针法测量电阻率

实验二 四探针法测量电阻率一、引言电阻率是反映半导体材料导电性能的重要参数之一.虽然测量电阻率的方法很多,但由于四探针法设备简单、操作方便、精确度高、测量范围广,而且对样品形状无严格要求,不仅能测量大块材料的电阻率,也能测量异形层、扩散层、离子注入层及外延层的电阻率,因此在科学研究及实际生产中得到广泛利用。

本实验是用四探针法测量硅单晶材料的电阻率及pn 结扩散层的方块电阻。

通过实验,掌握四探针法测量电阻率的基本原理和方法以及对具有各种几何形状样品的修正,并了解影响测量结果的各种因素。

二、原理1、 四探针法测量单晶材料的电阻率最常用的四探针法是将四根金属探针的针尖排在同一直线上的直线型四探针法,如图2.1所示。

当四根探针同时压在一块相对于探针间距可视为半无穷大的半导体平坦表面上时,如果探针接触处的材料是均匀的,并可忽略电流在探针处的少子注入,则当电流I 由探针流入样品时,可视为点电流源,在半无穷大的均匀样品中所产生的电力线具有球面对称性,即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面。

样品中距离点电源r 处的电流密度j,电场ε和电位V 分别为)3........(..........2)2.........(2)1.......(. (22)2r I V r I j r Ij πρπρσεπ====其中,σ和ρ分别是样品的电导率和电阻率。

若电流由探针流出样品,则有)4........(..........2rI V πρ=因此,当电流由探针1流入样品,自探针4流出样品时,根据电位叠加原理,在探针2处的电位为)5.....(. (12123)212S S I S I V +⋅-⋅=πρπρ 在探针3处的电位为)6.....(. (12123)213S I S S I V ⋅-+⋅=πρπρ 式中的S 1是探针1和2之间的距离,S2是探针2和3之间的距离,S3是探针3和4之间的距离。

所以探针2、3之间的电位为)7......(S 1S S 1S S 1S 1(2I V V V 3213213223++-+-⋅πρ=-= 由此可求出样品的电阻率为)8.....(..........)S 1S S 1S S 1S 1(I V 2132132123-++-+-π=ρ 当S1=S2=S3=S 时,(8)式简化为)9.....(. (223)IV Sπρ= (9)式就是利用直线型四探针测量电阻率的公式。

四探针方法测电阻率

四探针方法测电阻率

的测量,如电导率、迁移率等,为材料科学和电子学等领域的研究提供
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导线
用于连接测试设备和样品,需选用低 阻抗导线。
实验环境与条件
01
02
03
实验室环境
保持实验室温度、湿度和 清洁度等环境因素稳定, 以保证测量结果的准确性。
电源条件
确保电源电压稳定,避免 电压波动对测量结果的影 响。
安全措施
实验操作过程中需注意安 全,遵守实验室安全规定, 确保实验人员和设备的安 全。
07
结论与展望
研究结论
1 2
电阻率测量精ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ高
四探针方法通过四个探针同时接触样品,能够有 效地减小接触电阻和测量误差,从而获得更高的 电阻率测量精度。
适用范围广
四探针方法适用于各种不同类型和规格的样品, 如金属、半导体、陶瓷等,具有较广的适用范围。
3
操作简便
四探针方法不需要对样品进行特殊处理或制备, 只需将探针放置在样品上即可进行测量,操作简 便易行。
随着科技的发展,四探针方法的应用领域不断拓展,不仅局限于半导体和金属材料检测。
在新能源领域,如太阳能电池和燃料电池的生产过程中,四探针方法可用于检测材料的电阻 率,提高电池性能和稳定性。
在环境监测领域,四探针方法可应用于土壤电阻率的测量,为土壤污染治理和土地资源管理 提供依据。此外,在地质勘探、生物医学和食品检测等领域,四探针方法也展现出广阔的应 用前景。
的测量。
四探针的优点与局限性
优点
四探针法具有较高的测量精度和稳定 性,适用于各种形状和尺寸的样品, 且操作简便、快速。
局限性
四探针法需要与被测材料直接接触, 可能会对材料表面造成损伤或污染; 同时对于导电性较差或不均匀的材料 ,测量结果可能存在误差。

四探针方法测电阻率(原理公式推导)

四探针方法测电阻率(原理公式推导)
探针方法测量半导体的电阻率
〈一〉实验目的
〈二〉实验原理
〈三〉仪器结构特征
〈四〉操作步骤
〈五〉注意事项
〈六〉技术参数
<一> 实验目的
1、理解四探针方法测量半导体电阻率的原理; 2、学会用四探针方法测量半导体电阻率。
<二> 实验原理
1、体电阻率测量:
当1、2、3、4四根 金属探针排成一直线时, 并以一定压力压在半导体 材料上,在1、4两处探 针间通过电流I,则2、3
• 为克服测试时探针与样品接触时产生的接触
电势和整流效应的影响。本仪器设立有“粗 调”、“细调”调零电路能产生一个恒定的 电势来补偿附加电势的影响。 • 仪器自较电路中备有精度为0.02%、阻值为 19.96的标准电阻,作为自校电路的基础,通 过自校电路可以方便地对数字电压表精度和 恒流源进行校准。
在半导体材料断面测量时:直径范围
Φ15~100mm,其高度为400mm,如果要对大
于400mm长单晶的断面测量,可以将座体的
V型槽有机玻璃板取下,座体设有一个腰形
孔,用户可以根据需要增设支衬垫块使晶体
长度向台下延伸,以满足测量长单晶需求,
测试架有专门的屏蔽导线插头与电气箱联结。
<四> 实验步骤
1、测试准备:电源开关置于断开位置,工作 选择置于“短路”,电流开关处于弹出切断 位置。将测试样品放在样品架上,调节高度 手轮,使探针能与其表面保持良好接触。
• 温度影响电阻率,从面影响电阻 • p=p1(1+aT),p1为该材料0摄氏度时的电阻 率, a叫电阻的温度系数,不同材料的电阻 温度系数不同 • 由R=p*l/s p=p1(1+aT),得 • R=R1(1+aT) 同理,R1为0摄氏度时的电阻 • R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度 ;s—与电流垂直的电阻截面面

四探针方法测电阻率(原理公式推导)

四探针方法测电阻率(原理公式推导)
若电流取I = C 时,则ρ=V,可由数字电压表直 接读出。
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温度影响电阻率,从面影响电阻 p=p1(1+aT),p1为该材料0摄氏度时的电阻率, a叫电阻
的温度系数,不同材料的电阻温度系数不同 由R=p*l/s p=p1(1+aT),得 R=R1(1+aT) 同理,R1为0摄氏度时的电阻 R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度;s—与电流
4、将工作选择档置于“自校”,使电流显示出“199*”, 各量程数值误差为4字。
5、将工作选择档置于“调节”,电流调节在I=6.28=C,C为 探针几何修正系数。
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1.显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作选择开关 (短路、测量、调节、自校选择)5、电压量程开关6、输入插 座7、调零细调8、调零粗调9、电流调节10、电源开关11、电 流选择开关 12、极性开关
<三> 仪器结构特征
数字式四探针测试仪主体部分由高灵敏度直流数字电 压表、恒流源、电源、DC-DC电源变换器组成。为了 扩大仪器功能及方便使用,还设立了单位、小数点自 动显示电路、电流调节、自校电路和调零电路。
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仪器电源经过DC-DC变换器,由恒流源电路产生一个高稳定 恒定直流电流,其量程为10μA、100μA、1mA、10mA、 100mA,数值连续可调,输送到1、4探针上,在样品上 产生一个电位差,此直流电压信号由2、3探针输送到电气 箱内。具有高灵敏度、高输入阻抗的直流放大器中将直流信 号放大(放大量程有0.2mV、2mV、20mV 、200mV、 2V),再经过双积分A/D变换将模拟量变换为数字量,经由 计数器、单位、小数点自动转换电路显示出测量结果。
当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
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4、薄片电阻率测量:当薄片厚度>0.5mm时, 按公式(3)进行;当薄片厚度<0.5mm时, 按公式(4)进行。
5、仪器在中断测量时应将工作选择开关置于 “短路”;电流开关置于弹出断开位置。
电阻率值可由下面公式得出:
C V IG (W S)D (d S)0G (W S)D (d S)
式中:ρ0 为块状体电阻率测量值; W:为样品厚度(um);S:探针间距(mm); G(W/S)为样品厚度修正函数,可由附录IA或附录 1B查得; D(d/S)为样品形状和测量位置的修正函数,可由附 录2查得。W/S<0.5时,实用。 当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
0W S2l1n2D(dS)
2、带扩散层的方块电阻测量 当半导体薄层尺寸满足于半无限大时:
V
V
R0
( )4.53
ln2 I
I
若取I = 4.53 I0,I0为该电流量程满度值, 则R0值可由数字表中直接读出的数乘上10 后得到。
<三> 仪器结构特征
• 数字式四探针测试仪主体部分由高灵敏 度直流数字电压表、恒流源、电源、DCDC电源变换器组成。为了扩大仪器功能 及方便使用,还设立了单位、小数点自 动显示电路、电流调节、自校电路和调 零电路。
• 温度影响电阻率,从面影响电阻
• p=p1(1+aT),p1为该材料0摄氏度时的电阻 率, a叫电阻的温度系数,不同材料的电阻 温度系数不同
• 由R=p*l/s p=p1(1+aT),得
• R=R1(1+aT) 同理,R1为0摄氏度时的电阻
• R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度 ;s—与电流垂直的电阻截面面
• 为克服测试时探针与样品接触时产生的接触 电势和整流效应的影响。本仪器设立有“粗 调”、“细调”调零电路能产生一个恒定的 电势来补偿附加电势的影响。
• 仪器自较电路中备有精度为0.02%、阻值为 19.96的标准电阻,作为自校电路的基础,通 过自校电路可以方便地对数字电压表精度和 恒流源进行校准。
• 测量电阻时,可以按表所示的电压电流量程进 行选择。
6、工作状态选择开关置于“测量”,按下电流 开关输出恒定电流,即可由数字显示板和单 位显示灯直接读出测量值。再将极性开关拨 至下方(负极性),按下电流开,读出测量 值,将两次测量值取平均,即为样品在该处 的电阻率值。关如果“±”极性发出闪烁信号, 则测量数值已超过此电压量程,应将电压量 程开关拨到更高档,读数后退出电流开关, 数字显示恢复到零位。每次更换电压、电流 量程均要重复35步骤。
四探针方法测电阻率(原理公式推导)
〈一〉实验目的 〈二〉实验原理 〈三〉仪器结构特征 〈四〉操作步骤 〈五〉注意事项 〈六〉技术参数
<一> 实验目的
1、理解四探针方法测量半导体电阻率的原理; 2、学会用四探针方法测量半导体电阻率。
<二> 实验原理
1、体电阻率测量:
当1、2、3、4四根 金属探针排成一直线时, 并以一定压力压在半导体 材料上,在1、4两处探 针间通过电流I,则2、3 探针间产生电位差V。
• 仪器电源经过DC-DC变换器,由恒流源电路 产生一个高稳定恒定直流电流,其量程为 10μA、100μA、1mA、10mA、100mA,数值 连续可调,输送到1、4探针上,在样品上 产生一个电位差,此直流电压信号由2、3 探针输送到电气箱内。具有高灵敏度、高输 入阻抗的直流放大器中将直流信号放大(放 大量程有0.2mV、2mV、20mV 、200mV、 2V),再经过双积分A/D变换将模拟量变换 为数字量,经由计数器、单位、小数点自动 转换电路显示出测量结果。
在半导体材料断面测量时:直径范围 Φ15~100mm,其高度为400mm,如果要对大 于400mm长单晶的断面测量,可以将座体的 V型槽有机玻璃板取下,座体设有一个腰形 孔,用户可以根据需要增设支衬垫块使晶体 长度向台下延伸,以满足测量长单晶需求, 测试架有专门的屏蔽导线插头与电气箱联结。
<四> 实验步骤
4、将工作选择档置于“自校”,使电流显示出 “199*”,各量程数值误差为4字。
5、将工作选择档置于“调节”,电流调节在I =6.28=C,C为探针几何修正系数。
1.显示板 2、单位显示灯 3、电流量程开关 4、工作选择开关 (短路、测量、调节、自校选择)5、电压量程开关6、输入插 座7、调零细调8、调零粗调9、电流调节10、电源开关11、电 流选择开关 12、极性开关
(a)块状和棒状样品体电阻率测量: 由于块状和棒状样品外形尺寸与探针间距 比较,合乎于半无限大的边界条件,电阻 率值可以直接由(1)、(2)式求出。
(b)簿片电阻率测量 簿片样品因为其厚度与探针间距比较, 不能忽略,测量时要提供样品的厚度形 状和测量位置的修正系数。
大家学习辛苦了,还是要坚持
继续保持安静
四探针法测量原理图
材料电阻率 VC
(1)
I
探针系数
C 11
20π 1
1
(2)
S1 S2 S1S2 S2S3
式中:S1、S2、S3分别为探针1与2,2与3,3 与4之间距,用cm为单位时的值,S1=S2=S3=1mm. 每个探头都有自己的系数。C6.280.05单位cm。
若电流取I = C 时,则ρ=V,可由数字电压表直 接读出。
1、测试准备:电源开关置于断开位置,工作 选择置于“短路”,电流开关处于弹出切断 位置。将测试样品放在样品架上,调节高度 手轮,使探针能与其表面保持良好接触。
2、打开电源并预热1小时。
3、极性开关置于上方,工作状态选择开关置于 “短路”,拨动电流和电压量程开关,置于 样品测量所合适的电流、电压量程范围。调 节电压表的粗调细调调零,使显示为零。
<五> 注意事项
1、电流量程开关与电压量程开关必须放在 下表所列的任一组对测量夹换下回探 针测试架,按下图接好样品,选择合适的电压 电流量程,电流值调到10.00数值,读出数值为 实际测量的电阻值。
3、方块电阻测量,电流调节在4.53时,读出数 值10倍为实际的方块电阻值。
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