电子工业超纯水设备新工艺

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超纯水设备EDI与混床简介

超纯水设备EDI与混床简介

五、EDI装置与混床离子交换设备比较
EDI装置与混床离子交换设备属于水处理系统中的精处理设备,下面 将两种设备在产水水质、投资量及运行成本方面进行比较,来说明 EDI装置在水处理中应用的优越性。 (1)产水水质比较 EDI装置是一个连续净水过程,因此其产品水水 质稳定,电阻率最高可达18.25MΩ ·cm,达到超纯水的指标。混床离 子交换设施的净水过程是间断式的,在刚刚被再生后,其产品水水质 较高,而在下次再生之前,其产品水水质较差。 (2)投资量比较 与混床离子交换设施相比EDI装置投资量要高约 20%左右,但从混床需要酸碱储存、酸碱添加和废水处理设施及后期 维护、树脂更换来看,两者费用相差在10%左右。随着技术的提高与 批量生产,EDI装置所需的投资量会大大的降低。另外,EDI装置设备 小巧,所需厂房远远小于混床。
3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备,这是一种制取超 纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制 备工艺,其基本工艺流程为:原水→原水箱→原水泵→多介质过滤 器→精密过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→(EDI)泵→保安 过滤器→紫外线→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过 滤器→用水点
EDI装置属于精处理水系统,一般多与反渗 透(RO)配合使用,组成预处理、反渗透、 EDI装置的超纯水处理系统,取代了传统水 处理工艺的混合离子交换设备。EDI装置 进水要求为电阻率为0.025-0.5MΩ ·cm, 反渗透装置完全可以满足要求。EDI装置 可生产电阻率高达18MΩ ·cm以上的超纯 水。来自六、 EDI技术的应用
EDI技术在国外广泛的应用有十几年的时间,大多用于制 药行业、微电子行业、发电工业和实验室。在表面清洗、 表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。 EDI技术的应用 1、制药行业、微电子行业、发电工业和实验室。 2、在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应 用也日趋广泛。 3、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路; 4、超纯材料和超纯化学试剂; 5、实验室和中试车间; 6、汽车、家电表面抛光处理; 7、光电产品; 8、其他高科技精微产品;

edi超纯水设备制作工艺

edi超纯水设备制作工艺

edi超纯水设备制作工艺EDI超纯水设备是一种高纯度水处理设备,其工艺是利用电化学反应原理,通过阴/阳离子交换膜的作用、电势力驱动、离子分离等多重步骤,将水中的离子和杂质去除,生产出极佳的高纯度水。

制作EDi超纯水设备首先要进行原水处理,也就是水源的预处理。

一般来说,原水处理的标准要根据最终使用的水质决定,以保证出水质量的稳定性和一致性。

原水预处理的步骤包括混凝、沉淀、过滤、活性炭吸附、反渗透等过程。

接下来,需要进行离子交换静态混合,它是基于阴/阳离子交换原理和电荷原则进行的。

水经过阴阳离子交换树脂的过滤,可去除残留的阴离子和阳离子污染物,提高水的质量。

然后,进行电去离子,该步骤是整个EDI设备的核心部分。

电去离子相当于一个具有较小孔径的离子交换膜,通过交换膜的作用,水中的离子被分离成两部分,正离子被吸附在阴离子交换层上,负离子被吸附在阳离子交换层上,两个反应相互重复进行,不断驱动以达到去离子的效果。

其间如果出现严重的闪耀放电等工作失误,需要进行维护或保养。

最后,进行在线TOC监测和红外线消毒两道工序,确保产出水的高纯度、优质、安全。

TOC(total organic carbon)是指水中有机碳总量,通过在线测量,对生产的高纯水进行监测,以确保该水无机有机杂质偏低,质量稳定。

红外线消毒可以用尤里龙灯或紫外线消毒等方法进行,这些都是非化学消毒手段,无二次污染,确保产水的无菌性。

整个EDI超纯水设备制作工艺复杂,其中每一个步骤都至关重要。

通过不断优化设备的工艺流程、技术创新和设备改进,构建出更加稳定、可靠的超纯水设备,为实际应用提供了保障。

edi超纯水设备方案

edi超纯水设备方案

edi超纯水设备方案一、概述在现代工业生产中,水是一个不可或缺的资源。

许多行业都对水的纯净度有严格的要求,尤其是在药品、食品加工、电子电器等领域,需要使用高纯度的水才能保证产品质量。

EDI(Electrodeionization)超纯水设备便是解决纯水需求的一种先进技术。

本文将结合EDI超纯水设备的原理和特点,为您提供一套完整的EDI超纯水设备方案。

二、方案实施1. 设备选型首先,需要根据客户的具体需求和生产工艺特点,选择合适的EDI超纯水设备。

通常包括预处理系统、EDI主机、纯水贮存系统和消毒系统等组成部分。

对于大型工业生产厂家来说,需要考虑设备的处理水量、操作稳定性、耗能情况等方面因素。

对于小型实验室或办公环境,则可以选择紧凑型的EDI设备。

2. 预处理系统预处理系统是EDI超纯水设备的重要组成部分,用于去除水中的悬浮物、溶解物和有机物等杂质。

常见的预处理设备包括颗粒物过滤器、活性炭吸附器、软化设备等。

通过预处理系统的处理,可以大大提高EDI主机的效能和寿命。

3. EDI主机EDI主机是实现超纯水产生的核心设备,通过电渗析和电吸附的作用,去除水中的离子和溶解物,使水质达到高纯度级别。

EDI主机采用模块化设计,操作维护方便,且具有稳定的性能。

选择适当的EDI 主机,是确保超纯水产出稳定质量的关键。

4. 纯水贮存系统纯水贮存系统用于存储和供应超纯水,一般包括纯水储罐、管道连接系统和传感器等。

根据具体需求,可以选择不锈钢或塑料储罐,确保超纯水在输送和贮存过程中不受到二次污染。

此外,安装适当的传感器和监控系统,可以及时监测水质情况,提供实时的数据反馈。

5. 消毒系统为了保证水的纯净度和卫生安全,EDI超纯水设备方案中通常会包括消毒系统。

常见的消毒方法包括紫外线消毒、臭氧消毒和余氯消毒等。

通过合理配置消毒设备,可以有效杀灭水中的细菌和病毒,保障超纯水的卫生质量。

三、方案优势1. 高纯度水质:EDI超纯水设备能够去除水中的离子、微生物和有机物等,产生高纯度的水质,满足各行业对水质纯净度的要求。

超纯水处理原理,工艺及技术简介

超纯水处理原理,工艺及技术简介

超纯水处理原理, 工艺流程及技术简介1.超纯水制备原理威立雅实验室超纯水器通常由原水预处理系统、反渗透纯化系统、超纯化后处理系统三部分组成。

预处理的目的主要是使原水达到反渗透膜分离组件的进水要求,保证反渗透纯化系统的稳定运行。

反渗透膜系统是一次性去除原水中98%以上离子、有机物及100%微生物(理论上)最经济高效的纯化方法。

超纯化后处理系统通过多种集成技术进一步去除反渗透纯水中尚存的微量离子、有机物等杂质,以满足不同用途的最终水质指标要求。

2.原水预处理系统预处理系统通常由聚丙烯纤维(PP)过滤器和活性炭(AC)过滤器组成。

对硬度较高的原水还需加装软化树脂过滤器。

PP滤芯可高效去除原水中5μm以上的机械颗粒杂质、铁锈及大的胶状物等污染物,保护后续过滤器,其特点是纳污量大, 价格低廉。

AC活性炭滤芯可高效吸附原水中余氯和部分有机物、胶体,保护聚酰胺反渗透复合膜免遭余氯氧化。

软化树脂可脱除原水中大部分钙镁离子,防止后续RO膜表面结垢堵塞,提高水的回收率。

3.反渗透纯化系统反渗透(Reverse Osmosis,简称RO)是以压力差为推动力的一种高新膜分离技术,具有一次分离度高、无相变、简单高效的特点。

反渗透膜“孔径”已小至纳米(1nm=10-9m),在扫描电镜下无法看到表面任何“过滤”小孔。

在高于原水渗透压的操作压力下,水分子可反渗透通过RO半透膜,产出纯水,而原水中的大量无机离子、有机物、胶体、微生物、热原等被RO膜截留。

通常当原水电导率<200μS/cm时,一级RO纯水电导率≤5μs/cm,符合实验室三级用水标准。

对于原水电导率高的地区,为节省后续混床离子交换树脂更换成本,提高纯水水质,客户可考虑选择二级反渗透纯化系统,二级RO纯水电导率约1~5μS/cm,与原水水质有关。

4.超纯化后处理系统①混床离子交换纯化柱混床离子交换纯化柱由阴离子交换树脂和阳离子交换树脂按比例混合而成。

阳离子交换树脂用其H+交换去除水中的阳离子,阴离子交换树脂用其OH-交换去除水中的阴离子,在混床树脂中被交换出来的H+和OH-结合生成H2O,因此混床离子交换纯化柱可用来深度去除RO纯水中尚存的微量离子。

EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明

EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明

EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明1. 引言EDI(Electrodeionization)技术是一种高效、低成本的水处理技术,通过电场和离子交换膜的作用,将离子从水中去除,从而获得超纯水。

本文将介绍EDI超纯水设备的工艺流程,以及该设备的操作方法和注意事项。

2. 设备工艺流程EDI超纯水设备的工艺流程如下所示:1.预处理:首先,需要对进水进行预处理,包括去除悬浮物、有机物和游离氯等。

这可以通过沉淀、过滤和活性炭吸附等步骤来实现。

2.反渗透:接下来,将预处理后的水进一步处理,使用反渗透(RO)膜去除大部分的离子和溶解物质。

RO膜是一种半透膜,能够过滤掉离子和溶解物,但保留水分子。

3.电去离子:RO膜后的水进入EDI单元,EDI单元由一个阳离子交换膜和一个阴离子交换膜组成。

水分子在膜间通过强电场作用下离子交换膜,从而将阳离子和阴离子分离开。

最终获得高纯度的超纯水。

4.消毒:得到的超纯水需要进行消毒处理,以确保无菌纯净。

常见的消毒方法包括紫外线照射和臭氧处理。

3. 设备操作说明EDI超纯水设备的操作步骤如下:1.开机准备:检查设备是否完好,并确保其连接正常。

检查预处理系统和反渗透系统的运行状态。

2.开启预处理系统:按照预处理系统的操作说明,将预处理设备打开。

确保预处理设备正常运行,对进水进行必要的处理。

3.开启反渗透系统:按照反渗透系统的操作说明,将反渗透设备打开。

调整系统参数,确保RO膜的正常运行。

监测压力、流量和浓度等指标,确保系统工作正常。

4.开启EDI单元:打开EDI单元,并调整电场强度。

根据设备的说明书设置电场强度和运行参数。

5.监测参数:定期监测超纯水输出的参数,包括电导率、溶解氧等。

确保超纯水质量符合要求。

6.设备维护:定期维护设备,包括清洗预处理系统、反渗透系统和EDI单元。

定期更换膜元件和离子交换树脂,以保证设备的正常运行。

7.关闭设备:当设备不再使用时,按照操作规程关闭设备。

先关闭EDI单元,再关闭反渗透系统和预处理系统。

EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明资料下载

EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明资料下载

EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明资料下载EDI(Electrodeionization)超纯水设备是一种利用电渗析和离子膜选择性渗透的工艺,通过电场和离子交换树脂的协同作用,将水中的离子聚集在一个位置上,以达到提高水质的目的。

EDI工艺主要由三个步骤组成:前处理、EDI和后处理。

下面是EDI超纯水设备工艺的详细介绍和操作说明。

一、前处理前处理是将水源进行初步处理,去除大颗粒悬浮物、有机物和部分溶解性离子,以减少对EDI模块的负担。

常见的前处理工艺包括砂滤、活性炭吸附、反渗透等。

工艺流程如下:1.砂滤:将水源经过砂滤系统,去除较大颗粒悬浮物和杂质。

2.活性炭吸附:将水源通过活性炭吸附系统,去除有机物质和部分溶解性气体。

3.反渗透:将水源通过反渗透系统,去除溶解性离子和微量有机物。

二、EDI工艺EDI工艺是超纯水制备的核心步骤,主要通过电场和离子交换树脂来去除水中离子。

EDI工艺一般包括两个部分:首先是阳离子交换器,通过离子交换树脂吸附水中的阳离子;然后是阴离子交换器,通过离子交换树脂吸附水中的阴离子。

工艺流程如下:1.阳离子交换器:将进水通过阳离子交换器,去除大部分阳离子。

2.阴离子交换器:将阳离子交换后的水通过阴离子交换器,去除大部分阴离子。

3.电渗析:将阴离子交换后的水通过电场作用,使水中的离子在电场力的推动下向电极聚集。

4.清洗:定期清洗EDI设备,保证其正常运行。

三、后处理后处理是对EDI产出水进行最后的处理,以确保水质达到超纯水的要求。

常见的后处理工艺包括在线杀菌、紫外线消毒、TOC(总有机碳)去除等。

工艺流程如下:1.在线杀菌:通过加入杀菌剂或采用其他杀菌方法,对EDI产出水进行杀菌处理。

2.紫外线消毒:将EDI产出水通过紫外线灯照射,以杀灭细菌和病毒。

3.TOC去除:采用吸附剂或其他方法,去除EDI产出水中的有机物。

操作说明:1.启动前处理系统,确保砂滤、活性炭吸附和反渗透系统正常运行。

电子电镀超纯水设备介绍

电子电镀超纯水设备介绍

电子电镀超纯水设备
电子电镀超纯水设备是电子行业发展最快影响最广的行业在电子行业中有着举足轻重的地位。

本文将对其进行简单介绍。

一、应用范围
电子电镀超纯水设备主要应用在电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;电子管生产;电子管阴极涂敷碳酸盐配液;显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产;玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;液晶显示器的生产;屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等。

二、工艺流程
预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)。

预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺) 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
(≥15MΩ.CM)(最新工艺)。

处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)。

这就是技术价值极高对我们生活产生重要影响的电子电镀超纯水设备。

半导体电子级超纯水工艺流程

半导体电子级超纯水工艺流程

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电子工业用超纯水设备技术简介及应用

电子工业用超纯水设备技术简介及应用

电子工业用超纯水设备技术简介及应用EDI技术简介
EDI技术是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。

它通过使用由离子膜、离子交换树脂组成的基本单元——膜组件,在直流电的作用下,无需使用酸碱对树脂进行再生,即可连续不断的长期运行,稳定可靠的制备超纯水。

EDI相比其他水处理方法,具有结构紧凑、占地面积小、运行稳定、产水品质高、回收率高、无酸碱再生、运行费用低等优点。

EDI超纯水设备的电气控制中心;可自动监测各种运行参数;其中操作系统的运行状态。

电子工业用水 (水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,10MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm 五级) 。

应用场合
· 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
· 超纯材料和超纯化学试剂;
· 实验室和中试车间
· 汽车、家电表面抛光处理;
· 其他高科技精微产品。

电子工业用常见的基本工艺流程
●预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水点
●预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级电子工业用水反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水点
●预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
●预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水点 (最新工艺)。

CDI 如何制造超纯水

CDI 如何制造超纯水

CDI 如何制造超纯水
一、应用
超纯水制备装置有着广泛的应用市场:各类工厂实验室、化验室、生物制药行业、医院、企业办公场所、公共场所(机场、车站)等等。

二、设备原理
电容去离子技术(Capacitive Deionization,CDI)是近年来国际上所兴起的一项新的水处理技术,是新一代的完全绿色环保的水处理技术。

CDI 技术利用表面双电层进行电容吸附去除水中电性物质。

在充电时外加直流电压,通过静电力把液体中的电性物质吸附在正负电极上。

吸附达到饱和时,让电极短路或者加反向电压(即放电),吸附
的电性物质成分便发生脱附,电极得到再生。

与传统的水处理技术想比较, CDI 具有几个突出的优点:其电极再生过程不会带来二次污染、能耗低、成本低、操作简单、易于自动化和大面积使用。

在电场和电极材料的催化作用下,可有效去除水中重金属、钙、镁离子,并氧化或分解有机物和氯离子等,降低水的 COD、色度、浊度、氨氮、磷、氰化物,中和 pH 等。

反渗透、电渗析和电容去离子技术对比
三、工艺流程
工艺流程分为二个部分:工作流程,再生流程。

工作流程:原水通过工作泵进入前级活性炭过滤器,初步过滤去除固体杂质,然后再送入 CDI 模块,水中溶解性的无机盐类被吸附,水质被净化。

再经过精细树脂吸附处理后的产出水可以达到超纯水标准(电阻率>15M ),可以根据具体出水需求设计不同模块。

再生流程:就是模块的清洗过程,冲洗经过短接或反接电容去离子 CDI 模块的电极,使饱和的电极得以再生。

整个再生过程有计算机控制自动完成。

半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理

半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理

半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理2019年9月19日半导体行业的生产对水质要求非常严格,半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术,保证设备出水水质符合行业用水需求。

半导体行业用超纯水设备工艺预处理→UF系统→一级反渗透→PH调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM)半导体的生产过程中,涉及到的用水有生产用水和清洗用水。

它的用水要求必须是超纯水,因为只有超纯水才能符合水质的标准,因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用,已经得到广泛认可。

下面莱特莱德小编来为大家分享半导体生产用超纯水设备工艺流程:原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点半导体生产用超纯水设备工作原理超纯水装置供给原水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜外的离子,树脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。

半导体生产用超纯水备工艺1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)半导体生产用超纯水备特点1、选用高性能离子交换树脂,工作交换容量大,能耗低,使用寿命长。

电子行业中EDI超纯水设备的应用.

电子行业中EDI超纯水设备的应用.

电子行业中EDI超纯水设备的应用目前,各行各业对水质的要求千差万别,电子行业发展迅速,特别是在我国,EDI超纯水设备电子行业的需求不断增加,而且对水质的要求也越来越严格,所以需要原水超纯水设备深度处理采用EDI。

介绍了电子级超纯水设备。

电子产业超纯水装备制备超纯水工艺有以下3种:1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点3、采用反渗透设备与电去离子(EDI设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点电子产业超纯水装备特性电子工业超纯水系统设备无需过多的人工操作,省时省力,能节省大量人力,在工艺选材上也比其他工艺具有优势,这些特性使得电子工业超纯水设备跟其他同类产品相比具有更高的实用价值。

为了保证EDI超纯水设备的连续制水,提高系统运行的稳定性,EDI装置通常采用模块化设计,即利用若干个一定规格的EDI膜块组合成一套EDI装置.如果其中的一个模块出现故障,在不影响装置运行的情况下,可以方便地对故障模块进行维修或更换处理.另外,模块化的设计方式还可以使装置保持一定的扩展性。

按结构形式分类EDI膜块作为EDI装置的核心部件,其设计参数是保证EDI装置整体运行性能的关键。

EDI膜块按其结构形式可分为板框式及螺旋卷式等两种。

板框式EDI模块板框式EDI膜块简称板式模块,它的内部部件为板结框工结构,主要由阳、阴电极板板、极框、离子交换膜、淡水隔板、浓水隔板及端板等部件按一定的顺序组装而成,设备的外形一般为长方形或圆形。

超纯水概述及工艺比较

超纯水概述及工艺比较

超纯水概述及工艺比较超纯水概述及工艺比较电子工业超纯水概述半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。

集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。

目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。

用两级反渗透制取电子工业超纯水处理设备采用两级反渗透主机加EDI制取电子工业超纯水处理设备制备电子工业用超纯水的工艺流程电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种:1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点三种制备电子工业用超纯水的工艺比较目前制备电子工业用超纯水的工艺基本上是以上三种,其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。

现将他们的优缺点分别列于下面:1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。

2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。

edi超纯水设备制作工艺

edi超纯水设备制作工艺

edi超纯水设备制作工艺超纯水设备是一种能够去除水中杂质、微生物和离子等物质的高纯度水制备设备。

它通常应用于电子、光伏、半导体、医药等行业中,以满足对水质要求非常高的生产和实验需求。

超纯水的制备工艺非常重要,其设备制作工艺需要严格控制各个环节的参数和流程,以确保最终产出的水质符合要求。

本文将从超纯水设备的工艺流程、主要设备制作过程和关键工艺参数等方面进行详细介绍。

一、超纯水设备的工艺流程超纯水设备的工艺流程通常包括原水处理、预处理、反渗透膜分离、超纯化、储水等主要环节。

下面将对这些环节进行详细介绍。

1.原水处理超纯水制备的第一步是原水处理,主要是去除水中的大颗粒杂质、悬浮物和有机物。

通常采用过滤器或沉淀器进行处理,以确保进入后续处理环节的水质较为清洁。

2.预处理预处理是为了进一步去除水中的杂质和溶解固体,通常采用活性炭吸附、离子交换树脂吸附等方法进行处理,以提高水的纯度和稳定性。

3.反渗透膜分离反渗透膜分离是超纯水制备的关键步骤,通过高压将水推入反渗透膜,将水中的离子、微生物和有机物等有害物质分离出去,从而得到较为纯净的水。

4.超纯化超纯化是在反渗透膜分离后进一步提高水质的过程,主要是通过电离交换树脂的吸附和再生、混床交换器的处理等手段,获得极高纯度的水。

5.储水储水是最后一步,目的是将处理好的超纯水进行储存,以备后续使用。

需要注意的是,储水容器和管道系统要求无菌和无污染,以确保水质不受污染。

二、超纯水设备的制作工艺超纯水设备的制作工艺主要包括设备选型、组装、调试和检验等环节。

下面将对每个环节进行详细介绍。

1.设备选型超纯水设备的选型是非常重要的,需要根据生产需求、水源水质、所需水质等因素进行选择。

一般来说,要考虑设备的适用性、性能稳定性、维护保养成本等因素进行选择。

2.组装组装是超纯水设备制作的重要环节,需要将各个组件按照设计图纸和要求进行组装,保证各个部件之间的连接紧密可靠,不漏水不泄气。

3.调试设备组装完成后,需要进行调试,检查整个系统的运行情况,保证设备正常工作。

EDI超纯水设备的工艺说明及标准

EDI超纯水设备的工艺说明及标准

EDI超纯水设备的工艺说明及标准EDI超纯水设备根据不同的源水水质采用不同的工艺。

一般自来水经一级反渗透系统处理后,产水电导率<10μS/cm,经二级反渗透系统后产水电导率<5μS/cm甚至更低,在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备超纯水,使电阻率达到18兆欧 (电导率=1/电阻率)。

本文主要介绍EDI水处理设备的工艺及标准。

一、技术工艺分析:1、采用RO反渗透+EDI离子交换系统相结合的成熟工艺,具有运行可靠、操作维护方便;2、与传统工艺相比具有运行稳定优点(离子交换器的再生周期大大延长),与最新工艺相比无须再生,耗材;3、前置RO反渗透工艺技术先进,可靠。

并运用成熟的EDI工艺,使水质出水更趋于稳定安全;二、系统工艺流程预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)三、工艺出水标准超纯化水标准、医疗生物水标准、显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)集成电路PCB用纯水水质、光电技术、航空技术、半导体高晶硅制取及化合物提取国家电子级纯水标准美国SEMI协会标准四、设备特点为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。

在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。

系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

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电子工业超纯水设备新工艺
反渗透技术是目前电子工业超纯水设备中最先进的处理工艺同时也是处理效果最理想的处理工艺已经到达广泛应用。

反渗透(简称RO)是膜分离技术的一种。

其原理是:用足够的压力使溶液中的溶剂(通常指水)通过反渗透膜分离出水,因它的运行与自然界的正常渗透过程相反,故称反渗透(或称逆渗透)。

随着膜技术的发展,膜性能不断提高,反渗透技术将发展成为进行分离、分级、提纯和富集的化工分离新技术。

反渗透技术的主要特点:能耗低、结构紧凑、操作简单、易维修、自动化程度高、不污染环境。

反渗透技术广泛应用于给水处理、城市自来水的净化、制取电力、电子、医药、医疗和食品等行业的纯水及超纯水、注射用水和食用纯水的制备;海水和苦咸水的淡化;制取饮用水等。

反渗透系统由其预处理及反渗透装置和后处理三部分组成。

反渗透系统的核心是反渗透装置,预处理是反渗透装置能否长期稳定运行的前提,后处理用以满足不同处理对象的最终产水水质指标。

反渗透(膜分离)法超纯水制造技术: 反渗透是用足够的压力使溶液中的溶剂(一般常指水)通过反渗透膜(一种半透膜)而分离出来,方向与渗透方向相反,可使用大于渗透压的反渗透法进行分离、提纯和浓缩溶液。

反渗透膜的主要分离对象是溶液中的离子范围。

反渗透法分离过程有如下优点:①不需加热、没有相变;②能耗少;过程连续
稳定;③设备体积小、操作简单,适应性强;④对环境不产生污染。

反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺。

一般自来水经一级反渗透系统处理后,产水电导率<10-20μS/cm,经二级反渗透系统后产水电导率<5μS/cm甚至更低,在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备超纯水,使电阻率高达18兆欧姆.厘米。

反渗透膜老化或受污染后,产水质量会下降. 反渗透超纯水设备: 反渗透水处理设备(膜分离)技术的应用使反渗透超纯水设备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器得到了一次进步。

近年来开始在国外推广应用的EDI(电去离子)技术,则是超纯水制造技术的一次革命,从此进入了一个无需再生化学品,而能生产出高达18MΩ•CM的超纯水,用于半导体、集成电路等行业。

国家经委也已将RO + EDI 成套技术的应用列入国家重点推广范围,对使用的企业给以政策上的优惠。

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