2019年溅射靶材行业市场调研分析报告
2019-2020年中国半导体行业市场调研分析报告
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产业链下游需求分析
20001 18001 16001 14001 12001 10001 8001 6001 4001 2001
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2014-2019年中国半导体市场需求规模及预测情况
半导体材料市场构成情况
大硅片 气体 光掩模 抛光液和抛光垫 光刻胶配套试剂 光刻胶 湿化学品 溅射靶材 其他
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产业链上游材料及设备分析
材料
硅晶片 光刻胶
用途
国产化情况
生产半导体芯片和器件的基础原材料
以6寸一下为主，少量8寸， 12寸依赖进口
用于显影、刻蚀等工艺，将所需微细 圆形从掩膜版转移到待加工基衬底
是大规模集成电路制造的关键性配套 材料，用于芯片的清洗、蚀刻
国产化率30%
用于半导体溅射
主要依赖进口
不同半导体材料特性及国产 化程度情况
由于半导体材料领域高端产 品技术壁垒高，而中国企业长 期研发和累计不足，中国半导 体材料在国际中处于中低端领
域，大部分产品的自给率较低， 主要是技术壁垒较低的封装材 料，而晶圆制造材料主要依靠 进口。目前，中国半导体材料 企业集中在6英寸以下的生产线， 少量企业开始打入8英寸、12英 寸生产线。
2018年全球半导体应用领域 排名前三的行业分别是通信、 PC/平板、工业/医疗。
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全球十大半导体企业
按全年营收计算，三星、Intel、 SK海力士是当今全球三大半导体巨 头。此外，美光科技、博通、高通、 德州仪器、西部数据、意法半导体、 恩智浦半导体跻身前十。
榜单显示，2018年三星电子全 年营收758.54亿美元，力压Intel排 名榜首，同比2017年增长26.7%，在 全球半导体市场占据15.9%的市场份 额。曾经的半导体一哥Intel如今位 列第二，2018年营收658.62亿美元， 市场份额为13.8%，同比2017年增长 12.2%。SK海力士以364.33亿美元营 收排名第三，但市场份额仅为7.6%， 同比增长率却为榜单最高，达到 38.2%。
磁控溅射靶材市场分析报告
磁控溅射靶材市场分析报告1.引言1.1 概述磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术，广泛应用于电子、光伏、显示器件等领域。
磁控溅射靶材作为磁控溅射技术的核心材料，其市场需求与应用领域直接关联。
本报告旨在对磁控溅射靶材市场进行深入分析，评估其市场现状和发展趋势，为相关企业和投资者提供市场参考。
文章结构部分的内容可以按照以下方式编写："1.2 文章结构":本文将分为引言、正文和结论三个部分进行分析。
首先，在引言部分中，将概述磁控溅射靶材的概念和重要性，并说明本文的目的和结构。
接着，在正文部分，将详细介绍磁控溅射靶材的概述、市场现状分析和发展趋势。
最后，在结论部分，将对磁控溅射靶材市场的前景进行展望，分析竞争态势，并提出相关建议和展望。
通过这样的结构安排，读者可以清晰地了解本文的组织结构和分析内容。
1.3 目的：本报告旨在对磁控溅射靶材市场进行深入分析，以全面了解当前市场现状和发展趋势。
通过对市场的概述、现状分析和发展趋势进行研究，旨在为相关企业提供市场前景展望、竞争态势分析和相关建议，以期能够为行业发展提供有益的参考和指导。
同时，本报告也希望能够为行业内外的相关人士提供了解磁控溅射靶材市场的重要信息，促进行业的良性发展和合作。
1.4 总结总结部分在本文中，我们对磁控溅射靶材市场进行了全面的分析和报道。
通过对磁控溅射靶材的概述，市场现状分析以及市场发展趋势的分析，我们了解到磁控溅射靶材市场具有很大的发展潜力，市场需求持续增长，技术创新和材料品质的提高将成为市场竞争的关键因素。
在结论部分，我们对磁控溅射靶材市场前景展望进行了深入探讨，并对竞争态势进行了分析。
我们还提出了一些建议，包括加强技术研发、提高产品品质和拓展市场渠道等方面的建议，以促进行业健康发展。
综上所述，磁控溅射靶材市场具有广阔的市场前景和发展空间，但也面临着一些挑战和竞争。
我们希望本报告能为相关企业和机构提供参考，促进磁控溅射靶材市场的持续健康发展。
中国ITO靶材市场现状与发展趋势分析
中国ITO靶材市场现状与发展趋势分析一、ITO靶材行业概况ITO（氧化铟锡）靶材是溅射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一种，在显示靶材中占比将近50%。
ITO靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结（1600度，通氧气烧结）形成的黑灰色陶瓷半导体。
ITO靶材有中低端和高端之分：中低端ITO靶材有玻璃镀膜靶材、发热膜和热反射膜靶材，包括汽车的显示屏、一些仪器仪表的显示。
高端ITO靶材主要用于显示器薄膜靶材、集成电路薄膜靶材以及磁记录和光记录膜靶材，尤其用于大面积、大规格的LED、OLED等领域，具备高密度、高纯度、高均匀性等特点。
ITO靶材分类ITO靶材可应用于以下领域：（1）平板显示器（FPD）产业，如薄膜晶体管显示器（TFT-LCD）、液晶显示器（LCD）、高触摸屏（TouchPanel）、等离子管显示器（PDP）、有机电致发光显示（OLED）等；（2）光伏产业，如薄膜太阳能电池；功能性玻璃，如红外线反射玻璃、抗紫外线玻璃如幕墙玻璃、飞机、汽车上的防雾挡风玻璃、光罩和玻璃型磁盘等。
其中，平板显示器及太阳能电池是其主要应用领域。
ITO靶材下游应用领域二、ITO靶材行业相关政策2011年6月，国家发改委、科技部、工信部、商务部、知识产权局《当前优先发展的高技术产业化重点领域指南（2011年度）》，提出要重点发展“TFT-LCD用靶材”；2012年2月，工信部发布的《新材料产业“十二五”发展规划》将ITO靶材、平板显示玻璃（TFT/PDP/OLED）列为发展重点；2013年2月，发改委将“新型显示器件及其关键件”列为《产业结构调整指导目录》鼓励类项目；2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2017年版）》，提出了平板显示用ITO 靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。
伴随ITO技术和产能突破瓶颈，国产ITO靶材凭借成本和性价比优势将逐步占领市场。
半导体芯片行业用金属溅射靶材市场分析
ZHANG Wei-gang1, LI Yuan-yuan2*, SUN Xu-dong1, WANG Peng1, YAN Wen-juan1.
半导体射后）
图 1 半导体芯片用靶材的溅射原理图
3 靶材分类 半导体芯片行业用的金属溅射靶材，主要种类包括 ：铜、
钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材，以及镍铂、钨钛等合金 类的溅射靶材 [2]。具体图 2 和表 1 所示 ：
收稿时间 ：２０１８－０５ 作者简介 ：张卫刚，陕西咸阳人，工程师，硕士，主要研究方向 ：稀有金 属材料加工工艺。
4 供应格局 当前国际上，日本的日矿金属、东曹公司以及美国的霍
2018年 5月下 世界有色金属 1
图 2 半导体芯片行业常用的金属溅射靶材
半导体芯片制造企业对靶材合格供应商的认证过程非 常漫长和苛刻，一般至少需要 2-3 年以上。对绝大多数靶材 生产企业来说，都难以承受在此期间所要付出的巨大资金、 人力以及时间成本，而对芯片制造企业来说，开发新的合格 供应商的时间成本和风险也很高，在现有靶材供应商能够满 足其生产需求的情况下，对引入新的供应商几乎没有兴趣。 这些也是造成该行业高技术壁垒的原因之一。
1 应用背景 半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，
也是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域。具体地， 半导体芯片的制作过程可分为硅片制造、晶圆制造和芯片封 装等三大环节，其中，在晶圆制造和芯片封装这两个环节中 都需要用到金属溅射靶材 [1]。
（1）硅 片 制 造 ：单 晶 硅 片 的 制 造 过 程，首 先 是 将 电 子 级 高 纯 多 晶 硅 通 过 重 熔 拉 成 单 晶 硅 棒，切 割 成 厚 度 为 0.5~1.5mm 的 薄 圆 片，常 见 的 晶 圆 直 径 包 括 ：150mm、 200mm、300mm 和 450mm 等（分别对应 6 寸、8 寸、12 寸 以及 18 寸等规格）。
有色行业专题系列研究之——靶材：国内需求高增、国产替代加速，蓄势待发
万联证券证券研究报告|有色金属国内需求高增、国产替代加速，蓄势待发强于大市（维持）——有色行业专题系列研究之——靶材日期：2021年01月22日[Table_Summary] 行业核心观点：有色行业涉及的金属品种及代表性的金属材料众多，产业链涵盖资源开发、冶炼和加工各个环节，产品广泛用于工业、新能源、电子、军工各个领域，周期各有差异、结构多点开花,且当前处于新一轮景气上行周期，完全具备乘时乘势基础。
系列专题着力能源金属及相关金属材料，本篇聚焦靶材，望有助于诸君！投资要点：⚫ 高纯金属制备，镀膜实现导电或阻挡功能：靶材是制备功能薄膜的原材料，以99.95%以上高纯金属为原料制备，用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域，实现导电或阻挡等功能。
其中，半导体领域对纯度和技艺要求最高，5N5以上。
靶材种类繁多，客户需求非标，定制属性明显。
当前趋势是高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、以及高纯金属。
⚫ 中期较高增长、当前景气上行，国产替代加速：需求端，我们测算，国内靶材市场到2023年接近300亿元，面板和半导体领域受益于全球消费增长和中国份额提升，市场分别达200/50亿元量级，光伏领域则随着HJT 电池降本应用潜在需求可期，3年总需求CAGR 达9.7%较快增长；就目前而言，面板和半导体行业景气度周期上行，在线办公+5G+传统汽车消费复苏等因素持续发力，这一趋势预计未来1-2年可维持，目前相关靶材企业开工率接近满产。
供给端，全球市场依然由霍尼韦尔等企业寡占，但国内企业已经打通半导体靶材国产替代技术基础，有研新材、江丰电子进入全球主流芯片代工企业；国内四五家面板靶材企业进入京东方，国产替代整体从1到N 呈加速态势。
⚫ 国内公司着力面板和半导体领域，纵横向皆有拓展：江丰电子业务领域涉及半导体和平板显示，投资加码市场最大平板显示领域，对高纯金属原料也有拓展；阿石创靶材以平板显示用为主，亦在投资加码显示靶材；有研新材作为国有企业，专注半导体靶材及高纯金属原料，着力攻克国产替代技术难题；隆华科技靶材业务来自收购，目前用于平板显示领域。
常见磁控溅射靶材利用率及其计算方法的探讨
常见磁控溅射靶材利用率及其计算方法的探讨
赵嘉学;金凡亚
【期刊名称】《核聚变与等离子体物理》
【年(卷),期】2007(027)001
【摘要】探讨了矩形平面、圆形平面和圆柱管这三种常见磁控溅射源的靶材极限利用率的理论计算方法,推出了利用率的近似计算公式,分析了影响利用率的因素.跑道刻蚀形状(宽度和收缩系数)强烈影响平面类静态靶的极限利用率.旋转磁场圆柱管靶材的极限利用率主要决定于靶的自身几何尺寸(壁厚、长度和管径),与跑道的刻蚀形状(即外界的物理因素)几乎没有关系.
【总页数】7页(P66-72)
【作者】赵嘉学;金凡亚
【作者单位】核工业西南物理研究院,成都,610041;核工业西南物理研究院,成都,610041
【正文语种】中文
【中图分类】TB79
【相关文献】
1.对仓容利用率定额的看法和仓容利用率计算方法的探讨 [J], 曹顺
2.区域供冷供热系统可再生能源利用率计算方法探讨 [J], 张华玲;徐文慧
3.ISO 21106-2019《铁路车辆可再利用率和回收利用率计算方法》探讨 [J], 寇怀江;刘书娟
4.高靶材利用率的新型磁控溅射器 [J], 黄士勇;曲凤钦;苗晔;孟兆坤
5.提高DC平面磁控溅射中靶材利用率的新方法 [J], 周勇
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2019-2020年中国半导体行业市场现状与发展前景分析报告
设备；IC封测主要用封测产进行采购，
包括拣选、测试、贴片、键合等环节。 目前，中国半导体设备国产化低于
20%，国内市场被国外巨头垄断。
9
10 11
减薄机
检测设备 分选机
国产化程度小于20%
国产化程度小于20% 国产化程度小于20%
产业链中游游集成电路产业分析
2017全年中国集成电路产量达到1564.9亿块，与2016年相比增长17.8%。在一系列政策措施扶持
u1.2 半导体分类 u2.半导体产业链分析 u2.1 产业链构成 u2.2 产业链上游材料及设备分析 u2.3 产业链中游集成电路产业分析 u2.4 产业链下游需求分析 u3.半导体行业发展环境分析 u3.1 政策环境分析 u3.2 经济环境分析 u3.3 技术环境分析
目 录
CONTENTS
u4.半导体行业发展现状
u4.1 u4.2 u4.3 u4.4
全球半导体销售额情况 中国半导体销售额情况 中国半导体进出口情况 中国半导体市场规模
u5.行业主要企业分析 u5.1 银禧科技 u5.2 南风股份 u5.3 银邦股份 u5.4 东睦股份 u5.5 先临三维 u6.行业发展前景分析
01
半导体行业简介
半导体产业转移历程
中游制造产业
分器件
光电子
下游应用产业
通信及智能手机 PC/平板电脑
传感器 集成电路 工业/医疗 消费电子 IC 设 计 IC 制 造 IC 封 测 其他
PVD
光刻机
检测设备
其他
产业链上游材料及设备分析
1.半导体材料市场规模及构成情况
半导体材料是指电导率介于金属和绝缘 体之间的材料，半导体材料是制作晶体管、集 成电路、光电子器件的重要材料。半导体材料 主要应用在晶圆制造和芯片封测阶段。 在半导体材料市场构成方面，大硅片占 比最大，占比为32.9%，其次为气体，占比为 14.1%，光掩膜排名第三，占比为12.6%，其后
面板靶材市场规模、全球产能及主要工艺难点分析
面板靶材市场：受益于未来我国面板产业的全球化步伐1、我国面板靶材2025年有望达到320亿市场规模面板显示领域，核心靶材为金属钼靶材以及ITO靶材。
平板显示器主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节使用溅射靶材，使用到的靶材主要品种有：钼靶、铝靶、铝合金靶、铬靶、铜靶、铜合金靶、硅靶、钛靶、铌靶和氧化铟锡（ITO）靶材等，其中以金属钼靶材、ITO靶材为主。
表：不同材质靶材在平板显示的应用材质应用ITO（In2O3SnO2）透明导电膜IGZO（铟镓锌氧）新一代薄膜晶体管技术中的沟道层材料M o（钼），W（钨），Cr（铬），Ta，Ti，Al，A lT i，电极布线膜AlTaZnSMn，ZnSTb，CaSEu 电致发光薄膜Y2O3，Ta2O5，BaTiO3 电致发光薄膜平板显示用高纯钼靶材、ITO靶材被定位我国核心战略新材料。
溅射靶材行业为我国重点扶持的战略性新兴产业，近年来国家出台了一系列产业政策引导溅射靶材工业健康稳定发展。
2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2017年版）》，提出平板显示用ITO靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。
受益于国内面板产业全球市占率的不断提升，国内靶材市场有望维持快速增长。
当前面板显示领域的主要技术，主要为TFT-LCD和OLED两种。
LCD占据着市场的主要份额，OLED的占比未来有望得到持续提升。
根据IHS数据预测，未来2022年至2025年LCD面板产能将有10%左右增幅。
我国面板产业为未来全球面板产业发展的主要动力，京东方、华星光电、惠科股份等高世代线相继上线，国内LCD面板市场占有率有望由当前的57%增至2025年的75%。
因此，国内面板靶材市场有望充分受益，2025年国内靶材市场规模有望达到320亿元。
图：国内面板显示领域靶材总体市场规模及全球占比面板靶材供应商至少需要下游客户2-3年的认证过程，具备极高的客户认证壁垒。
靶材行业市场分析
VS
退出壁垒
由于靶材行业的特殊性，企业在进入该行 业后，需要面临较大的退出成本，如固定 资产投资、技术转让费用等；同时，企业 在退出该行业后，可能会面临技术保密、 商业机密泄露等风险。
04
靶材行业发展趋势
技术创新推动行业发展
靶材制备技术不断进步
随着科技的不断进步，靶材的制备技术也在不断革新，如真空熔炼、粉末冶金 、物理气相沉积等技术的改进，提高了靶材的质量和性能。
技术优势
拥有先进的合成技术和独特的生 产工艺，产品具有优异的性能和 加工特性
新兴靶材企业案例
案例二：某新兴靶材企业F 成立时间：XXXX年 总部地点：XX国家
新兴靶材企业案例
主要产品
纳米级金属氧化物靶材等
市场份额
新兴市场，正在积极开拓市场份额
技术优势
专注于纳米技术领域，产品具有高附加值和广泛应用 前景
新材料的应用
新型材料的出现和应用，如高纯度金属、陶瓷等，为靶材的制备提供了更多的 选择，推动了靶材行业的发展。
环保政策对行业的影响
环保标准提高
随着全球环保意识的提高，各国政府纷纷出台更为严格的环保法规和标准，对靶 材行业提出了更高的要求。
环保技术的推广
为了满足环保法规和标准，靶材企业需要不断推广和应用环保技术，如废气、废 水处理技术等，这将对行业的发展产生积极的影响。
靶材行业市场分析
汇报人： 2023-12-31
目录
• 靶材行业概述 • 靶材市场现状 • 靶材行业竞争格局 • 靶材行业发展趋势 • 靶材行业风险与机遇 • 靶材行业案例研究
01
靶材行业概述
靶材定义与特性
靶材定义
靶材是指用于制造薄膜、涂层、镀层 等材料的原材料，通过物理或化学气 相沉积、溅射、离子注入等工艺，将 靶材转化为所需的薄膜或涂层。
铂族金属靶材在磁存储及半导体工业中的应用研究
SPM
一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用--- Ru基溅射靶材的应用
贵研制备Ru靶的批次稳定性
30 25 20 15 10
5 0
Ru溅射靶材杂质元素批次稳定性（Fe≤30ppm;C ＜10ppm)
Ru溅射靶材（Φ165.1mm）带台阶
Ru溅射靶材致密度批次稳定性（>99.5%）
Ru溅射靶材（Φ165.1mm）带中孔
一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用--- CoCrPtB溅射靶材的应用
SPM制备CoCrPtB溅射靶材的优势
不同道次与变形量的关系
CoCrPtB溅射靶PTF(>65%)
※优势：大变形量保证成份均匀，晶粒细小，均匀，PTF值均匀
CoCrPtB溅射靶材（Φ114.3mm）
二、NiPt靶在半导体工业中的应用---总体应用领域
随着磁记录密度的提高， 对Ru基溅射靶材的品质要求不 断提高，特别注意：
➢ 原料粉末杂质元素的控制， 特别是Fe, C，Zr 等元素；
➢ 靶材的致密度；
一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用--- Ru基溅射靶材的应用
断口形貌比较
Company A
Company B
Company A 所制备Ru溅射靶材断口形貌显示其平 均晶粒尺寸为20~30μm； Company B 所制备Ru溅射靶材断口形貌显示其平 均晶粒尺寸为2~10μm，粗细晶分布不均匀；
希捷公司2012年含铂族金属磁存储靶材用量
溅射靶材是磁控溅射过程中的最为关
键部分，溅射薄膜的许多特性都依赖于靶 材的属性。 根据统计，2012年希捷公司每季度用量： （1）1400片 Ru靶 （含纯Ru及合金）； （2）1800 Pt合金靶材 （含CoCrPtB 及
PVD溅射靶材项目可行性研究报告
【报告说明】 可行性研究报告，简称可研，是在制订生产、基建、科研计划的前期，通 过全面的调查研究，分析论证某个建设或改造工程、某种科学研究、某项商务 活动切实可行而提出的一种书面材料。 可行性研究报告是确定建设项目前具有决定性意义的工作，是在投资决策之 前，对拟建项目进行全面技术经济分析论证的科学方法，在投资管理中，可行 性研究是指对拟建项目有关的自然、社会、经济、技术等进行调研、分析比较 以及预测建成后的社会经济效益。
本报告主要用途； 政府立项
银行贷款
环评批地
第七章 PVD溅射靶材行业市场分析与建设规模 第一节 市场调查 一、拟建PVD溅射靶材项目产出物用途调查 二、产品现有生产能力调查 三、产品产量及销售量调查 四、替代产品调查 五、产品价格调查 六、国外市场调查 第二节 PVD溅射靶材行业市场预测 一、国内市场需求预测 二、产品出口或进口替代分析 三、价格预测 第三节 PVD溅射靶材行业市场推销战略 一、推销方式 二、推销措施 三、促销价格制度 四、产品销售费用预测 第四节 PVD溅射靶材项目产品方案和建设规模 一、产品方案 二、建设规模 第五节 PVD溅射靶材项目产品销售收入预测
可行性研究报告大纲（具体可根据客户要求进行调整） 第一章 研究概述 第一节 研究背景与目标 第二节 研究的内容 第三节 研究方法 第四节 数据来源 第五节 研究结论 一、市场规模 二、竞争态势 三、行业投资的热点 四、行业项目投资的经济性 第二章 PVD溅射靶材项目总论 第一节 PVD溅射靶材项目背景 一、PVD溅射靶材项目名称 二、PVD溅射靶材项目承办单位 三、PVD溅射靶材项目主管部门 四、PVD溅射靶材项目拟建地区、地点 五、承担可行性研究工作的单位和法人代表 六、研究工作依据 七、研究工作概况
第二节 重点区域企业特点分析 一、华北区域 二、东北区域 三 、西北区域 四、华东区域 五、华南区域 六、西南区域 七、华中区域 第三节 企业竞争策略分析 一、产品竞争策略 二、价格竞争策略 三、渠道竞争策略 四、销售竞争策略 五、服务竞争策略 六、品牌竞争策略 第六章 PVD溅射靶材行业财务指标分析参考 第一节 PVD溅射靶材行业产销状况分析 第二节 PVD溅射靶材行业资产负债状况分析 第三节 PVD溅射靶材行业资产运营状况分析 第四节 PVD溅射靶材行业获利能力分析 第五节 PVD溅射靶材行业成本费用分析
高纯度铜溅射靶材生产建设项目可行性研究报告
高纯度铜溅射靶材生产建设项目可行性研究报告编制单位：北京中投信德国际信息咨询有限公司工程师：高建高纯度铜溅射靶材生产建设项目可行性研究报告核心提示：高纯度铜溅射靶材项目投资环境分析，高纯度铜溅射靶材项目背景和发展概况，高纯度铜溅射靶材项目建设的必要性，高纯度铜溅射靶材行业竞争格局分析，高纯度铜溅射靶材行业财务指标分析参考，高纯度铜溅射靶材行业市场分析与建设规模，高纯度铜溅射靶材项目建设条件与选址方案，高纯度铜溅射靶材项目不确定性及风险分析，高纯度铜溅射靶材行业发展趋势分析专业编写：高纯度铜溅射靶材项目建议书高纯度铜溅射靶材项目申请报告高纯度铜溅射靶材项目环评报告高纯度铜溅射靶材项目商业计划书高纯度铜溅射靶材项目资金申请报告高纯度铜溅射靶材项目节能评估报告高纯度铜溅射靶材项目规划设计咨询高纯度铜溅射靶材项目可行性研究报告【主要用途】发改委立项，政府批地，融资，贷款，申请国家补助资金等【关键词】高纯度铜溅射靶材项目可行性研究报告、申请报告【交付方式】特快专递、E-mail【交付时间】3-5个工作日【报告格式】Word格式；PDF格式【报告订制】客户通过第三方(百度文库平台)，担保下单，可安心订制，下单后，我公司研究员会给您电话沟通。
【报告说明】本报告是针对项目投资可行性研究咨询服务的专项研究报告，此报告为个性化定制服务报告，我们将根据不同类型及不同行业的项目提出的具体要求，修订报告目录，并在此目录的基础上重新完善行业数据及分析内容，为企业项目立项、上马、融资提供全程指引服务。
可行性研究报告是在制定某一建设或科研项目之前，对该项目实施的可能性、有效性、技术方案及技术政策进行具体、深入、细致的技术论证和经济评价，以求确定一个在技术上合理、经济上合算的最优方案和最佳时机而写的书面报告。
可行性研究报告主要内容是要求以全面、系统的分析为主要方法，经济效益为核心，围绕影响项目的各种因素，运用大量的数据资料论证拟建项目是否可行。
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2019年溅射靶材行业市场调研分析报告
目录
1概述：千亿市场比肩锂钴，批量供货启动，看好内生外延机遇 (11)
2溅射靶材市场空间真的很小么？——18年全球近千亿市场，比肩锂钴 . 14
2.1溅射靶材应用，不止于半导体 (14)
2.2 18年全球近千亿市场，比肩锂钴 (14)
2.3显示、半导体成为拉动靶材需求的主要动力 (16)
2.31溅射靶材随显示、半导体等下游需求逐步提升 (16)
2.32半导体和显示应用的单位靶材用量仍在提升 (24)
3溅射靶材的难点，仅看纯度么？——下游各有侧重，重视高附加值的原料制备 (25)
3.1不同应用的靶材品种性能要求各有侧重 (25)
3.2半导体靶材纯度高、平面显示靶材面积大、多元素靶材合成要求高 (25)
3.3靶材原料：微笑曲线上的高附加值环节 (26)
4国内外靶材市场怎么看？——日美仍称霸，国产铝、铜、钼、ITO靶星火已燃 (29)
4.1靶材集中度高，日美占据约80%市场份额 (29)
4.2国内靶材星火已燃：半导体以铝靶为主，显示钼靶规模量产、ITO启动供货 (30)
4.3靶材品种眼花缭乱？一张图帮您看懂 (32)
5国内靶材企业机遇临近?——内生增长和外延并购 (33)
5.1内生增长：国内靶材企业启动规模快速扩张阶段 (33)
5.2外延并购：显示、半导体等加速向国内转移，存在整合机遇 (34)
6高端ITO靶材——国产粉末制备突破，18年有望批量供货 (36)
6.1高端ITO是显示靶材的主要品种之一 (36)
6.2显示ITO靶材主要被日韩垄断 (38)
6.3国内ITO靶材有望需求随显示产业提升，本地供应商步入发展快轨 (39)
7磁记录靶材——HDD优势犹存，SDD拉动半导体靶材 (42)
7.1大数据发展带动存储器发展，HDD优势犹存，SDD拉动半导体靶材 (42)
7.2磁记录靶材市场以海外供应为主，18-20年国内市场有望保持10%增速 (45)
8小结：看好18-20年国产靶材企业全球市场份额提升 (48)
9风险提示 (48)
图表目录
图表1：2014-2016年全球靶材市场规模 (15)
图表2：2016年全球溅射靶材应用结构 (15)
图表3：2010-2017全球半导体销售额 (17)
图表4：2010-2017国内半导体销售额 (17)
图表5：部分中国大陆新建晶圆产线一览 (18)
图表6：2018-2020全球大尺寸面板产能预测 (19)
图表7：2018-2020国内大尺寸面板产能预测 (19)
图表8：2018-2020全球面板产能预测 (19)
图表9：2018-2020全球OLED出货量预测 (20)
图表10：2018-2021全球HDD收入预测（百万美元） (21)
图表11：2018-2020年国内磁记录靶材市场预测（单位：亿元） (21)
图表12：2018-2020全球薄膜太阳能电池产量预测 (22)
图表13：2018-2020我国薄膜太阳电池产量预测 (23)
图表14：平面显示行业镀膜工艺 (24)
图表15：溅射靶材的主要应用和对应材料品种 (25)
图表16：溅射靶材的性能控制指标 (26)
图表17：靶材产业链的微笑曲线 (27)
图表18：全球主要溅射靶材企业 (30)
图表19：我国溅射靶材相关上市企业 (30)
图表20：主要靶材上市公司和重点品种 (32)
图表21：国内靶材企业扩展计划 (33)。