光学镀膜介绍
光学镀膜的概念
光学镀膜的概念光学镀膜是指在透明基底表面上,利用物理气相沉积技术,对材料表面进行一层薄膜涂覆,以改变材料光学性能的过程。
这种涂覆过程可以控制光的反射、透射和折射等特性,来达到吸收或反射特定波长的光线,扩大折射率范围和增加光学成像清晰度等效果。
光学镀膜的原理基于薄膜光学,即通过控制光线在薄膜内的传播路线来达到需要的光学效果。
它主要分为三类,单层反反射膜、多层反射膜和分列镀膜。
其中,单层反反射膜是在透明基底的表面涂覆一层光学材料来减少反射光损失,提高透过率。
多层反射膜是在基底上涂覆多层具有不同折射率材料的薄膜,来实现所需的光学效应。
分列镀膜是将一种材料在两个基底之间多次镀膜。
通过这种方式来实现减少反射光、增加透射光、增加折射率、实现滤波等目的。
对于光学镀膜的制作过程,典型步骤包括基底清洗、热处理、预镀层和主镀层。
首先,将基底放入清洗槽内进行表面清洗,以去除表面的杂质和氧化物等,然后进行热处理,使基底表面更加平整和光滑。
接着,为了增加薄膜的附着力和稳定性,需要先将一层均匀的预镀层覆盖在基底表面,然后通过主镀层不断重复沉积热蒸发或溅射等工艺,来制备出不同材料组成和厚度的涂层。
光学镀膜具有广泛的应用场景,主要用于军事、航空、航天、医疗、仪器仪表、通信系统等领域。
它可以使双眼望远镜、光纤连接器、太阳能电池板、激光器等设备的性能得到优化。
在医疗领域,光学镀膜技术可以制备出高质量的光学镜片、显微镜和指纹检测器等设备,用于病症的检测和治疗等方面。
总之,光学镀膜技术是一种高精度、高效率的制备技术,具有重要的实际应用前景。
未来,光学镀膜技术可能会得到更广泛的应用,来实现更多的科技发展和产业升级目标。
光学镀膜技术
光学镀膜技术光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸.倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性.今天为大家带来的是光学镀膜的应用原理.一、光学薄膜的定义光学薄膜的定义是:涉及光在传播路径过程中,附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层,通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性,以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或偏振分离等各特殊形态的光.光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变.故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性.一般来说,光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺.所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中,例如真空蒸镀是在一真空环境中,以电能加热固体原物料,经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上,完成涂布加工.日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜,就是以干式涂布方式制造的产品.但是在实际量产的考虑下,干式涂布运用的范围小于湿式涂布.湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液态涂料干燥固化做成产品.二、薄膜干涉原理1、光的波动性19世纪60年代,美国物理学家麦克斯韦发展了电磁理论,指出光是一种电磁波,使波动说发展到了相当完美的地步.由光的波粒二象性可知,光同无线电波、X射线、一样都是电磁波,只是它们的频率不同.电磁波的波长λ、频率u和传播速率V三者之间的关系为:V=λu由于各种频率的电磁波在真空中的传播速度相等,所以频率不同的电磁波,它们的波长也就不同.频率高的波长短,频率低的波长长.为了便于比较,可以按照无线电波、红外线、可见光、紫外线、X射线和伽玛射线等的波长(或频率)的大小,把它们依次排成一个谱,这个谱叫电磁波谱.在电磁波谱中,波长最长的是无线电波,无线电波又因波长的不同而分为长波、中波、短波、超短波和微波等.其次是红外线、可见光和紫外线,这三部分合称光辐射.在所有的电磁波中,只有可见光可以被人眼所看到.可见光的波长约在0.76微米到0.40微米之间,仅占电磁波谱中很小的一部分.再次是X射线.波长最短的电磁波是y射线.光既然是一种电磁波,所以在传播过程中,应该表现出所具有的特征---干涉、衍射、偏振等现象.2、薄膜干涉薄膜可以是透明固体、液体或由两块玻璃所夹的气体薄层.入射光经薄膜上表面反射后的第一束光,折射光经薄膜下表面反射,又经上表面折射后得第二束光,这两束光在薄膜的同侧,由同一入射振动分出,是相干光,属分振幅干涉.若光源为扩展光源(面光源),则只能在两相干光束的特定重叠区才能观察到干涉,故属定域干涉.对两表面互相平行的平面薄膜,干涉条纹定域在无穷远,通常借助于会聚透镜在其像方焦面内观察;对楔形薄膜,干涉条纹定域在薄膜附近.实验和理论都证明,只有两列光波具有一定关系时,才能产生干涉条纹,这些关系称为相干条件.薄膜的相干条件包括三点:两束光波的频率相同;束光波的震动方向相同;两束光波的相位差保持恒定.薄膜干涉两相干光的光程差公式为:Δ=ntcos(α)±λ/2式中n为薄膜的折射率;t为入射点的薄膜厚度;α为薄膜内的折射角;λ/2是由于两束相干光在性质不同的两个界面(一个是光疏介质到光密介质,另一个是光密介质到光疏介质)上反射而引起的附加光程差.薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等.光是由光源中原子或分子的运动状态发生变化辐射出来的,每个原子或分子每一次发出的光波,只有短短的一列,持续时间约为10亿秒对于两个独立的光源来说,产生干涉的三个条件,特别是相位相同或相位差恒定不变这个条件,很不容易满足,所以两个独立的一般光源是不能构成相干光源的.不仅如此,即使是同一个光源上不同部分发出的光,由于它们是不同的原子或分子所发出的,一般也不会干涉.三、光学薄膜特点分类主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等,它们在国民经济和国防建设中得到广泛的应用,获得了科学技术工的日益重视.例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍的减小;采用高反射膜比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高硅电池的效率和稳定性.最简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质膜层.在这种情况下,可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质.当一束单色光平面波入射到光学薄膜上时,在它的两个表面上发生多次反射和折射,反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律给出,反射光和折射光的振幅大小则由菲涅尔公式确定.光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为:反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等.相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等.光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的.实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多.这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,起表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫反射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各种向异性;膜层具有复杂的时间效应.反射膜一般可分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜.此外,还有将两者结合的金属电介质反射膜,功能是增加光学表面的反射率.一般金属都具有较大的消光系数.当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加.消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高.人们总是选择消光系数较大,光学性质较稳定的金属作为金属膜材料.在紫外区常用的金属膜材料是铝,在可见光区常用铝和银,在红外区常用金、银和铜,此外,铬和铂也常作一些特种薄膜的膜料.由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能,所以必须用电介质膜加以保护.常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等.金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损大,反射率不可能很高.为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜.需要指出的是,金属电介质射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率,却破坏了金属膜中性反射的特点.。
光学镀膜原理
光学镀膜原理光学镀膜是一种利用薄膜的干涉和反射作用来改善光学元件性能的方法。
通过在光学元件表面涂覆一层非常薄的膜,可以改变光学元件对光的透射、反射和吸收特性,从而实现对光的控制和操纵。
光学镀膜技术在现代光学和光电子学领域得到广泛应用,为许多光学器件的设计和制造提供了重要的支持。
光学镀膜的原理主要基于薄膜的干涉效应。
当光线从一个介质进入另一个介质时,会发生反射和折射现象。
如果在介质表面涂覆一层薄膜,该薄膜会对光线的反射和透射产生影响。
薄膜的厚度和折射率决定了不同波长的光在薄膜中的干涉效应,从而导致光在不同波长下的反射率和透射率发生变化。
通过精确控制薄膜的厚度和材料,可以实现对光的特定波长的选择性反射或透射,从而实现对光的调控。
光学镀膜技术常用于制备各种类型的光学薄膜,如反射膜、透射膜、滤光片等。
这些光学薄膜广泛应用于激光器、光学仪器、光学镜头、太阳能电池等领域。
例如,反射膜可以提高激光器的光学效率,透射膜可以增强光学仪器的透射率,滤光片可以实现对特定波长光线的隔离和选择。
光学镀膜技术的发展离不开材料科学和光学设计的进步。
随着材料科学的不断发展,出现了越来越多具有特殊光学性能的新材料,如光学薄膜材料、多层膜材料等,这为光学镀膜技术的应用提供了更多可能性。
同时,光学设计的优化也对光学镀膜技术的发展起到了重要作用,通过精确的光学设计和仿真,可以实现对光学薄膜的性能进行优化,提高光学元件的光学性能。
总的来说,光学镀膜技术是一种重要的光学加工技术,通过精确控制薄膜的厚度和材料,可以实现对光的控制和操纵,为光学器件的设计和制造提供了重要支持。
随着材料科学和光学设计的不断进步,光学镀膜技术将在更多领域得到应用,为光学和光电子学的发展带来新的机遇和挑战。
不同光学镀膜方式的比较
不同光学镀膜方式的比较标题:不同光学镀膜方式的比较导言:光学镀膜是一种广泛应用于光学元件制造的技术,它能够改善光学元件的透过率、反射率和耐用性。
然而,有多种光学镀膜方式可供选择,每种方式都具有其特定的优势和限制。
本文将对不同光学镀膜方式进行比较,以帮助读者更好地了解它们之间的差异和适用情况。
第一部分:理论基础1. 光学镀膜概述:解释光学镀膜的定义和重要性,介绍其在光学元件中的各种应用。
2. 光学薄膜理论:简要说明光学镀膜是如何根据光学薄膜理论进行设计和制备的。
第二部分:主要光学镀膜方式的比较1. 全反射镀膜(AR镀膜):介绍全反射镀膜的原理和特点,强调其提高透过率和减少反射的优势。
- 结构:详细描述全反射镀膜的结构和材料。
- 优点:列举全反射镀膜的主要优点,例如增强透过率、降低表面反射和抗反射的广谱性。
- 缺点:讨论全反射镀膜的潜在限制,如制备复杂、灵敏度较高等。
- 应用:提供全反射镀膜在哪些领域和光学元件中的应用实例。
2. 反射镀膜:探讨反射镀膜的基本原理和优点,说明适用于反射镜等光学器件的特殊需求。
- 结构:阐述反射镀膜的材料和结构设计。
- 优点:介绍反射镀膜的关键优势,例如高反射率、耐久性等。
- 缺点:讨论反射镀膜可能存在的限制,如对光谱范围的限制。
- 应用:提供反射镀膜在哪些领域和光学元件中的典型应用。
3. 滤波镀膜:说明滤波镀膜的原理和应用,强调其用于光学滤波器等特殊光学元件的重要性。
- 结构:描述滤波镀膜的材料和层序设计。
- 优点:列举滤波镀膜的主要优势,例如选择性透过、阻止无用波长等。
- 缺点:探讨滤波镀膜的可能局限,如复杂制备和性能降低。
- 应用:提供滤波镀膜在光学滤波器和其他光学应用中的实际应用案例。
第三部分:光学镀膜方式的选择和发展趋势1. 选择光学镀膜方式的因素:介绍在选择特定光学镀膜方式时应考虑的关键因素,如使用环境、预算和性能要求。
2. 光学镀膜的未来发展方向:展望光学镀膜领域的最新趋势和技术,如纳米光学镀膜和多功能光学镀膜。
光学镀膜显色原理
光学镀膜显色原理
光学镀膜是一种通过在光学元件表面沉积一层或多层透明介质薄膜,以提高光学元件的反射、透射、偏振、干涉等光学性能的技术。
在镀膜过程中,可以根据需要调整薄膜的厚度、组分和结构,以达到所需的显色效果。
光学镀膜的显色原理可以从两个方面来解释:一是薄膜的结构和组分对光的作用,二是薄膜对光的干涉作用。
首先,薄膜的结构和组分对光的作用是显色的基础。
不同组分的介质薄膜对光的折射率、反射率、透射率等光学性能都有不同的影响。
例如,在可见光波段,高折射率的介质薄膜可以增强光的反射效果,使物体看起来更加明亮;低折射率的介质薄膜则可以使光更加均匀地透过,减少光的散射和反射。
因此,通过调整薄膜的组分和结构,可以实现对光的调控,从而达到所需的显色效果。
其次,薄膜对光的干涉作用也是显色的重要原理之一。
当两束或多束相干光波在同一点相遇时,它们的光程差会产生干涉现象,从而影响光的强度和相位。
在光学镀膜中,多层介质薄膜的沉积会形成复杂的干涉效应,使光在薄膜表面反射和透射的过程中产生干涉加强或干涉相消的现象,进一步影响光的方向性和强度分布,最终影响物体的显色效果。
综上所述,光学镀膜显色原理是通过调整薄膜的结构和组分来实现对光的调控,再利用多层介质薄膜的干涉效应进一步优化光的方向性和强度分布,以达到所需的显色效果。
通过深入研究和掌握这一原理,
我们可以不断优化光学镀膜技术,提高产品的质量和性能,推动相关领域的发展。
光学镀膜技术_文库
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例:空气折射率是1,玻璃折射率是1.8,镀膜折射率是1.5。
光线从空气直接进入玻璃 透射率=4*1*1.8/(1+1.8) 2=91.84%;
光线从空气进入镀膜再进入玻璃透射率=【4*1*1.5/(1+1.5) 2】*【4*1.5*1.8/(1.5+1.8)2】=95.2%;
利用这种干涉现象,通过对光学零件表面薄膜的材料和厚度的 控制,人为的控制光的干涉,根据需要来实现光能的重新分配。
光学镀膜工作原理
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光照到光学零件表面时,一部分 光发生反射,另外一部分光投射 进入光学零件。反射光的存在无 疑降低了透射光的强度,反之透 射光的存在降低了反射光的强度;
为了减少反射光或者透射光的强
作用: ➢ 增加光学系统的通透率; ➢ 减少杂散光; ➢ 提高像质;
增透➢膜增加作用距离;
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当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时,在 两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界 面是一光学表面,光线又是垂直入射,则:
反射率 R=(n0-n1)2/(n0+n1)2
增透膜
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单层增透膜反射率
增透膜
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多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长进行反复干涉相消以使 得反射率达到最小。
增透膜
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多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反射光都进行干涉相 消从而达到对一个宽波段的光增透。
增透膜
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应用:所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微 镜等各种视觉观察和测量系统;
d
膜上表面和下表面的反射光线在上表面的相
位差为1个波长,干涉相长,从而使反射光
光学镀膜材料
光学镀膜材料光学镀膜材料是一种应用广泛的功能性材料,它在光学领域具有重要的应用价值。
光学镀膜材料是指在光学元件表面进行一层或多层薄膜沉积的材料,其目的是改变光学元件的透射、反射和吸收等性能。
光学镀膜材料的种类繁多,常见的有金属膜、氧化物膜、氟化物膜等。
本文将对光学镀膜材料的种类、特性和应用进行介绍。
光学镀膜材料的种类。
光学镀膜材料的种类多种多样,根据其化学成分和结构特点可以分为金属膜、氧化物膜、氟化物膜等。
金属膜是将金属原子通过真空蒸发、溅射等技术沉积在基片表面形成的薄膜,具有良好的导电性和光学性能,常用于反射镜、透镜等光学元件的镀膜。
氧化物膜是将氧化物材料沉积在基片表面形成的薄膜,具有良好的耐腐蚀性和光学性能,常用于光学滤波器、反射镜等光学元件的镀膜。
氟化物膜是将氟化物材料沉积在基片表面形成的薄膜,具有良好的耐磨性和光学性能,常用于光学镜片、滤光片等光学元件的镀膜。
光学镀膜材料的特性。
光学镀膜材料具有一系列特殊的光学性能,如高透射率、低反射率、高吸收率等。
其中,高透射率是指光学镀膜材料对光的透射能力较强,能够使光线通过材料而不产生明显的衍射、散射等现象;低反射率是指光学镀膜材料对光的反射能力较弱,能够减少光线的反射损失;高吸收率是指光学镀膜材料对光的吸收能力较强,能够有效地吸收光线的能量。
这些特性使光学镀膜材料在光学系统中起着重要的作用,能够提高光学元件的透射率、反射率和吸收率,从而提高光学系统的整体性能。
光学镀膜材料的应用。
光学镀膜材料在光学领域具有广泛的应用,主要包括光学镜片、滤光片、反射镜、透镜等光学元件。
其中,光学镜片是将光学镀膜材料沉积在玻璃或塑料基片上形成的薄膜,具有调节光线透射、反射和吸收性能的功能,广泛应用于相机、望远镜、显微镜等光学仪器中;滤光片是将光学镀膜材料沉积在光学玻璃或塑料基片上形成的薄膜,具有选择性透射或反射特定波长光线的功能,广泛应用于激光器、光谱仪、光学仪器等领域;反射镜是将光学镀膜材料沉积在金属或玻璃基片上形成的薄膜,具有增强或减弱特定波长光线的反射性能,广泛应用于激光器、光学系统、激光打印机等领域;透镜是将光学镀膜材料沉积在玻璃或塑料基片上形成的薄膜,具有调节光线透射、反射和吸收性能的功能,广泛应用于眼镜、显微镜、望远镜等光学仪器中。
光学镜片镀膜的作用
光学镜片镀膜的作用光学镜片镀膜是指在光学镜片表面上涂覆一层薄膜,其目的是改善镜片的光学性能。
镀膜技术的应用可以提高镜片的透光性、减少反射、增强耐磨性以及改善色彩还原能力,从而使镜片更加清晰、明亮,提高人眼对物体的观察效果。
光学镜片的主要作用是通过折射和反射光线,校正视觉缺陷并改善人眼视力。
然而,未经处理的光学镜片在光线通过时会发生反射,降低光线透过率。
这就造成了不必要的光损失,使镜片闪耀,影响视觉体验。
而镀膜技术的应用可以有效地减少这种反射,提高光线透过率,使镜片更加透明。
光学镜片的镀膜通常采用多层薄膜结构,其中每一层薄膜都有不同的折射率和厚度。
通过合理设计和优化薄膜结构,可以实现对不同波长光的选择性反射和透过。
这样一方面可以减少镜片表面反射,提高透光性,另一方面还可以增加对特定波长光的反射,改善镜片对色彩的还原能力。
镀膜技术的应用还可以增强镜片的耐磨性。
光学镜片在使用过程中容易受到外界环境的影响,如刮擦、污渍等。
这些因素会导致镜片表面磨损和损坏,影响观察效果。
镀膜膜层可以起到保护镜片的作用,减少外界因素对镜片的侵蚀,提高镜片的耐用性和使用寿命。
除此之外,光学镜片的镀膜还可以改善镜片的防紫外线性能。
紫外线是一种有害的光线,长期暴露于紫外线中会对人眼造成损害,如引发眼炎、白内障等眼部疾病。
合适的镀膜技术可以有效地阻挡紫外线的穿透,降低对眼睛的伤害。
光学镜片的镀膜还可以实现其他特殊功能。
例如,一些镀膜技术可以使镜片具备防水、防油、防尘等功能,方便用户的日常使用。
还有一些镀膜技术可以实现抗静电、抗蓝光等功能,以满足人们对镜片的不同需求。
光学镜片的镀膜技术在提高光学性能、增强耐磨性、改善色彩还原能力、防紫外线等方面发挥着重要作用。
通过合理应用镀膜技术,可以使镜片更加透明、明亮,提高视觉体验,保护眼睛健康。
随着科技的不断进步和镀膜技术的不断创新,光学镜片的性能将会得到进一步提升,为人们带来更好的视觉效果。
光学镜片镀膜技术及发展
光学镜片镀膜技术及发展光学镜片镀膜是一种将一层或多层薄膜涂在光学镜片表面的技术。
这种技术能够改善镜片的反射率和透过率,并且还能使光学镜片具备更好的抗污染性、耐腐蚀性和耐磨损性。
在不同的领域,如精密仪器、光学设备和光学器件等中,使用镀膜技术来提高光学性能是非常普遍的。
光学镜片镀膜技术的发展可以追溯到19世纪末期,当时应用于照相机镜头的镀膜技术已经颇具商业价值。
然而,当时的镀膜技术还很简单,通常只是在玻璃表面上涂上一层透明的亚硝酸铜。
然而,在20世纪初,人们发现了金属膜可以显著地提高镀膜的效果。
这一发现极大地推动了镀膜技术的发展。
金属膜镀膜技术首先在镜子上得到了广泛应用。
通过将金属膜沉积在镜子的背面,可以使镜子具备良好的反射性能。
例如,金属膜反射镜可以在望远镜、显微镜等光学器件中起到非常重要的作用。
然而,由于金属膜的导电特性,它们还具有很高的吸收率,而且很容易被氧化。
这使得金属膜在一些应用中的效果不佳。
为了克服金属膜的不足,人们开始采用叠层膜镀膜技术。
这种技术通过将不同折射率的材料叠加在一起,来改善膜的反射性能。
通过精确控制每一层的厚度和材料,可以制造出具有特定反射和透过特性的镀膜。
这种技术不仅能够实现特定波长的高反射镜和全透射镜,还可以制造出带有颜色的反射镜和透射镜。
随着技术的进一步发展,出现了一些新的镀膜技术。
其中一个重要的进展是离子束镀膜技术。
这种技术使用离子束来加速和定向沉积材料,从而提高膜层的致密度和附着力。
离子束镀膜技术不仅可以制造出更加耐磨和耐腐蚀的膜层,还可以制造出更薄的膜层,从而减少光学元件的重量和体积。
此外,还有磁控溅射镀膜技术、化学气相沉积镀膜技术等等。
这些技术的不断发展和改进,使得光学镜片的镀膜性能越来越突出。
如今,镀膜技术已经成为一项极其重要的光学制造工艺,并在很多领域得到广泛应用。
总结而言,光学镜片镀膜技术的发展经历了从简单的金属膜镀膜到叠层膜镀膜,再到离子束镀膜等多个阶段。
光学镀膜的原理
光学镀膜是一种在光学元件表面上涂覆一层薄膜的技术,通过控制薄膜的厚度和折射率,实现对光的反射、透射和吸收特性的调控。
其基本原理可以概括如下:
1.光的干涉:当光线从一个介质进入另一个介质时,会发
生反射和折射。
反射光和折射光之间的相位差会导致干
涉现象。
利用光的干涉原理可以控制薄膜的光学性质。
2.薄膜的厚度:光学镀膜通过在光学元件表面上沉积一层
薄膜,调整薄膜的厚度可以改变光的干涉现象。
当薄膜
的厚度等于特定波长的光的半波长或整数倍时,干涉产
生的反射和透射现象会发生增强或衰减。
3.折射率的调控:薄膜的折射率是指光在薄膜中传播时的
相对速度。
通过选择适当的材料和调节薄膜的组分,可
以实现对折射率的控制。
不同折射率的薄膜层之间也会
发生光的干涉,进一步影响光的传播和反射特性。
综合利用光的干涉、薄膜厚度和折射率的调控,光学镀膜可以实现多种光学效果,如增强或减弱特定波长的反射、实现高透过率或高反射率等。
常见的光学镀膜应用包括反射镜、透镜、滤光片、偏振器件等,用于改善光学元件的性能和实现特定的光学功能。
光学镀膜基础知识
光学镀膜基础知识
光学镀膜是一种在物体表面上形成一层薄膜,以改变光在物体表面上的反射、透射和吸收的特性的技术。
它可以提高光学元件的透光率、抗反射能力和耐刮擦性能,同时还可以改变光的颜色和光谱特性。
以下是光学镀膜的基础知识:
1. 光学镀膜类型:有透射镀膜、反射镀膜和滤光镀膜等不同类型的光学镀膜。
2. 镀膜材料:常用的镀膜材料包括金属、氧化物、硫化物和氟碳化物等。
不同的材料可以实现不同的功能,如增强透射、减少反射、调节色彩等。
3. 镀膜原理:基本的镀膜原理是利用光学干涉的现象。
通过控制镀膜材料的厚度,可以实现不同波长光的干涉效果,从而达到改变光的传输和反射性能的目的。
4. 镀膜性能评价:光学膜层的性能评价常包括透射率、反射率、满足特定光学要求的光谱特性等。
5. 常见的光学镀膜技术:包括真空蒸发、溅射镀膜、离子镀膜等不同的技术。
每种技术都有其特点和适用性,选择合适的技术可以获得高质量的光学镀膜。
6. 应用领域:光学镀膜广泛应用于光学元件、光学仪器、电子
设备、眼镜等领域。
它可以改善光学仪器的性能,提高成像和传输质量,也可以实现特定的光学效果和功能。
总之,光学镀膜是一门复杂而重要的技术,通过掌握光学镀膜的基本知识,可以更好地理解和应用光学元件。
光学镀膜的原理
光学镀膜的原理光学镀膜是一种将一层薄膜沉积在物体表面的过程,以改变物体的光学性质。
它是基于光学干涉的原理,利用光波的折射和反射来达到所需的效果。
光学镀膜可以应用于各种物体,如玻璃、塑料、金属等,以达到改善其外观、防护和功能等目的。
光学镀膜的原理是利用光的干涉现象。
当光通过一个介质的表面,如从空气进入玻璃或金属表面,它将会发生反射和透射。
反射光和透射光的光程差将决定干涉的程度。
如果光程差为波长的整数倍,光线将会被加强,形成增强波;如果光程差为波长的半数倍,光线将会被抵消,形成消减波。
这种干涉现象可以用来控制光的反射和透射,从而达到改变物体光学性质的目的。
在光学镀膜的制备过程中,首先需要选择适合的材料,如二氧化硅、氟化镁、氟化铝等。
这些材料是由多层薄膜堆积而成的,每一层的厚度和折射率都需要精确控制。
通过精密的控制薄膜的厚度和折射率,可以改变镀膜物体的反射率、透射率和透明度等光学性质。
光学镀膜可以应用于许多领域。
在工业上,光学镀膜用于制造各种光学元件,如反射镜、透镜、滤光片等。
这些元件都需要具有特定的光学性质,以满足不同应用的需求。
在电子产品中,光学镀膜可以用于制造高清晰度的显示器。
在建筑中,光学镀膜可以用于制造隔热玻璃和防紫外线玻璃等。
光学镀膜的优点在于可以改变物体的光学性质,同时保持其物理和化学性质不变。
同时,光学镀膜可以制备出极薄的膜层,厚度只有几纳米,不会对物体的重量、尺寸和形状造成影响。
此外,光学镀膜还具有耐磨、耐腐蚀、耐高温等特性,可以保护物体表面,并延长其使用寿命。
光学镀膜是一种重要的技术,可以改变物体的光学性质,应用广泛。
通过精密的控制薄膜的厚度和折射率,可以制备出具有特定光学性质的光学元件和材料,满足不同领域的需求。
光学镀膜的发展将会推动科学技术的进步,为人类带来更多的福利和便利。
光学镀膜工艺指导
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使其原子或分子在基材表面沉积形成薄膜。
输标02入题
真空镀膜机主要分为蒸发镀膜和溅射镀膜两种类型, 其中蒸发镀膜是最早的镀膜技术,溅射镀膜则具有更 高的沉积速率和更均匀的膜层质量。
01
03
真空镀膜机适用于各种光学薄膜的制备,如增透膜、 反射膜、滤光片、保护膜等,广泛应用于光学仪器、
照明、显示等领域。
04
电和装饰。
介质镀层材料
MgF2镀层
具有高透光性和低折射率,常 用于红外光学镜头。
SiO2镀层
具有低折射率和化学稳定性, 常用于保护和增透膜层。
TiO2镀层
具有高折射率和优异的光学性 能,常用于增透和反射膜层。
ZrO2镀层
具有高硬度、高折射率和优异 的化学稳定性,常用于硬涂层
和光学薄膜。
特殊镀层材料
包装与运输
将合格的光学元件进行包 装,确保其在运输过程中 不受损坏。
05 光学镀膜质量检测与控制
膜层厚度检测
总结词
膜层厚度是影响光学镀膜质量的关键因素,必须进行精确检 测。
详细描述
光学镀膜的厚度需控制在一定的范围内,以确保其光学性能 的稳定。常用的膜层厚度检测方法包括干涉法、椭圆偏振法 、X射线荧光法等。这些方法可以精确测量膜层的厚度,为调 整和控制镀膜工艺提供依据。
01
02
03
抗反射涂层
通过在镜头表面形成微结 构,减少反射并提高透光 率。
多层镀膜
通过多层不同材料的叠加, 实现多种光学性能的优化 组合。
光学薄膜
在光学元件表面沉积薄层 材料,实现特定光学性能 的增强或改变。
03 光学镀膜设备
光学镀膜方式
光学镀膜方式光学镀膜是一种将薄膜沉积在光学元件表面的方法,以改变光学元件的光学性质。
这种技术可以用于制造各种类型的光学器件,如反射镜、透镜和滤波器等。
下面将详细介绍几种常见的光学镀膜方式。
1. 热蒸发法热蒸发法是一种常见的光学镀膜方式,它通过加热材料使其升华并沉积在基底表面上。
这种方法通常使用电子束或电阻加热来升华材料,并使用真空室来控制反应环境。
在真空室中,基底和材料被放置在靶极上,然后加热到高温使材料升华并沉积在基底表面上。
这种方法可以制造高品质、均匀且厚度控制精确的薄膜。
2. 磁控溅射法磁控溅射法是一种将材料沉积在基底表面上的方法,通过使用高能离子撞击靶材使其升华并沉积在基底表面上。
这种方法使用真空室来控制反应环境,并通过调节离子束的能量和角度来控制薄膜的厚度和均匀性。
磁控溅射法可以制造高品质、均匀且良好附着力的薄膜。
3. 电弧离子镀法电弧离子镀法是一种将材料沉积在基底表面上的方法,通过使用高能电弧撞击靶材使其升华并沉积在基底表面上。
这种方法也使用真空室来控制反应环境,并通过调节电弧能量和角度来控制薄膜的厚度和均匀性。
电弧离子镀法可以制造高品质、均匀且良好附着力的薄膜。
4. 溅射离子镀法溅射离子镀法是一种将材料沉积在基底表面上的方法,通过使用高能粒子撞击靶材使其升华并沉积在基底表面上。
这种方法也使用真空室来控制反应环境,并通过调节粒子束的能量和角度来控制薄膜的厚度和均匀性。
溅射离子镀法可以制造高品质、均匀且良好附着力的薄膜。
总之,光学镀膜是一种非常重要的技术,它可以用于制造各种类型的光学器件。
不同的光学镀膜方式具有不同的优缺点,需要根据具体应用场景选择合适的方法。
光学薄膜技术
光学薄膜技术光学薄膜技术是一种在光学领域中广泛应用的技术,通过在材料表面上沉积一层或多层薄膜,可以改变光的传播特性。
本文将介绍光学薄膜技术的基本原理、应用领域以及未来发展趋势。
一、基本原理光学薄膜技术基于薄膜的干涉效应、散射效应和吸收效应,通过合理设计和控制薄膜的厚度和折射率,实现对光的反射、透过和干涉等特性的调控。
具体来说,当光通过薄膜时,会发生反射、透射和折射等现象,而这些现象可以通过选择合适的材料和设计薄膜的厚度来优化。
通过合理设计薄膜的结构,可以实现光的增透、减反射、滤波等功能。
二、应用领域1. 光学镀膜光学镀膜是光学薄膜技术的重要应用之一,广泛应用于光学元件、光学仪器和光学器件等领域。
通过对透明基片进行镀膜,可以增强光学元件的反射或透过特性,提高光学成像和传输的效率。
常见的光学镀膜包括透明导电膜、反射镜和滤光膜等。
2. 光学涂层光学涂层是指将光学薄膜应用于材料表面的一种方法。
光学涂层可以增强材料的耐磨性、耐腐蚀性和光学性能,使其具备特定的光学特性和功能。
光学涂层广泛应用于光学镜片、摄像头、眼镜镜片等光学元件的加工中,可以提高透过率、增强显色效果等。
3. 光学传感器光学薄膜技术在传感器领域也具有重要应用。
通过在传感器表面沉积特定的光学薄膜,可以实现对特定波长或特定物质的敏感检测。
光学传感器广泛应用于环境监测、生物医学、光通信等领域,为相关行业提供精准的光学检测和测量手段。
4. 光学反射膜光学反射膜是光学薄膜技术的一种重要应用形式。
通过利用反射膜的高反射率和优良的保护特性,可以实现对光学元件的保护和增强。
光学反射膜广泛应用于激光器、太阳能电池板、显示屏等领域,可以提高设备的稳定性和使用寿命。
三、未来发展趋势光学薄膜技术在当今科技发展中的地位不容忽视,随着科学技术的不断进步,其应用领域和技术性能将会不断拓展和提升。
未来,光学薄膜技术可能呈现以下发展趋势:1. 纳米光学薄膜技术:随着纳米科学和纳米技术的快速发展,纳米级光学薄膜技术将会成为未来的发展方向。
光学镀膜工艺技术
光学镀膜工艺技术光学镀膜工艺技术,是一种通过在光学器件的表面镀上一层特定材料来改变其光学性能的工艺。
这种工艺可以提高光学器件的透射率、反射率和抗反射性能,从而提高光学器件的工作效果。
光学镀膜工艺技术主要分为三个步骤:基底表面处理、膜材料选择和膜层厚度控制。
首先,基底表面处理是保证光学器件表面光滑和清洁的关键步骤。
基底表面的灰尘、油污等杂质会影响后续膜层的附着性能,因此需要使用超声波清洗或离子清洗等方法,以确保基底表面的纯净度。
其次,膜材料的选择是根据需要改变光学器件性能的需求来进行的。
根据不同的应用领域和要求,可以选择金属、非金属或复合材料等材料进行镀膜。
金属膜可以提高反射率,非金属膜可以提高透射率,而复合材料膜则可以在一定程度上兼顾二者的性能。
根据光学器件的具体要求,选择合适的膜材料是保证工艺成功的重要因素。
最后,膜层厚度的控制是光学镀膜工艺技术的关键环节。
膜层厚度的控制直接影响光学器件的光学性能。
过厚的膜层会导致透射率下降,过薄的膜层则会导致反射率下降。
因此,在实际操作中,需要根据膜材料的光学参数和要求,控制膜层的厚度。
光学镀膜工艺技术在现代光学器件的制造中起着重要作用。
通过合适的膜层设计和加工工艺,可以显著提高光学器件的性能。
例如,透射率的提高可以增加光学器件的工作效率,反射率的改善可以提高光学器件的接收能力,而抗反射性能的提升可以消除光学器件表面的反射光,提高其对光的传输效果。
然而,光学镀膜工艺技术也存在一些挑战和限制。
首先,膜层的附着性和稳定性是工艺成功的关键因素。
当膜层与基底表面的粘附力不足时,容易出现脱层和剥离的情况,降低光学器件的使用寿命。
其次,膜层的制备过程需要考虑到温度、湿度等环境因素的影响,以确保膜层能够良好地附着并保持稳定的光学性能。
总而言之,光学镀膜工艺技术是一种应用广泛的工艺技术,可以显著改善光学器件的光学性能。
通过合适的基底表面处理、膜材料选择和膜层厚度控制,可以实现不同需求的光学器件制备。
光学镀膜工艺指导
汇报人:XX 2024-01-23
目录
• 光学镀膜概述 • 光学镀膜材料与特性 • 光学镀膜工艺流程 • 关键设备与技术参数 • 质量控制与检测标准 • 环境保护、安全操作规范及故障排除
01
光学镀膜概述
定义与分类
定义
光学镀膜是在光学元件表面涂覆 一层或多层薄膜,以改变其光学 性能的技术。
眼镜行业
用于制造太阳镜、偏光镜、护目 镜等,以提高镜片的透光度、减 少反射和眩光。
光通信技术
用于制造光纤通信系统中的光学 元件,如光纤连接器、光分路器 等,以提高光信号的传输效率和 稳定性。
02
光学镀膜材料与特性
常用光学镀膜材料
1 2 3
氧化物材料
如二氧化硅(SiO2)、二氧化钛(TiO2)等, 具有高透过率、低吸收等特性,常用于减反射膜 和增透膜。
03
光学镀膜工艺流程
前处理与准备工作
基片清洗
确保基片表面无尘埃、油污和其他杂 质,常采用超声波清洗、化学清洗等 方法。
基片干燥
环境准备
确保镀膜室内环境洁净,控制温度、 湿度等参数,为镀膜过程提供稳定的 环境条件。
将清洗后的基片进行干燥处理,防止 水分对镀膜过程的影响。
镀膜方法介绍
物理气相沉积(PVD)
01
利用物理方法将材料从源蒸发或溅射到基片表面,形成薄膜。
常见的方法有真空蒸发、溅射镀膜等。
化学气相沉积(CVD)
02
通过化学反应在基片表面生成薄膜。这种方法可以在较低的温
度下进行,并且生成的薄膜具有优良的性能。
溶胶-凝胶法
03
将溶胶涂抹在基片表面,通过热处理等方法使其凝胶化,形成
薄膜。这种方法适用于制备多组分氧化物薄膜等。
光学镀膜的原理
光学镀膜的原理一、引言光学镀膜是通过在光学元件表面上涂覆一层特定的薄膜,以改变光的透射、反射和吸收等特性的技术。
它被广泛应用于光学器件和光学仪器中,如镜片、透镜、滤光片等。
本文将详细介绍光学镀膜的原理,包括常见的膜层材料、制备方法和光学效应等。
二、膜层材料光学镀膜通常采用的膜层材料有金属膜、非金属膜和复合膜等。
1. 金属膜金属膜是利用金属的良好导电性和反射性制备的薄膜。
常见的金属材料有铝、银、铜等。
金属薄膜能够实现较高的反射率,因此常用于制备反射镜和反射式光学元件。
2. 非金属膜非金属膜是利用非金属材料的特殊光学性质制备的薄膜。
常见的非金属材料有二氧化硅、二氧化钛、氧化锌等。
非金属膜通常具有较低的折射率和较高的透过率,可用于制备透镜和滤光片等。
3. 复合膜复合膜是将金属膜和非金属膜等不同材料的薄膜层堆叠而成的。
通过合理设计和优化复合膜的结构,可以实现特定的光学效果,如增透膜、增透反射膜等。
三、制备方法光学镀膜的制备方法主要有物理气相沉积、化学气相沉积和溅射等。
1. 物理气相沉积物理气相沉积是利用电子束蒸发、磁控溅射等方法将材料蒸发或溅射到基底表面,形成薄膜层。
这种方法制备的膜层致密且具有较高的附着力,适用于制备金属膜和非金属膜等。
2. 化学气相沉积化学气相沉积是利用气相反应使材料从气体中沉积到基底表面的方法。
常用的化学气相沉积方法有化学气相沉积、金属有机化学气相沉积等。
这种方法可以实现对复杂化合物材料的制备,常用于制备氧化锌、二氧化硅等非金属膜。
3. 溅射溅射是利用高速离子轰击材料表面,将材料溅射到基底表面的方法。
溅射方法可以制备致密且热稳定的膜层,通常用于制备金属膜。
四、光学效应光学镀膜可以实现多种光学效应,如增透、增反、滤波和增透反射等。
1. 增透增透膜是指能够增加透过光的薄膜。
利用增透膜的原理,可以制备透光率较高的光学元件,如透镜、窗口等。
2. 增反增反膜是指能够增加光的反射率的薄膜。
增反膜可以用于制备反射镜、反射式光学元件等。
光学镀膜基础知识_概述及解释说明
光学镀膜基础知识概述及解释说明1. 引言1.1 概述光学镀膜是一种在光学器件上应用的技术,通过在物体表面涂覆一层薄膜来改变物体对光的反射、折射和透过性质。
这项技术被广泛应用于激光器、太阳能电池、眼镜镜片等领域。
本文将介绍光学镀膜的基础知识,并解释其原理和应用。
1.2 文章结构本文分为四个部分进行论述。
首先,在引言中我们将简要概述光学镀膜技术,并介绍文章的结构。
其次,在第二部分中,我们将深入探讨光学镀膜的基础知识,包括原理介绍、材料选择和镀膜工艺流程。
接着,在第三部分中,我们将详细解释光学镀膜的相关概念和现象,包括反射和折射现象解释、光学薄膜的工作原理解析以及镀膜在光学器件中的应用解读。
最后,在结论部分中,我们将总结所述的光学镀膜基础知识,并强调其在光学领域中的重要性和应用前景,同时提出未来研究方向建议。
1.3 目的本文旨在提供关于光学镀膜的基础知识,帮助读者了解光学镀膜技术的原理、材料选择以及镀膜工艺流程。
通过解释光学现象和光学器件中的应用,我们希望读者可以更好地理解并应用光学镀膜技术。
此外,本文也将探讨该技术在未来的研究方向,并引导读者进一步深入相关领域的研究。
2. 光学镀膜基础知识:2.1 原理介绍:光学镀膜是一种通过在物体表面涂覆一层光学材料来改变其光学性质的技术。
其原理基于反射、折射和干涉等现象。
当光线从一个介质进入另一个介质时,由于两个介质的光密度不同,会发生反射和折射的过程。
利用这些现象,可以通过选择合适的材料并采用适当的工艺流程,在物体表面生成具有特定光学性能的镀膜层。
2.2 材料选择:在进行光学镀膜时,需要选取合适的材料作为镀膜层。
常用的材料包括金属、半导体和二氧化硅等。
根据需要调节器件的反射率、透过率以及波长选择性等要求,选择不同的材料组合来达到预期效果。
2.3 镀膜工艺流程:实施光学镀膜涉及多个工序,包括基片清洗、底层/高反射层沉积、保护层应用等步骤。
首先,需要对待处理的基片进行清洗,以确保表面没有杂质影响膜层的质量。
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抗反射電鍍靶材介紹
Nb2O5
Ta2O5
TiO2
SiO2
Al2O3
精选文本-觸控面板事業處 MILDEX OPTICAL-TOUCH
ZrO2
11
AR Film 與 AR Glass之比較
項目 產品
表面硬度
耐久性
光學特性 (穿透率)
成本
AR Film
3H
差
低
低
AR Glass
7H
佳
高
高
精选文本-觸控面板事業處
7
光的特性
1. 當光線經過玻璃並不是100%穿透,玻璃兩個表面都會產生反射,玻璃本身 的材質也吸收光,因此玻璃的穿透+玻璃的反射+玻璃的吸收=100%。
玻璃材質吸收0.5%
100% 入射光
91.5% 出射光
第一面玻璃反射4% 第二面玻璃反射4%
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
2. 潑水劑為一層透明鍍膜層,鍍膜靶材使用熱電阻加熱(~300℃)蒸鍍 於表面最外層,其膜厚不需太厚即可產生防水、防污及抗指紋效果。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
16
潑水劑靶材種類
1. 潑水劑鍍膜靶材可分為一般級及奈米級,兩者差異在於靶材蒸鍍於基 材後薄膜層表面光滑度。
8
可見光波長圖
1. 人的可見光波長為400~700nm,波長700nm以上為接近紅外線,波長 400nm 以下為紫外光。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
9
抗反射(Anti-Reflection)
1. 在表面施以多層折射層塗佈,使光線照射時因多層折射層將 反射光消減,以達到抗反射效果。
2. 在大太陽底下使用手機時,常會看不清螢幕上的字,如果在 表面上增加一層抗反射光學膜,使得手機整體的穿透率提 高(反射率降低),降低太陽光對於視覺的影響。
3. 抗反射產品常應用於DV、LCD、Note book、PDA及 Digital camera等3C產品表面上。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
2. 抗眩光產品一般應用於螢幕上當作保護片使用
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
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三、潑水劑鍍膜介紹
1. 潑水劑應用 2. 水滴接觸角量測
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
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潑水劑應用介紹
1. 潑水劑一般為防水、防污及抗指紋之統稱。 (1) 防水 : 水滴不規則沾附於玻璃表面可迅速將水滴去除。 (2) 防污 : 油漬沾附於玻璃表面不會呈現彩紅紋現象。 (3) 抗指紋 : 手指觸摸玻璃表面可降低指紋附著。
2. 光學薄膜製作以物理蒸鍍法為主,其方法為將薄膜材料由 固態轉化為氣態或離子態,氣態或離子態之材料,由蒸發 源穿越空間,抵達玻璃表面,材料抵達玻璃表面後,將沉 積而逐漸形成薄膜。
3. 為了讓薄膜能擁有高純度,因此鍍膜製程是在高真空(10-5 torr)環境下完成。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
2. 一般光學鍍膜之表面皆可看的出來顏色,因鍍膜的層數及靶材不 同的因素,所反射出來的顏色皆不相同,如紅色、綠色及紫色等 等。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
6
二、抗反射原理及應用
1. 如何提高穿透率 2. 抗反射介紹 3. 抗眩光介紹
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光容大綱
一、光學鍍膜介紹及種類 二、抗反射原理及應用 三、潑水劑鍍膜介紹 四、光學鍍膜耐久性測試
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
2
光學鍍膜介紹
1. 光學鍍膜為求高透視率及隔絕有害光線,因而會在基材表 面鍍上一層薄膜。單層薄膜厚度一般在數十至數千埃 (1Å =10-7mm)。
一般級 : 大多數產品皆使用此種潑水劑靶材。 奈米級 : 表面光滑度較光滑,其耐磨性較差。
精选文本-觸控面板事業處
MILDEX OPTICAL-TOUCH
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水滴接觸角
1. 表面的親水性可以藉由量測水滴在表面上的接觸角度來衡量,接觸角 度越大表示其水滴親水性較佳。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
噴鍍法:將配置好的膜溶液裝在噴槍上,噴在玻璃表面,烘乾定型。
精选文本-觸控面板事業處
MILDEX OPTICAL-TOUCH
4
光學鍍膜 – 物理氣相沉積
1. 物理鍍膜:新一代的鍍膜技術改採物理方式,以真空蒸鍍、 離子鍍等多種不同的形式進行。物理方式的鍍膜強度和均勻 性普遍高於化學鍍膜,物裡方法鍍膜可以為多層膜,多層鍍 膜製程溫度及化學作用均會影響到前一層膜層的物性。
MILDEX OPTICAL-TOUCH
12
反射率光譜圖
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
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抗眩光(Anti-Glare)介紹
1. 光線照在未經處理的平整表面基材(PC、PMMA或GLASS)上時, 集中在某一個角度反射的光線進入眼中會讓人覺得昏眩,這就是” 眩光”所造成的影響。抗眩的原理是以表面處理的方式使表面變 得粗糙不平整,在不平整的表面狀態使照在上面的光線散射,光 線因而散射到各個角度而不會集中在某一個特定角度。
18
四、光學鍍膜耐久性測試
1. 耐磨性
2. 附著力
3. 腐蝕性
4. 濕度
3
光學鍍膜 – 化學氣相沉積
1. 化學鍍膜:此方法必須嚴格的控制化學溶液的濃度、進行反應的時間 和條件等,此方式缺點為品質及良率參疵不齊,無法鍍多層膜,對 於環境的污染較大;優點為設備價格低廉。常用的加工法:一為浸 鍍法、另一為噴鍍法。
浸鍍法:根據欲配置膜的性質製備含有成分的溶液,將玻璃加熱到一 定溫度,放入配置好的化學溶液裡,拿出烘乾,浸鍍法是唯 一可以同時 製作雙面膜的方法。
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MILDEX OPTICAL-TOUCH
5
如何分辨鍍膜面?
1. 光學鍍膜層的膜厚是非常薄的,如果事先沒在基材上作記號,是 不容易辨識出來鍍膜面在那一面。可將玻璃放置於日光燈下觀察, 如果從玻璃表面看到日光燈本身的反射顏色,那就不是鍍膜面; 如果看到的不是清晰的日光燈反射顏色,那就是鍍膜面。