高双折射低损耗光子晶体光纤的制作流程
高双折射率光子晶体光纤
高双折射率光子晶体光纤——探究新时代通讯的未来随着人类社会的日益发展，信息交流的重要性愈加彰显。
而在通讯的领域中，光纤作为信息传输的主要媒介之一，也在不断地优化与升级。
本文将介绍一种新型的，并探讨其在未来通讯中的应用前景。
一、的概述简称 PBF，是一种新兴的光纤新技术。
它采用光子晶体的结构来制造纤芯，使得纤芯具备高度的双折射率，从而实现更好的光传输性能。
相比传统的光纤，能够实现更高的带宽和更低的损耗，这也使得它在现代通讯系统中备受青睐。
二、的优势1.高带宽：的纤芯结构采用了光子晶体的结构，同时也具有高度的双折射率，这使得它的带宽大大提升，理论带宽可达到10TB/s，比传统光纤要高出数倍，大大提高了信息传输速率。
2.低损耗：传统光纤在传输过程中也会有一些光信号的损耗，而的制作材料更加均匀，所以它在传输过程中的光信号损失要比传统光纤更小。
3.避免信号串扰：由于传统光纤的共振结构，不同波长的信号会在纤芯中相互干扰，从而出现信号串扰。
而采用的纤芯结构为全光子晶体结构，能够实现波长分离，防止信号串扰。
三、的应用前景1.通讯领域：传统的光纤已经被广泛应用于通讯领域，而的出现则进一步扩大了光通讯的应用范围。
如今的高速互联网或者5G 网络，需要更高效，稳定的信号传输， PBF光纤这种应用前景广阔的技术得到越来越多的厂商和生产商所关注和采用。
2.医疗领域：随着科技的不断发展，医疗领域的设备或手术也更加高效。
在手术过程中，激光切割术在一些领域得到了广泛的应用，如白内障手术、近视眼激光矫正、皮肤减脂等等。
而 PBF 光纤技术的出现为这些激光手术提供了更好的选择，使得激光能够更精准地指向患处。
3.工业领域：高校院所和工业界经过多年的研究，利用构建了一种新型的光纤激光切割设备，成为制造业中重要的加工工具之一，为制造业发展提供了新的动力。
总之，是新一代光纤技术中的代表之一，在未来的现代通讯中将扮演着越来越重要的角色。
它的广泛应用将进一步推动科技的进步和社会的发展。
制备光子晶体的实验操作步骤与后处理技巧
制备光子晶体的实验操作步骤与后处理技巧光子晶体是一种具有周期结构的介质材料，它的制备对于光学研究和光子学应用有着重要的意义。
本文将介绍制备光子晶体的实验操作步骤以及后处理技巧，希望能为相关研究者提供参考。
1. 实验操作步骤首先，制备光子晶体的材料需要选择高折射率和低折射率的两种材料。
常用的材料包括聚合物、二氧化硅等。
选择合适的材料非常重要，它直接影响到最终光子晶体的性能。
其次，准备一个光刻版，用于制备光子晶体的模具。
这个模具的形状可以根据需要定制，一般采用二维或三维周期结构。
将需要制备的结构图案绘制在光刻版上，然后通过曝光和显影等步骤将图案转移到光刻版上。
接下来，准备合适的聚合物混合物，并将其倒入光刻版中。
聚合物混合物的配比需要根据具体材料和实验要求确定。
然后，将光刻版和混合物置于紫外线灯下进行曝光。
曝光时间的长短和曝光强度的调节对于最终的光子晶体质量起着重要作用。
曝光完成后，将光刻版放入腔体中，并开始聚合反应。
根据具体材料的特性，聚合反应的温度和时间可有所不同。
在反应进行的过程中，聚合物会填充模具中的空隙，形成光子晶体的结构。
最后，将聚合物从光刻版中取出，进行后处理。
后处理包括去除光刻残留物、清洗和干燥等步骤。
这些步骤的目的是保证最终得到的光子晶体结构完整、干净。
2. 后处理技巧在制备光子晶体的后处理过程中，有一些技巧可以提高最终产物的质量。
首先，去除光刻残留物时，可以使用适量的溶剂，如丙酮或甲苯，将样品浸泡一段时间，以去除表面的污染物。
然后，使用超声波清洗仪进行超声波清洗，以进一步清除残留物，并通过反复重复清洗和清水漂洗来彻底清洁样品。
其次，干燥过程也非常重要。
使用高效的干燥设备可以加速干燥过程，如真空烘箱或氮气吹干。
在干燥过程中，需要注意温度和时间的控制，以避免样品变形或损坏。
此外，在后处理过程中，我们还可以对光子晶体进行辅助处理，以改善其性能。
例如，通过氧化或还原等化学反应，可以改变光子晶体的光学性质和结构特征。
具有高双折射光子晶体光纤特性分析与研究
具有高双折射光子晶体光纤特性分析与研究具有高双折射光子晶体光纤特性分析与研究摘要：光子晶体光纤作为一种新兴的光纤传输技术，在光通信、光传感等领域具有广泛的应用前景。
本文通过对具有高双折射特性的光子晶体光纤的研究与分析，从光纤的制备过程、光纤的传输特性、光纤的偏振相关特性等方面进行了深入的阐述与探讨。
1. 引言在光通信和光传感领域，光纤作为一种重要的传输介质，以其带宽大、传输损耗小等优势而备受关注。
传统的光纤具有单折射特性，然而在某些应用中，需要一种具有高双折射特性的光纤来满足特定的传输需求。
光子晶体光纤作为一种新型的光纤结构，在光传输中具有独特的优势，具有高双折射特性的光子晶体光纤更是引人注目。
2. 光子晶体光纤的制备过程光子晶体光纤的制备通常采用光纤拉制技术。
首先，通过高纯度的石英玻璃材料制备光纤的芯杆材料，然后通过拉伸和熔融等工艺形成一种具有周期性微结构的光子晶体结构。
制备过程中的参数调控直接影响光子晶体光纤的性能，例如芯杆材料的纯度、拉伸速度、拉伸温度等。
3. 光子晶体光纤的传输特性与传统的单模光纤相比，具有高双折射特性的光子晶体光纤在传输中表现出独特的特性。
首先，光子晶体光纤具有较大的模场面积，可以实现更低的非线性效应和更低的色散效应。
其次，光子晶体光纤具有高度的模式选择性，可以实现光波在特定频率范围内的选择性传输。
此外，光子晶体光纤还具有较低的损耗和高的带宽等优点。
4. 光子晶体光纤的偏振相关特性光子晶体光纤的偏振相关特性是其独特性能的重要组成部分。
具有高双折射特性的光子晶体光纤能够实现偏振保持和调控等功能。
通过调节光子晶体光纤的结构参数，可以实现对特定偏振模式的选择传输，实现偏振编码和解码等应用。
5. 应用前景与展望在光通信、光传感等领域，具有高双折射特性的光子晶体光纤具有广阔的应用前景。
其高度的模式选择性和低损耗特性使其在多通道传输、色散补偿等方面具备重要的应用潜力。
此外，光子晶体光纤还可以应用于光传感领域，通过光纤中的微小结构变化实现对环境参数的高灵敏度检测。
光子晶体光纤的原理、结构、制作及潜在应用
要 ! 传统光纤中的光能损耗和色散是阻碍其进 一 步 向 大 容 量 和 远 距 离 通 信 方 向 发 展 的 主 要 原 因 . 因此制造
具有低色散和低损耗的光子晶体光纤成为光纤技术努力的方向 0在介绍光子晶体光纤的制作 导光原理和特点的 基础上 . 研究了普通光纤不具备 . 而光子晶体光纤 所 具 有 的 无 休 止 的 单 模 特 性 奇异的色散特性可控的非线性和 易于实现的多芯传输等特点 0 研究结果表明 . 光子晶体光纤在光纤传感器光子晶体天线超宽色散补偿光学集 成电路等多方面具有广泛的应用前景 0 关键词 ! 光子晶体光纤 1 光纤 1 色散 1 非线性效应 中图分类号 ! ( 4 5 , 2 3$ 文献标识码 ! 6
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应用光学
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光子晶体光纤的原理 结构 制作及潜在应用
李启成
黑龙江科技学院 数力系 . 黑龙江 哈尔滨 ’ 摘 " ( # # $ / )
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《光子晶体光纤》课件
• Xu, F., Wei, L., Chen, N., Farahi, F., & Xiao, Y. (2018). Advances in passive and active photonic crystal fibers. Science Bulletin, 63(10), 621-636.
2 光子晶体光纤的发展趋势
光子晶体光纤的发展趋势包括提高光纤性能、拓展应用领域和实现大规模制备。
3 光子晶体光纤的意义和价值
光子晶体光纤作为一种新型的光纤传输介质，具有重要的科学研究和实际应用价值。
参考文献
• Wu, W., & Xiao, Y. (2014). Photon crystal fibers: Fundamentals and applications. Wiley Online Library.
光子晶体光纤的制备
1
光子晶体光纤的制备过程
2
制备光子晶体光纤的过程包括原料准备、 Nhomakorabea预制光纤棒材、拉丝成型和表面处理等。
3
光子晶体光纤的制备方法
光子晶体光纤的制备方法多种多样，包 括传统拉制法、气相沉积法和化学气相 沉积法等。
光子晶体光纤的制备条件及其优 化
制备光子晶体光纤需要控制多种条件， 如温度、压力和光纤棒材的组分等，以 获得理想的光传输性能。
《光子晶体光纤》PPT课 件
光子晶体光纤的设计与制备
光子晶体光纤的设计与制备一、前言随着通信技术不断发展和电子设备的迅猛普及，对于高速、大容量通信的需求越来越高。
在这样的需求下，光通信成为了人们重视的一种通信方式。
而光纤作为光通信的传输媒介，其性能对于通信的质量和容量有着重要的影响。
在所有的光纤中，光子晶体光纤的传输性能和实用性是目前最优秀的。
二、光子晶体光纤的概念光子晶体光纤（Photonic Crystal Fiber，PCF）是一种特殊的光纤，其传输机理和传统光纤完全不同。
光子晶体光纤是由光子晶体结构形成的中空芯光纤，它的芯层结构由环形排列的空心高低不平规律芯柱构成，芯周围是具有光子晶体结构、由空和实组成的材料壳层。
由于光子晶体结构和光学玻璃直接交错，光场暴露在空气和光学玻璃相间的界面上，从而大大加强了光学互作用。
三、光子晶体光纤的优点1.超宽光谱范围：光子晶体光纤由于核心中存在空气，使之呈现出空传模式，从而可以在更大的光波段上运行。
2.强烈色散控制：光子晶体光纤通过调节纵向周期、芯尺寸和纹理，可实现类型、量级可控色散。
3.宽的模式场直径：光子晶体光纤芯层中芯柱的尺寸和排列规律可以随意设计，从而可以获得大范围、强度均匀的模式。
4.光纤之间的高疏密度交叉：由于光子晶体光纤的芯层和壳层被交替排列，可以实现与另一个光波导的穿越或交叉，从而提升了光纤传输的灵活性。
四、光子晶体光纤的制备方法1.拉制法光子晶体光纤的拉制方法和传统光纤相似，只是在拉丝的过程中需要控制高度精度的制备参数，包括预制的毛单丝、预制的光子晶体手段、丝芯和丝壳材料的选取等。
2.叠纸法叠纸法是通过将光子晶体的数个重叠折层固定在一起，在拉制时削减下坠力，再用手摇纤维丝杆使其缠绕。
五、光子晶体光纤的应用1.超高速光通信随着互联网的迅猛发展，对于网络的需求越来越高。
而光子晶体光纤的优异性能，使之特别适合于超高速光通信的场景。
2.光学显微技术传统的光学显微技术只能获得有限的分辨率，但是，利用光子晶体光纤的优异性能，可以制作高分辨率的成像装置，从而可以实现更加细致和准确的显微检测。
光子晶体光纤的制备与调控
光子晶体光纤的制备与调控光子晶体光纤是一种具有周期性折射率分布结构的光导纤维，通过调控其周期性结构，可以实现对光的传输和操控。
光子晶体光纤制备与调控技术的发展，不仅在信息通信、传感、激光器等领域具有广泛应用前景，还为光子晶体光纤的基础研究提供了重要的工具和平台。
光子晶体光纤制备主要采用两种方法，一种是传统的拉制方法，另一种是光子晶体纤维预制杆法。
传统的拉制方法是将材料熔化后拉制成光纤，再通过控制拉制速度和温度来调控光纤的结构。
这种方法制备的光纤制作工艺相对简单，适用于制备光纤长度较长且尺寸较大的光子晶体光纤。
而光子晶体纤维预制杆法则是首先制备光子晶体材料的预制杆，然后在预制杆表面进行化学蒸发沉积等处理，通过控制沉积时间和温度来调控光子晶体光纤的结构。
这种方法制备的光纤在结构上更加精密、周期性更好，适用于制备光纤长度较短且尺寸较小的光子晶体光纤。
光子晶体光纤的结构调控是实现其特殊光学性质的关键。
通过调控光子晶体光纤的结构参数，如周期、孔径、壁厚等，可以实现对光的吸收、散射和衍射等过程的控制。
一种常用的结构调控方法是通过控制沉积时间和温度来调控光子晶体光纤的周期。
周期的大小决定了光子晶体光纤的色散特性和带隙宽度，通过调控周期大小，可以实现对光子晶体光纤的色散特性和光子禁带的调控。
另外，根据所需的应用需求，还可以通过控制光子晶体光纤的孔径和壁厚等参数来调控其光学性能。
在光子晶体光纤的制备与调控中，材料的选择也是非常关键的。
目前常用的材料有氟化物玻璃、硅氧烷等。
氟化物玻璃具有优异的光学性能和生物相容性，在红外通信、激光器和传感领域具有广泛应用。
而硅氧烷则具有低损耗、高强度和光学透明性好的特点，适用于制备波导结构较复杂的光子晶体光纤。
除了材料的选择，制备光子晶体光纤还需要考虑其他因素的影响。
光子晶体光纤的制备过程中，温度、拉制速度等参数的控制对光子晶体光纤的性能有着直接的影响。
同时光子晶体光纤的制备还需要考虑光纤的缺陷问题，如内部杂质、壁厚不均匀等等。
高双折射光子晶体光纤的双折射特性及其应用研究的开题报告
高双折射光子晶体光纤的双折射特性及其应用研究的开题报告【摘要】高双折射光子晶体光纤是一种具有特殊光学性质的光学纤维。
其制备过程涉及到光子晶体材料的制备和光纤的拉制工艺等多个环节。
本文将详细介绍高双折射光子晶体光纤的制备和双折射特性，并探究其在光传输和光学传感等领域的应用。
【关键词】高双折射光子晶体光纤；制备；双折射特性；应用。
【引言】光子晶体是由光学周期性介质构成的具有特殊光学性质的材料，在光学传感、光器件等方面具有广泛的应用。
其中光子晶体光纤是一种在光通信和光学传感等领域有着极高研究价值的新型光学纤维。
高双折射光子晶体光纤是其中一种，在光传输和光学传感等领域有着广泛的应用前景。
【正文】1、高双折射光子晶体光纤的制备高双折射光子晶体光纤的制备主要涉及到光子晶体材料的制备和光纤的拉制工艺等环节。
首先需要制备出高质量的光子晶体材料，这是制备高双折射光子晶体光纤的关键步骤。
然后通过拉制工艺将光子晶体材料制成光纤。
在拉制光纤的过程中，需要对温度、拉力等参数进行精细控制，以确保光纤质量的稳定性和光学性能的优异性。
2、高双折射光子晶体光纤的双折射特性高双折射光子晶体光纤是一种具有特殊光学性质的光学纤维。
其双折射特性是指在光纤中传输光的两个主要模式的折射率不同，导致产生了双折射现象。
双折射现象可以用来实现光路可调、光学分波器等光学元件，具有广泛的应用前景。
3、高双折射光子晶体光纤在光传输和光学传感中的应用高双折射光子晶体光纤具有宽带传输、低损耗、小尺寸等优点，因此在光传输和光学传感等方面具有广泛的应用前景。
其中，在光学传感方面，高双折射光子晶体光纤可以用来实现光学分波器、偏振调制器等光学元件，同时还可以用来实现光学传感器，如温度传感器、压力传感器、加速度传感器等。
【结论】高双折射光子晶体光纤是一种具有特殊光学性质的光学纤维，在光传输和光学传感等领域具有广泛的应用前景。
其制备过程需要精细控制多个环节，以保证光纤的性能稳定和优异性。
光子晶体光纤的制备概要
预制棒的制备
预制棒制备示意图
毛细管的拉制
首先，根据要设计的PCF结构参数，决定 要拉制的毛细管外径大小和壁厚。选择具 有良好光学表面和结构参数的石英玻璃管 进行严格清洗后，拉制成毛细管。毛细管 的形状可以是六边形，也可以选择圆形。 由于最终获得的光子晶体光纤结构参数要 达到微米数量级，因而拉制的毛细管有一 点微小的形变，都会对光子晶体光纤的结 构产生巨大的影响。
拉制过程中温度的影响
拉制光子晶体光纤过程中，对温度的控制显得极为 重要，因为玻璃的表面张力、粘度均受到温度的影 响。一般来说温度升高，玻璃液表面张力和粘度都 会减小。拉丝是靠破璃液在一定高温范围内，有一 定合适的成型粘度范围才能正常进行的。低于此粘 度范围，破璃液粘度太稀，会形成不连续的液滴而 断丝；高于此粘度范围，玻璃液太稠，拉丝张力过 大造成断丝。因此在拉丝生产过程中，加热炉的温 度一定要均匀，还要精密控制炉子的温度。
注 意
在拉制毛细管的过程中严格控制以下两个方 面：一个是保持光纤横截面不发生形变，另 一个是确保光纤纵向均匀，不能拉成锥形。 否则在堆积时，就无法使得毛细管排列保持 周期性和紧密性。
毛细管的堆积
堆拉法的灵活性就表现在毛细管的堆积过 程，此过程制作的预制棒相当于PCF的放 大版。利用堆积法可以制造出不同结构的 预制棒，比如制造单个高折射率纤芯、多 个高折射率纤芯、椭圆纤芯、空气纤芯以 及集成式光纤预制棒，或是通过改变包层 中空气孑L的几何尺寸和排列方式制备出各 种性能不同光纤的预制棒。
拉制过程中表面张力的影响
预制棒在拉制后之所以能保持完好的 周期性孔分布，是与表面张力的作用 密切相关的。对于PCF，由于表面面 积很大而且材料空间很小，使得表面 张力极为重要。在光子晶体光纤成型 时，出口处的丝根会保持成新月形状。 新月形状的形成是玻璃液的向上的表 面张力和向下的粘性牵伸力平衡的结 果。如果表面张力太大，而相对地讲 粘度太小，则由于向上的表面张力占 优势而将丝根向回缩成液滴状，中断 了纤维成形过程。
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一种高双折射低损耗光子晶体光纤，包括纤芯和包层，纤芯由光纤中心部位的背景材料、四个圆孔a和两个圆孔b共同构成的纤芯高折射率区域，其在纤芯处呈两个圆孔a夹一个圆孔b的两列并行排列的微结构纤芯；包层为包围纤芯且直径相同且呈正八边形周期性排列的圆形空气孔构成的区域共四层，最内层圆形空气孔与四个圆孔a外切。
本技术的优点是：该光纤引入微结构纤芯，具有二维旋转对称性，模式双折性能高，比普通的光子晶体光纤高出一个数量级达到10-1；该光纤的限制损耗超低为10-6dB/km量级，适用作制作色散补偿光纤；选用As2Se3作为背景材料，具有大的负色散特性，性能更加优秀且易于操作。
技术要求
1.一种高双折射低损耗光子晶体光纤，其特征在于：包括纤芯和包层，包层折射率低于纤芯；纤芯由光纤中心部位的
背景材料As2Se3、四个圆孔a和两个圆孔b共同构成的纤芯高折射率区域，其中圆孔a的直径大于圆孔b的直径，四个圆孔a和两个圆孔b在纤芯处呈两个圆孔a夹一个圆孔b的两列并行排列的微结构纤芯；包层为包围纤芯且直径相同且呈正八边形周期性排列的圆形空气孔构成的区域，周期性排列的圆形空气孔共四层，最内层圆形空气孔与四个圆孔a外切。
2.根据权利要求1所述高双折射低损耗光子晶体光纤，其特征在于：所述圆孔a的直径为0.56μm、圆孔b的直径为
0.44μm；圆形空气孔的直径为1μm、空气孔的间距为1.5μm；两列并行排列圆孔的中心距为0.87μm。
3.一种如权利要求1所述高双折射低损耗光子晶体光纤的制备方法，其特征在于步骤如下：
1）将一根直径为3mm的As2Se3材料棒研磨成正八棱柱并沿轴线方向钻一个直径为1.6mm的孔，然后将其放在光纤拉丝塔上拉制成直径为0.08mm的正八棱柱丝，拉丝温度为1800-2000℃；
2）把上述正八棱柱丝切成长度为25mm的柱丝，然后堆积需要的晶体结构，将其再一次放到光纤拉丝塔中熔合、拉伸制成空气孔间距为1.5μm，得到更细的纤丝；
3）将上述纤丝堆积成八边形结构，中心用直径相同的实心柱替换，对实心柱采用超声波打孔法来完成微结构纤芯的制作。
4.一种如权利要求1所述高双折射低损耗光子晶体光纤的应用，其特征在于：用作制作色散补偿光纤。
说明书
一种高双折射低损耗光子晶体光纤
技术领域
本技术属于光纤通信技术领域，特别是一种高双折射低损耗光子晶体光纤。
背景技术
光子晶体光纤是一种带有缺陷的二维光波导，由在轴向方向具有周期性微结构空气孔排列的石英材料构成，通过微小空气孔对光的约束，实现光的传导。
与传统光纤相比，光子晶体光纤拥有其无法比拟的特性：无截止单模特性、高非线性、高双折射特性、色散可调特性等。
模式的双折射是衡量保偏光纤性能的重要参数，它是由光纤两个正交方向上的等效折射率差的不同而产生的，因而增大二者的折射率只差可以有效的迅速增大双折射，提高光纤的保偏性能。
高双折射光子晶体光纤能够被广泛的应用于激光器以及其他光学精密仪器的制造。
由于高双折射特性能够很大程度上影响光学器件的性能，因而其设计及参数优化是现阶段研究的热点，包层形状及空气孔形状种类繁多。
目前已报道的高双折射光子晶体光纤主要分为以下几类：1）在纤芯附近引入局部非对称；2）具有各项异性的包层；3）在包层掺杂聚合物等；4）具有微结构纤芯。
最早报道设计并制作出具有高双折射光子晶体光纤的文献是2000年光学快报第25卷18期1325-1327页发表的“高双折射光子晶体光纤” ，参见：
Ortigosa B A, Knight J C, Wadsworth W J et.al. Highly birefringence photonic crystal fiber [J]. Optics Letter, 2000,25 (18) :1325-1327, 文中报道了双折射达3.7×10-3的石英双折射光子晶体光纤。
2010年，张美艳设计了一种基于微结构的矩形和椭圆纤芯的光子晶体光纤，通过调整孔径以及微结构纤芯的参数，能够有效优化光纤的性能。
2012年，So Eun Kim提出在包层是椭圆孔结构的纤芯引入一个小椭圆孔，通过优化光纤的结构参数，双折射达1.94×10-2，限制损耗达0.1 dB/km 。
当前，基于新的背景材料诸如硫化物、碲酸盐等的光子晶体光纤引起了极大的兴趣，新材料的低损耗以及硫化物特有的大负色散特性使得光子晶体光纤的设计和制作有了更大的可能性，设计出同时具有高双折射、低损耗以及大的负色散特性的光子晶体光纤成为了可能，其能够良好的用于制作色散补偿光纤。
技术内容
本技术的目的是解决目前已有的光子晶体光纤双折射较低同时损耗较大的问题，提供一种结构相对简单并且易于制作的高双折射低损耗光子晶体光纤，该光子晶体光纤采用了八边形包层并且引入了纤芯微结构，具有比现有的光子晶体光纤更高的双折射；采用了新的背景材料As2Se3，使得光纤拥有更低的限制损耗并且可以有很大的负色散，因而可以用作制作色散补偿光纤。
本技术的技术方案：
一种高双折射低损耗光子晶体光纤，包括纤芯和包层，包层折射率低于纤芯；纤芯由光纤中心部位的背景材料As2Se3、四个圆孔a和两个圆孔b共同构成的纤芯高折射率区域，其中圆孔a的直径大于圆孔b的直径，四个圆孔a和两个圆孔b在纤芯处呈两个圆孔a夹一个圆孔b的两列并行排列的微结构纤芯；包层为包围纤芯且直径相同且呈正八边形周期性排列的圆形空气孔构成的区域，周期性排列的圆形空气孔共四层，最内层圆形空气孔与四个圆孔a外切。
所述圆孔a的直径为0.56μm、圆孔b的直径为0.44μm；圆形空气孔的直径为1μm、空气孔的间距为1.5μm；两列并行排列圆孔的中心距为0.87μm。
一种所述高双折射低损耗光子晶体光纤的制备方法，步骤如下：
1）将一根直径为3mm的As2Se3材料棒研磨成正八棱柱并沿轴线方向钻一个直径为1.6mm的孔，然后将其放在光纤拉丝塔上拉制成直径为0.08mm的正八棱柱丝，拉丝温度为1800-2000℃；
2）把上述正八棱柱丝切成长度为25mm的柱丝，然后堆积需要的晶体结构，将其再一次放到光纤拉丝塔中熔合、拉伸制成空气孔间距为1.5μm，得到更细的纤丝；
3）将上述纤丝堆积成八边形结构，中心用直径相同的实心柱替换，对实心柱采用超声波打孔法来完成微结构纤芯的制作。
一种所述高双折射低损耗光子晶体光纤的应用，用作制作色散补偿光纤。
本技术的优点和有益效果
本技术提出了一种结构相对简单并且易于制作的高双折射低损耗光子晶体光纤，通过引入纤芯微结构，在纤芯处设置了两列并行排列的三小圆结构，该结构具有二维旋转对称性，表现出很高的模式双折；该光子晶体光纤的模式双折射比普通的光子晶体光纤（10-2量级）高出一个数量级，达到10-1量级，同时该光纤的限制损耗超低为10-6dB/km量级；该光纤由于选用As2Se3作为背景材料，因而具有大的负色散特性，；性能更加优秀且适用于实际操作。
附图说明
图1为该光子晶体光纤的截面结构示意图。
图中：1.圆孔a 2.圆孔b 3.圆形空气孔 4.背景材料 5.纤芯
图2为该光子晶体光纤计算得到的两个正交方向上的模式折射率之差，即双折射随波长的变化关系图。
图3为该光子晶体光纤计算得到的限制损耗随波长的变化关系图。
图4为该光子晶体光纤色散随波长的变化关系图。
具体实施方式
实施例：
一种高双折射低损耗光子晶体光纤，如图1所示，包括纤芯和包层，包层折射率低于纤芯；纤芯5由光纤中心部位的背景材料As2Se34、四个圆孔a1和两个圆孔b2共同构成的纤芯高折射率区域，其中圆孔a1的直径大于圆孔b2的直径，四个圆孔a1和两个圆孔b2在纤芯5处呈两个圆孔a1夹一个圆孔b2的两列并行排列的微结构纤芯；包层为包围纤芯且直径相同且呈正八边形周期性排列的圆形空气孔3构成的区域，周期性排列的圆形空气孔3共四层，最内层圆形空气孔3与四个圆孔a1外切。
该实施例中，圆孔a1的直径为0.56μm、圆孔b2的直径为0.44μm；圆形空气孔3的直径为1μm、空气孔的间距为1.5μm；两列并行排列圆孔的中心距为0.87μm。
该高双折射低损耗光子晶体光纤的制备方法，步骤如下：
1）将一根直径为3mm的As2Se3材料棒研磨成正八棱柱并沿轴线方向钻一个直径为1.6mm的孔，然后将其放在光纤拉丝塔上拉制成直径为0.08mm的正八棱柱丝，拉丝温度为1800-2000℃；
2）把上述正八棱柱丝切成长度为25mm的柱丝，然后堆积需要的晶体结构，将其再一次放到光纤拉丝塔中熔合、拉伸，拉制成空气孔间距为1.5μm，得到更细的纤丝；
3）将上述纤丝堆积成八边形结构，中心用直径相同的实心柱替换，对实心柱采用超声波打孔法来完成微结构纤芯的制作。
所制得的高双折射低损耗光子晶体光纤可用作制作色散补偿光纤。
图2为该光子晶体光纤计算得到的两个正交方向上的模式折射率之差，即双折射随波长的变化关系图，图中表明：模式双折射随着波长的增长而增大，在波长1550nm处，双折射达到1.56×10-1，比普通的光子晶体光纤高出一个数量级。
图3为该光子晶体光纤计算得到的限制损耗随波长的变化关系图，图中表明：该光子晶体光纤的限制损耗很低，在1550nm处，损耗为6.44278×10-6dB/km。
图4为该光子晶体光纤色散随波长的变化关系图，图中表明：该光子晶体光纤具有大的负色散特性。