第一章 薄膜及其特性-修改分解

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精品课程《功能材料》第七讲 功能薄膜材料

精品课程《功能材料》第七讲  功能薄膜材料
与德布罗意波的干涉相关联的效应一般 称为量子尺寸效应。
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另外,表面中含有大量的晶粒界面,而界面势垒 比电子能量E要大得多,根据量子力学知识,这些 电子有一定的几率,穿过势垒,称为隧道效应。
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(6)容易实现多层膜
多层膜是将两种以上的不同材料先后沉积 在同一个衬底上(也称为复合膜),以改 善薄膜同衬底间的粘附性。
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(二) 薄膜的形成与生长
薄膜的形成与生长 有三种形式,如图 1-2所示: (a)岛状生长模式 (b)层状生长模式 (c)层岛结合模式
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三、 溅射薄膜的形成过程
由于溅射的靶材粒子到达基体表面时有非常大 的能量,所以溅射薄膜的形成过程与真空蒸发 制膜的形成过程有很大差别。
同时给薄膜带来一系列的影响,除了使膜与基 体的附着力增加以外,还会由于高能粒子轰击 薄膜表面使其温度上升而改变薄膜的结构,或 使内部应力增加等,另外还可提高成核密度。
像薄膜这种表面面积很大的固体,表面能级将会 对膜内电子输运状况有很大的影响。尤其是对薄 膜半导体表面电导和场效应产生很大的影响,从 而影响半导体器件性能。
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(2)薄膜和基片的粘附性
薄膜是在基片之上生成的,基片和薄膜之间就会 存在着一定的相互作用,这种相互作用通常的表 现形式是附着(adhesion)。
图1-1为典型CVD反应步骤的浓度边界模型
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图5-12 典型CVD反应步骤的浓度边界模型 编辑ppt
二、真空蒸发薄膜的形成过程
真空蒸发薄膜的形成一般分为: 凝结过程 核形成与生长过程 岛形成与结合生长过程
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(一)凝结过程
凝结过程是从蒸发源中被蒸发的气 相原子、离子或分子入射到基体表 面之后,从气相到吸附相,再到凝 结相的一个相变过程。

薄膜种类及特性

薄膜种类及特性

薄膜种类及特性 Revised by Petrel at 2021第一章:薄膜种类及特性一、PP(聚丙烯薄膜)1、BOPP(双向拉伸聚丙烯薄膜)特性如下:1)BOPP薄膜无色、无嗅、无味、无毒、卫生性能好、密度在0.92g/cm2。

2)BOPP薄膜刚性好,具有强韧性、透明度和光泽性。

3)BOPP薄膜拉伸强度高、抗冲击强度好、但抗撕裂强度低。

因此,两端不能留任何切口,否则在印刷复合时容易撕裂。

4)BOPP薄膜表面能低,涂胶或者印刷前需要进行电晕处理,有很好的印刷适应性,但有一定期限,过期后表面能也不好。

5)BOPP薄膜耐热性高,使用温度可达120℃,是通用塑料中最耐温的。

6)BOPP薄膜化学稳定性好,除强酸对它有腐蚀作用外,不溶于其他溶剂。

7)BOPP薄膜阻水性极佳,是阻水防潮最佳材料之一,吸水率<0.01%,但阻氧率极差。

8)BOPP薄膜也有不足,如积累静电,没有热封性等。

在高速运转的的生产线上需安装静电去除器。

2、消光BOPP消光BOPP的表层设计为消光(粗化)层,是外观的质感试于纸张。

消光BOPP与BOPP薄膜相比有以下特点:1)消光层有遮光作用,表面光泽度也就大大的减少。

2)必要时消光层可有热封性。

3)消光层滑爽性好,因表面粗化具有防粘性,膜卷不易粘结。

4)消光层的拉伸强度比通用的薄膜低。

二、CPP薄膜CPP薄膜即流延聚丙烯薄膜,是一种无拉伸、非定向聚丙烯薄膜。

按原料分为均聚CPP和共聚CPP,按作用分为通用CPP,镀铝(VMCPP),蒸煮CPP(RCPP)等。

特性如下:1)CPP薄膜透明度高、平整度高,但耐油性不是很好。

2)CPP薄膜耐温性好,但易变形,可具有热封性,不易反粘。

3)CPP薄膜手感好、遮光、具有一定挺刮度,不失柔韧性,热封性好。

4)CPP薄膜防湿防潮、阻氧性都很好。

5)CPP薄膜无毒、无味、无嗅、卫生性能好,密度在0.92g/cm2。

三、BOPET薄膜双向拉伸聚酯薄膜(BOPET,简称聚酯)是PET树脂在模挤后再双向拉伸缩制得。

第一讲_薄膜材料简介

第一讲_薄膜材料简介

薄膜材料的应用领域
光学应用:薄膜材料可用于制造各种光学器件,如眼镜、相机镜头等。
电子应用:薄膜材料可用于制造电子器件,如薄膜晶体管、太阳能电池等。
生物医学应用:薄膜材料可用于制造医疗器械,如人工心脏瓣膜、人工关 节等。 包装应用:薄膜材料可用于食品、药品等的包装,具有阻隔性能好、轻便 美观等优点。
环保需求:随着 环保意识的提高, 对环保型薄膜材 料的需求越来越 大,这也将成为 未来市场发展的 重要趋势。
06
薄膜材料的安全和环保问题及应对 措施
薄膜材料的安全问题及应对措施
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薄膜材料的安全问题:主要包括生产过程中的安全问题、使用过程中的安全问题以及废弃处理 时的安全问题。
应对措施:加强生产和使用环节的安全管理,提高员工的安全意识;采用环保型材料,减少对 环境的污染;加强废弃处理的管理,避免对环境造成二次污染。
薄膜材料的工艺流程
制备方法:物 理气相沉积、 化学气相沉积、 溶胶-凝胶法等
工艺流程:原 料选择、表面 处理、薄膜生 长、后处理等
影响因素:温 度、压力、气
氛、基底等
工艺特点:成 本低、可控制 性强、适用于 大规模生产等
不同制备方法的比较和选择
物理气相沉积法:利用物理过程将材料气化,再在一定条件下沉积成薄膜
的市场需求
汽车行业:汽 车轻量化趋势, 使得对高强度、 耐腐蚀的薄膜 材料需求增加
薄膜材料的发展趋势
环保化:随着环保意识的提高,对环保型薄膜材料的需求将不断增加。 高性能化:对薄膜材料的性能要求越来越高,需要不断研发高性能的薄膜材料。 智能化:随着物联网、智能家居等领域的快速发展,对智能型薄膜材料的需求也将不断增加。 多功能化:为了满足不同领域的需求,需要开发具有多种功能的薄膜材料。

第一章 薄膜及其特性-修改

第一章  薄膜及其特性-修改
随着科技工作的不断发展和深入,薄膜领域也在不断扩展,不同的应用领域对 薄膜的厚度有不同要求。所以有时把厚度为几十微米的膜层也称为薄膜。通常 是几个纳米到几十个微米,这也就是薄膜物理所研究的范围。
●薄膜(thin film):由物理气相沉积(PVD)、化学 气相沉积(CVD)、溶液镀膜法等薄膜技术制备的薄 层。 ●厚膜(thick film):由涂覆在基板表面的悬浮液、 膏状物经干燥、煅烧而形成。 主要方法:丝网印刷(Print)、热喷涂(Spray) 历史:陶瓷表面上釉
缺点:不能区分薄膜、厚膜、涂层、金属箔、层等概念。 thick film coating foil layer
பைடு நூலகம்
三、定义3:
采用特定的制备方法在基板表面上生长得到的 一薄层固态物质 。 ●强调基板必不可少;
——区分薄膜与金属箔、塑料薄膜
●强调制备方法;
——区分薄膜与厚膜,厚度不是区分的关键 通常厚度:薄膜 < 1m ; 厚膜>10m
③分光镜和滤光片 彩色扩印与放大设备中所用红、绿、蓝三原色滤光片上镀的多层 膜。 ④照明光源中所用的反热镜与冷光镜薄膜。
⑤建筑物、汽车等交通工具所用的镀膜玻璃
热带地区的太阳能控制膜(Cr、Ti、不锈钢、Ag等)和用于寒带 地区的低辐射率薄膜(TiO2-Ag-TiO2、ITO膜等)。 ⑥激光唱片与光盘中的光存储薄膜, Te81Ge15S2Sb2硫系半导体化合物薄膜、TbFeCo非晶膜。 ⑦集成光学元件与光波导中所用的介质薄膜与半导体薄膜。
• 薄膜的生长模式可归纳为三种形式: • (1)岛状生长模式(Volmer-Weber模式): • 特点:到达衬底上的沉积原子首先凝聚成核, 后续飞来的沉积原子不断聚集在核附近,使 核在三维方向上不断长大而最终形成薄膜。 • 这种类型的生长一般在衬底晶格和沉积膜晶 格不相匹配时出现,大部分的薄膜的形成过 程属于这种类型。 • 成膜初期按三维形核方式,生长为一个个孤 立的岛,再由岛合并成薄膜。例如SiO2基片 上的Au薄膜。这一生长模式表明,当沉积物 中的原子或分子彼此间的结合较之与基片的 结合强很多时(即被沉积物质与衬底之间的 浸润性较差),就会出现这种生长模式。在 绝缘体、卤化物晶体、石墨、云母基片上沉 积金属时,大多数显示出这一生长模式。

薄膜制备技术课件分解

薄膜制备技术课件分解
7. 薄膜制备技术 7.1 薄膜材料基础 7.1.1 薄膜的概念与分类
1. 薄膜材料的概念 采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)
的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料 表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜。
简而言之,薄膜是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维 材料。
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2. 薄膜分类
(1)物态
气态 液态 固态(thin solid film)
(2)结晶态:
非晶态:原子 有排 序 、长 列程 短无 。程序 晶态 多 单晶 晶: :在 外、一 延 在衬 生 单 ,底 长 晶 由上 基 许生 底 多长 上 取 质同 向 外 集质 相 延 合和 异 体异 单 组
1) 蒸发或升华。通过一定加热方式使被蒸发材料受热 蒸发或升华,由固态或液态变成气态。
2) 输运到衬底。气态原子或分子在真空状态及一定蒸 气压条件下由蒸发源输运到衬底。
3) 吸附、成核与生长。通过粒子对衬底表面的碰撞, 衬底表面对粒子的吸附以及在表面的迁移完成成核 与生长过程。是一个以能量转换为主的过程。
The composition and crystal structure of films depend on material quality, fabriccation method, synthesis condition, and post-annealing.
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原子层的晶体生长“世界”与自然世界的比拟
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代表性的制备方法按物理、化学角度来分,有:
1) 物理成膜 PVD 2) 化学成膜 CVD
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7.2 物理成膜 7.2.1 概述 1. 定义

薄膜材料介绍课件

薄膜材料介绍课件
组织工程
薄膜材料可作为组织工程的支架材料,用于再生医学领域 。
其他领域
包装行业
薄膜材料在包装行业中 广泛应用,如食品包装 、药品包装等。
装饰行业
薄膜材料可用于制造各 种装饰品,如玻璃贴膜 、汽车贴膜等。
信息存储
薄膜材料可用于高密度 信息存储,如光盘和磁 记录介质。
05
薄膜材料的发展趋势与 挑战
新材料开发
分类
根据材料类型,薄膜材料可以 分为金属薄膜、绝缘体薄膜、 半导体薄膜、聚合物薄膜等。
根据制备方法,薄膜材料可以 分为物理气相沉积薄膜、化学 气相沉积薄膜、溶胶-凝胶法薄 膜等。
根据应用领域,薄膜材料可以 分为光学薄膜、电子薄膜、生 物薄膜、能源薄膜等。
通常具有较高的透明度,允许光线透过 ,适用于各种光学应用。
薄膜材料介绍课件
contents
目录
• 薄膜材料的定义与分类 • 薄膜材料的特性与性能 • 薄膜材料的制备方法 • 薄膜材料的应用领域 • 薄膜材料的发展趋势与挑战
01
薄膜材料的定义与分类
定义
01
薄膜材料是指厚度在微米至纳米 范围内的薄层材料,通常由一种 或多种材料组成。
02
薄膜材料可以具有各种不同的性 质,如光学、电学、磁学、力学 等,这使得它们在许多领域都有 广泛的应用。
能源领域
太阳能电池
薄膜太阳能电池是一种新型的太阳能电池,其特点是薄、轻、可弯 曲。
燃料电池
薄膜材料可用于制造燃料电池的电极和隔膜。
储能电池
薄膜材料在储能电池领域也具有广泛应用,如锂离子电池的电极材料 。
生物医学领域
生物传感器
薄膜材料可用于制造生物传感器,用于检测生物分子和细 胞。

薄膜特性_精品文档

薄膜特性_精品文档

1.双向拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)双向拉伸聚丙烯薄膜是由聚丙烯颗粒经共挤形成片材后, 再经纵横两个方向的拉伸而获得的。

由于拉伸分子定向, 所以此薄膜的物理稳定性、机械强度、气密性较好, 透明度和光泽度较高, 坚韧耐磨, 是目前应用最广泛的印刷薄膜。

一般使用厚度为20~40 μm , 应用最广泛的为20 μm 。

其主要缺点是热封性差, 所以一般用做复合薄膜的外层薄膜, 如与聚乙烯薄膜复合后防潮性、透明性、强度、挺度和印刷性均较理想, 适用于盛装干燥食品。

由于双向拉伸聚丙烯薄膜的表面为非极性, 结晶度高, 表面自由能低, 因此, 其印刷性能较差, 对油墨和胶黏剂的附着力差, 在印刷和复合前需要进行表面处理。

2.低密度聚乙烯薄膜(LDPE)低密度聚乙烯薄膜一般采用吹塑和流延两种工艺制成, 流延聚乙烯薄膜的厚度均匀, 但由于价格较高, 目前很少使用。

吹塑聚乙烯薄膜是由吹塑级PE颗粒经吹塑机吹制而成的, 成本较低, 所以应用最为广泛。

低密度聚乙烯薄膜是一种半透明、有光泽、质地较柔软的薄膜, 具有优良的化学稳定性、热封性、耐水性和防潮性, 耐冷冻, 可水煮, 其主要缺点是对氧气的阻隔性较差, 常用于复合软包装材料的内层薄膜, 而且也是目前应用最广泛、用量最大的一种塑料包装薄膜, 约占塑料包装薄膜耗用量的40%以上。

由于聚乙烯分子中不含极性基团, 即其表面为非极性, 且结晶度高, 表面自由能低, 因此, 该薄膜的印刷性能较差, 对油墨和胶黏剂的附着力差, 因此, 在印刷和复合前需要进行表面处理。

3.(PET)聚酯薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料, 采用挤出法制成厚片, 再经双向拉伸制成的薄膜材料。

它是一种无色透明、有光泽的薄膜, 机械性能优良, 刚性、硬度及韧性高, 耐穿刺, 耐摩擦, 耐高温和低温, 耐化学药品性、耐油性、气密性和保香性良好, 是常用的阻透性复合薄膜基材之一, 但聚酯薄膜的价格较高, 一般厚度为12 μm, 常用做蒸煮包装的外层材料, 印刷适性较好。

1-V-1薄膜物理与技术-第一部分序言,第一章

1-V-1薄膜物理与技术-第一部分序言,第一章

最可几速率:
Vm
2KT m
算术平均速率:
8KT
Va m
均方根速率:
3KT
Vr m
分布函数:f(Vr)< f(Va)< f(Vm)
但:
Vm < Va < Vr
2.平均自由程 的定义:气体两次碰撞之间所走路程的
统计平均值
Va
z
Z----每秒一个气体分子与其他分子碰撞次数 d
薄膜物理与技术
任课老师 李金钗 武汉大学
序言
本课程主要包括三部分: 一. 真空科学与技术
1. 真空的基本知识 2. 真空的获得(各种真空泵原理、结构
及应用) 3. 真空的测量原理 4. 真空系统的组成、检漏及流导的计算
二. 薄膜物理 1. 薄膜的各种制备方法及原理 2. 薄膜厚度的测量 3. 薄膜的形成机理、晶体结构、缺陷 4. 薄膜的物理性质
真空浸漆等
(2) 低真空:1×103~ 1×10-1 Pa 1016~1013 个/cm3,加电场下会电离、液体沸点大大降低
(可用于真空脱水) (3) 高真空: 1×10-1~1×10-6 Pa 高真空下蒸发出的材料分子,按直线飞行
(4) 超高真空:<1×10-6 Pa n< 1010个/cm3 不少高科技器件或材料只能在超高真空下才能获得
• 等离子体的形成、离子束的产生、注入均 需在真空条件下完成
第一部分 真空科学与技术
应用领域:
原子能技术、航天、薄膜制备、分析测试 电真空器件、微电子、轻工业、日常用品等
例:
1. 原子能技术 各种加速器(串列加速器、正负电子对撞机、慢
正电子束)
2. 航天技术: 地面模拟实验

第一章__薄膜的特征

第一章__薄膜的特征
第一章 薄膜的特征
1.1 薄膜的定义 1.2 表面效应 1.3 薄膜的结构和缺陷
1.1 薄膜的定义
1.薄膜的历史
3000 多年前,中国古代在陶瓷已开始采用釉涂层,到了唐宋 时代,彩釉工艺达到了顶峰。 19世纪初,发现辉光放电过程可沉积固体薄膜。 20 世纪后,电解法、化学反应法和真空蒸镀法等薄膜制备方 法相继问世,薄膜技术迅速发展。光学薄膜最先得到研究和应 用,成功地制备了各种增透膜、高反膜、滤光膜、分光膜等光 学薄膜,在光学仪器、太阳电池、建筑玻璃等领域得到广泛的 应用。 20 世纪 50 年代以后,微电子技术的进步极大地推动了 薄膜技术的进步。在现代的集成电路制作过程中,薄膜沉积和 刻蚀是必不可少的薄膜工艺。


s

对于块状材料,则有
Ldm TmSdm 0
(1-4)

L dA 2 , 将 S 代入式(1-3)得到: Tm dm r
Tm Ts 2 0 Tm Lr

可见, Tm Ts ,也就是说小球的熔点低于块材的 熔点,并r越小,熔点降得越低。Pb在r=10-7cm时, Tm-Ts=150K。 实验表明,薄膜材料的熔点普遍低于它相应块材的熔 点。
1.2 表面效应---表面散射

表面散射 薄膜材料比表面很大,其表面对电子输运现象影响 巨大。 沿薄膜表面的电流密度由下式给出(见课本P2)
m jx 2e h
3

V
x
fdV
可以根据其在膜厚方向的平均值和电场的关系 求得薄膜的电导率为:(见课本P2)
3(1 p) L 1 8d
薄膜和基片
薄膜大多是沉积在某种基片上,薄膜和基片构成 一个复合体系,存在着相互作用。附着、扩散 和内应力是薄膜的固有特征。 薄膜的附着力与内应力是首先要研究的问题。

薄膜的定义及特性及其应用

薄膜的定义及特性及其应用
3
薄膜的制备技术
气相沉积法



本课程所要介绍的

制膜方法



溶液镀膜法
4
气相沉积法

物理气相沉积法 (PVD)




化学气相沉积法 (CVD)
真空蒸发镀膜法 溅射镀膜法 分子束外延镀膜法 激光蒸发镀膜法 离子镀膜法 离子束辅助沉积
APCVD LPCVD PECVD L-CVD 5
14
薄膜材料科学与技术研究内容
• 材料的制备工艺(合成)技术:如何使某 一物质(块状、液态等)能成为薄膜形状?
• 研究薄膜具有哪些新的特性(包括光、热、 电、磁力等),研究这些特性的物理本质。
• 如何把这些薄膜材料应用于各个领域,尤 其是用于高新科技领域。
15
薄 薄膜的形成过程

物 薄膜的结构与缺陷
• 薄膜电阻、薄膜电容、薄膜阻容网络与混合集成 电路:Ni-Cr(铬)系列低电阻率和Cr-SiO系列 高电阻率的金属膜电阻,以涤纶薄膜或聚丙烯薄 膜为基材(介质),以镀铝膜或镀锌膜为电极制 造的薄膜电容等。
• 薄膜太阳能电池:非晶硅、CuInSe2(硒)和 CdSe(镉)薄膜太阳电池。
19
• 平板显示器件:液晶显示、等离子体显示 和电致发光显示三大类平板显示器件所用 的透明导电电极(氧化铟锡薄膜)。
• 附着力:附着能对基片-薄膜间的距离微 分,微分最大值就是附着力。
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Ⅰ范德华力
• 是永久偶极子、感应偶极子之间的作用力以及其 他色散力的总称。
• 用范德华力成功地解释了许多附着现象。 • 设两个分子间的相互作用能为U,
U3aAaB • IAIB 2r6 IAIB

第1章-光学薄膜基础知识

第1章-光学薄膜基础知识

公元前468~376年
29
青岛大学物理科学学院
第1章 薄膜光学基础知识
国外:
《光学》——欧几里德
——比《墨经》 迟100年
平面镜成像 反射角=入射角
毕达哥拉斯、德漠克利特、柏拉图、 亚里士多德
十七世纪以前——罗马帝国的灭 亡——黑暗时代
培根——暗示过望远镜的可能性。
Euclid,公元 前330~275年
23
青岛大学物理科学学院
第1章 薄膜光学基础知识
有大气,看到太阳更早
没有大气,将迟一些看到太阳
24
青岛大学物理科学学院
海 市 蜃 楼
第1章 薄膜光学基础知识
光经过不均匀的大气时发生折射,
形成的虚像。
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青岛大学物理科学学院
海市蜃楼
第1章 薄膜光学基础知识
26
青岛大学物理科学学院
第1章 薄膜光学基础知识
新概念、新材料、新设计、新方法、新应用
10
青岛大学物理科学学院
第1章 薄膜光学基础知识
2、什么是薄膜光学?
➢ 薄膜可分成两大部分,第一部分是光学薄膜,第 二部分是光学波导及其相应器件;
➢ 前者的特点是光横穿过薄膜而进行传播;后者的 特征是光沿着平行薄膜界面的方向在膜内传播,
➢ 对于光学薄膜,在一块基片上淀积五、六十层膜 并非罕见,涂镀工艺是比较成熟的;
T=(0.97)7=80.7%.
未镀膜: T=(0.92)7=55.7%
➢ 这比没有经过镀膜处理的系统提高了约25%的透射能量
7
青岛大学物理科学学院
第1章 薄膜光学基础知识
➢ 20世纪中期:主要是在薄膜设备的改进与镀膜产 品种类以及质量的提高得到了发展,形成了典型 的减反射、高反射、滤光片等光学薄膜器件;

第一章 薄膜概述

第一章 薄膜概述

Year
1.2 薄膜的特性
1.2 薄膜的特性
1.2 薄膜的特性 •用料少,成本方面考虑 •新的效应 •新的材料 •容易实现多层膜 •薄膜和基片的粘附性 •薄膜的内应力 •缺陷
1.2 薄膜的特性
1.薄膜所用原料少,容易大面积化,而且可以
曲面加工。(研究和使用成本)
例:金箔、饰品、太阳能电池,GaN,SiC,
薄膜的制法多数属于非平衡状态的制取过程,薄膜的结构
不一定和相图相符合。
规定把与相图不相符合的结构称为异常结构,不过这是一 种准稳(亚稳)态结构,但由于固体的粘性大,实际上把 它看成稳态也是可以的,通过加热退火和长时间的放置还 会慢慢地变为稳定状态。 Diamond: 工业合成, 2000℃,5.5万大 气压, CVD生长薄膜: 常压,800度.
1.4 薄膜材料研究进展 (1)新型半导体薄膜:GaN,SiC,
ZnO,Diamond,GeSi,a-Si:H
改进工艺,降低成本,研究新的应用
(2)超硬薄膜:Diamond,c-BN,b-C3N4
BCN
(3)纳米薄膜材料
(4)超晶格和量子阱薄膜
(5)无机光电薄膜材料:III-V,II-V
1.4 薄膜材料研究进展
薄膜示例
1.1 薄膜的例子
薄膜示例
1.1 薄膜的例子
薄膜示例
1800 1600 1400 1200
Web of Science中题目以 thin film为检索词的文章数
Counts
1000 800 600 400 200 0 1988 1990 1992 1994 1996 1998 2000 2002 2004 2006 2008
1.3 薄膜的分类
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涂层
薄膜
厚膜
说明: 溶胶-凝胶(Sol-Gel)、金属有机物热分解 (MOD)、喷雾热解和喷雾水解等属于薄膜方法, 但从原理上更接近厚膜方法。
• 薄膜材料可用各种单质元素及无机化合物或有机材料来制 作薄膜,也可用固体、液体或气体物质来合成。 • 薄膜与块状物体一样,可以是单晶、多晶、微晶、纳米晶、 多层膜、超晶格膜等。 • Crystalline material is a material comprised of one or many crystals. In each crystal, atoms or ions show a long-range periodic arrangement. • Single crystal is a crystalline material that is made of only one crystal (there are no grain boundaries). • Grains are the crystals in a polycrystalline material. • Polycrystalline material is a material comprised of many crystals (as opposed to a single-crystal material that has only one crystal). • Grain boundaries are regions between grains of a polycrystalline material.
缺点:不能区分薄膜、厚膜、涂层、金属箔、层等概念。 thick film coating foil layer
三、定义3:
采用特定的制备方法在基板表面上生长得到的 一薄层固态物质 。 ●强调基板必不可少;
——区分薄膜与金属箔、塑料薄膜
●强调制备方法;
——区分薄膜与厚膜,厚度不是区分的关键 通常厚度:薄膜 < 1m ; 厚膜>10m
• 薄膜的生长模式可归纳为三种形式: • (1)岛状生长模式(Volmer-Weber模式): • 特点:到达衬底上的沉积原子首先凝聚成核, 后续飞来的沉积原子不断聚集在核附近,使 核在三维方向上不断长大而最终形成薄膜。 • 这种类型的生长一般在衬底晶格和沉积膜晶 格不相匹配时出现,大部分的薄膜的形成过 程属于这种类型。 • 成膜初期按三维形核方式,生长为一个个孤 立的岛,再由岛合并成薄膜。例如SiO2基片 上的Au薄膜。这一生长模式表明,当沉积物 中的原子或分子彼此间的结合较之与基片的 结合强很多时(即被沉积物质与衬底之间的 浸润性较差),就会出现这种生长模式。在 绝缘体、卤化物晶体、石墨、云母基片上沉 积金属时,大多数显示出这一生长模式。
随着科技工作的不断发展和深入,薄膜领域也在不断扩展,不同的应用领域对 薄膜的厚度有不同要求。所以有时把厚度为几十微米的膜层也称为薄膜。通常 是几个纳米到几十个微米,这也就是薄膜物理所研究的范围。
●薄膜(thin film):由物理气相沉积(PVD)、化学 气相沉积(CVD)、溶液镀膜法等薄膜技术制备的薄 层。 ●厚膜(thick film):由涂覆在基板表面的悬浮液、 膏状物经干燥、煅烧而形成。 主要方法:丝网印刷(Print)、热喷涂(Spray) 历史:陶瓷表面上釉
• (2)层状生长模式(Frank-van der Merwe模式): • 特点:沉积原子在衬底的表面以单原子层的形式均匀地覆 盖一层,然后再在三维方向上生长第二层、第三层┅┅ • 一般在衬底原子与沉积原子之间的键能接近于沉积原子相 互之间键能的情况下发生这种生长方式的生长。 • 从成膜初期开始,一直按二维层状生长,例如Si基片上的 Si薄膜。当被沉积物质与衬底之间浸润性很好时,被沉积 物质的原子更倾向于与衬底原子键合。因此,薄膜从形核 阶段开始即采取二维扩展模式。在这一生长模式中,原子 或分子之间的结合要弱于原子或分子与基片的结合。这一 生长模式的最重要的例子是半导体膜的单晶生长。
Vacuum Atom
定义1的特点:
●强调了薄膜生长的机理与过程
Substrate
●仅仅适用于薄膜的气相生长方法,而不适用于液相法 ●也不能描述扩散、注入方法 ●强调了薄膜的生长必须依附基板
二、定义2(广义):
夹在两个平行平面间的薄层。 上平面:空气 固体膜、液体膜 下平面:固体表面、液体 薄膜生长的四个阶段 • a)成核:在此期间形成许多小的晶核,按统计规 律分布在基片表面上; • b)晶核长大并形成较大的岛:这些岛常具有小晶 体的形状; • c)岛与岛之间聚接形成含有空沟道的网络; • d)沟道被填充:在薄膜的生长过程中,当晶核一 旦形成并达到一定尺寸之后,另外再撞击的离子 不会形成新的晶核,而是依附在已有的晶核上或 已经形成的岛上。分离的晶核或岛逐渐长大彼此 结合便形成薄膜。
第一章
薄膜及其特性
1.1 薄膜的几种定义
薄膜材料的概念:采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)的 基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质, 这层新物质就是薄膜。
一、定义1(狭义):
由单个的原子、离子、原子 团无规则地入射到基板表面, 经表面附着、迁徙、凝结、 Thin Film 成核、核生长等过程而形成 的一薄层固态物质。
• 1.2 薄膜的生长模式
• 薄膜的形成过程一般可分为凝结过程、核形成与长大过程、岛形成与 生长结合过程。射向基板及薄膜表面的原子、分子与表面相碰撞,其 中一部分被反射,另一部分在表面停留。停留于表面的原子、分子, 在自身所带能量及其基板温度所对应的能量作用下,发生表面扩散 (surface diffusion)及表面迁移(surface migration),一部分再蒸发, 脱离表面,一部分落入势能谷底,被表面吸附,即发生凝结过程。凝 结伴随着晶核形成与生长过程,岛形成、合并与生长过程,最后形成 连续的薄膜。
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