光刻机照明系统专利分析

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ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｉｆｅｌｄｗｅｒｅｄｉｓｃｏｖｅｄ．Ｉｔｉｎｄｉｃａｔｅｓｔｈａｔｔｈｅｔｏｐ４ｐａｔｅｎｔｅｅｓａｒｅＡＳＭＬ，Ｎｉｋｏｎ，Ｃａｎｏｎ，ａｎｄ
ＺＨＡＮＧＨａｉｂｏ，ＬＩＮＷｕｍｅｉ，ＸＩＮＧＴｉｎｇｗｅｎ，ＬＩＡＯＺｈｉｊｉｅ，ＦＥＮＧＪｉａｎｍｅｉ
（ＩｎｓｔｉｔｕｔｅＯｆｏｐｔｉｃｓａｎｄＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｃｈｅｎｇｄｕ６１０２０９，Ｃｈｉｎａ）
Ｚｅｉｓｓｏｒｄｅｒｌｙ；ｐａｔｅｎｔｓｄｉｓｔｒｕｂｉｔｉｏｎｏｆＩＰＣａｒｅＨ０１Ｌ／２１／０２，Ｈ０１Ｌ／２０／２７，ａｎｄＧ０３Ｆ／０７／２０；ａｎｄｔｈｅｎｉｎ
Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｉｎｏｒｄｅｒｔｏａｎａｌｙｓｉｓｔｈｅｈｏｔｐｏｉｎｔｏｆｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｄｅｖｅｌｏｐｉｎｇａｎｄｍａｋｅｔｒａｃｋｓｆｏｒｉｍｐｒｏｔａｎｔ
关键词：光刻机；照明系统；专利分析；专利统计中图分类号：Ｎ１８文献标识码：Ａ文章编号：１００４．４５０７（２０１４ பைடு நூலகம் ０８ — ０００１．０８
ＬｉｔｈｏｇｒａｐｈｙＩｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎＰａｔｅｎｔＡｎａｌｙｓｉｓ
析，分别从专利权人分布、国际专利分类号分布、专利申请国分布和年度发展趋势及技术生命周
期等几个方面进行统计分析。揭示了国内外光刻机照明系统专利申请的主要专利权人依次为阿
斯麦、尼康、佳能和蔡司．专利文件分布的主要技术领域为半导体器件和其部件的制造处理等方面，专利文件的年度申请在２００４年出现最高峰．之后开始下降，并结合技术生命周期曲线图，指
ｐａｔｅｎｔｓ ’ Ｓｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｒｏｕｔｅ，ａｎｄｍａｋｅｓｕｇｇｅｓｔｉｏｎｓｆｏｒｓｃｉｅｎｔｉｓｔ，Ｐａｔｅｎｔｓｏｎｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎｓｙｓｔｅｍｏｆｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｗｅｒｅａｎａｌｉｚｅｄｓｔａｔｉｓｔｉｃｌｌｙ，ｔｈｅｎａｎａｌｙｓｉｓｔｈｅｄａｔａ．Ａｎａｌｙｓｉｓｉｎｇｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆｐａｔｅｎｔｅｅ，ｉｎｔｅｒｍｓｏｆｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆＩＰＣ，ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎｏｆｐａｔｅｎｔｓａｐｐｌｉａｔｉｏｎｃｏｕｎｔｒｙ，ａｓｗｅｌｌａｓｙｅａｒｌｙｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｃａｌｄｅｖｅｌｏｐｉｎｇｔｒｅｎｄ，Ｔｈｅｃｕｒｒｅｎｔｓｔａｍｓａｎｄｔｅｃｈｎｏｌｏｙｔｇｒｅｎｄｏｎｐａｔｅｎｔｓｉｎｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎｓｙｓｔｅｍｏｆ
光刻机照明系统专利分析
张海波，林妩媚，廖志杰，白瑜，冯建美，邢廷文
（中国科学院光电技术研究所，四川成都６１０２０９）
摘要：为了解光刻机照明系统的技术发展方向和技术研究热点及技术成熟度，并为科研人员提供技术参考，对光刻机照明系统技术专利文献进行了检索．并对专利文献数据进行了统计分
出光刻机照明系统技术已经历了从萌芽、发展、成熟阶段。同时进行了重要专利文件的挖掘，分析
了技术研究热点，追踪核心专利文件的技术发展脉络：并对偏振照明技术作出技术一功效矩阵分
析图，分析出技术研究热点，并提出我国科研人员应利用未在我国进行保护的重要专利技术，为我国企业提出了专利申请的相关建议．节省研发时间