离子束溅射生长非晶Si薄膜的研究
合集下载
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
离子束溅射生长非晶Si薄膜的研究
邓书康;陈刚;高立刚;陈亮;俞帆;方静华;杨宇
【期刊名称】《功能材料》
【年(卷),期】2004(035)0z1
【摘要】用离子束溅射法制备了不同衬底温度的非晶硅(a-Si)薄膜,用双四探针法测量了不同温度下的电阻率,用喇曼散射及原子力显微镜表征了薄膜显微结构.结果发现随着衬底温度的升高,薄膜的电阻率逐渐增大,衬底温度为室温的a-Si薄膜质量较好且从其表面形貌可观察到少量Si晶粒的存在.
【总页数】3页(P1116-1118)
【作者】邓书康;陈刚;高立刚;陈亮;俞帆;方静华;杨宇
【作者单位】云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091;云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091;云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091;云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091;云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091;云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091;云南大学,化学与材料工程系,云南,昆明,650091
【正文语种】中文
【中图分类】TN21
【相关文献】
1.离子束溅射Si薄膜的低温晶化生长 [J], 宋超;杨瑞东;冯林永;杨宇
2.双离子束溅射制备非晶SiOxNy薄膜的强黄光发射 [J], 瞿发俊;徐华;吴雪梅;诸
葛兰剑
3.Si(111)衬底上离子束溅射沉积法生长β-FeSi2薄膜的研究 [J], 李强;王海燕
4.利用甲烷—硅烷高能离子束的非晶SixC1—x薄膜的生长 [J], 马兵
5.双离子束溅射非晶SiOxNy薄膜的光致发光研究 [J], 成珏飞
因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。