答案黄光蚀刻工段培训试卷

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黄光课员工理论试卷
姓名:得分:
一、填空题:(40分,2分/空)
1.蚀刻作业前应先查看水;电;气;是否正常。

参考蚀刻SOP 规定流程的要求作业;
2.蚀刻配槽循环后20min 开机;
3.DES包括显影、蚀刻、脱膜;
4.蚀刻使用的滤芯规格(um)包括两种分别是水洗滤芯、蚀刻滤芯;水洗槽使用 1 um、药水槽使用10 um;
5.CM610温度30 ;CM9463温度44 ;CM6001温度45 ;
6.CU材使用的显影液名称CM610 的配比4% ,PH范围≥10.6 ;脱膜名称CM6001 的配比15% 、PH范围≥10.4 ;蚀刻1名称CM9300 、算当量范围0.25 -0.75 ;H202不能低于80g/L ;蚀刻2名称CM9400 ;算当量范围0.2-0.6 ;
7.防酸化材料,蚀刻2使用的药水名称CM9463 ;
8.一道生产,显影液300 M/次;.生产第二道产品显影150 M/次。

9.Cu材CM9300 15 天/次;CM6001 7 天/次;CM9400 30 天/次; CM722 2 天/次;纯水当班/次;
防酸化CM9463 700 M/次;
10.集渣槽200 M/次;脱膜滤筒共2组前使用钢丝网;的500 um;滤袋,后使用300 um,滤袋;450 M/次;
二、判断题:(10分,2分/题)
1.蚀刻做首件过程中应单手拿材料。

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2.蚀刻生产过程中添加系统可以不开。

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3.覆膜时戴好手套的双手碰到可视区域不会影响到品质。

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4.蚀刻收放料机台滚轮需保持干净无异物,若有异物,及时清洁擦拭。

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5.蚀刻温度没有到达设置的温度可以开机生产。

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三、多项选择题:(10分,2分/题)
1.造成显影不开有哪些:(ABD )
A、显影液浓度过低
B、设计的线宽太小,解析不开
C、曝光能量过低
D、速度太快
2.造成脱膜不净有哪些:(A BCD )
A、曝光能量过高
B、脱膜浓度低
C、脱膜压力低,
D、纯水不纯
3.造成材料过蚀有哪些(ABCD )
A、干膜过期,溢胶
B、药水温度过高
C、蚀刻速度慢
D、喷洒不均匀
4.造成残铜有哪些(ABCD )
A、菲林透光
B、材料赃物
C、H202浓度过低
D、显影不开
5.造成设备停机主要原因(ABC )
A、药水低于L ,LL液时无人处理,
B、材料卡板
C、收放卷机马达异常
D、药水温度过高
四、简答题:(40分,10分/题)
1.简述造成批量性残铜,断线不绝缘的主要原因,各列举至少五项?
1.造成残铜主要原因:
1.菲林透光划伤;材料氧化;H202浓度过低;材料赃物异物;显影不开;
2.断线----曝光异物;压膜产生气泡;滚轮划伤;药水过蚀;曝光对位偏移导致蚀刻断线。

3.不绝缘----显影不开;脱膜不净产生的残铜;温度过低,ITO蚀刻不净,速度太快造成ITO蚀刻不掉;药水喷洒不均匀。

2.简述在蚀刻生产过程出现批量性异常如何处理,步骤?
3.简述上机前点检哪些项目,列举至少六项?
4.简述自己每天的工作内容及需填写的表单和填写内容?。

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