半导体行业用水标准
工业用水标准
工业用水标准电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水出水电导率≤10μS/CM的纯净水，白酒生产用纯水，啤酒生产用纯水等，生产制造出水电导率≤5μS/CM的电镀用纯水设备、蓄电池用水设备、镀膜玻璃钢纯水设备、生产制造出水电导率0.110μS/CM的导电玻璃制造用水，实验室用超纯水。
生产出水电阻率在5-10MΩ.CM的锂电池、蓄电池生产用水，10~15MΩ.CM的电镀用水，光学材料清洗用水等等，生产制造电阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料锅炉用软化水、敏感新材料用水、半导体材料生产用水、尖端金属材料用水等。
半导体纯水规格
半导体纯水规格半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体纯水规格通常包括以下方面：1. 电导率（或电阻率）：电导率是衡量水中离子导电能力的一个重要指标，电阻率则是电导率的倒数。
半导体工业中，超纯水的电导率通常要求在0.1μS/cm以下，甚至更低。
2. 总有机碳（TOC）：有机物是微生物和化学物质的来源，可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求总有机碳含量极低，一般在10ppb 以下。
3. 颗粒物：水中颗粒物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用过滤器等设备来去除水中的颗粒物。
一般要求超纯水中的颗粒物含量在1ppb 以下。
4. 金属离子：金属离子如铜、铁、锌等可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求金属离子含量极低，一般在1ppt以下。
5. 酸碱度：酸碱度是衡量水溶液酸碱性的指标。
半导体工业中，超纯水的酸碱度通常要求在pH 5-8之间。
6. 微生物：水中微生物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用紫外线消毒等设备来灭菌。
一般要求超纯水中的微生物含量在1个/ml以下。
7. 其他指标：除了上述主要指标外，半导体纯水规格还包括硅、氯离子、硫酸根等其他指标的要求。
具体指标可能会因不同的生产工艺和产品类型而有所不同。
总的来说，半导体纯水需要具备极高的纯度和洁净度，以保障半导体制造过程中的质量和稳定性。
实验室一级水二级水三级水标准
实验室一级水二级水三级水标准摘要：一、一级水标准概述二、二级水标准概述三、三级水标准概述四、实验室用水应用场景及选择方法五、水质量对实验结果的影响六、提高实验室用水质量的策略正文：实验室一级水、二级水和三级水标准是对实验室用水质量的不同要求。
了解这些标准对于保证实验结果的准确性和可靠性至关重要。
本文将介绍一级、二级和三级水标准，并探讨如何在实验室中正确选择和使用合适的水质。
一、一级水标准概述一级水，又称超纯水，是指水中杂质含量极低的水。
一级水主要用于高度敏感的实验，如蛋白质纯化、高精度分析仪器和半导体制造等。
一级水的制备方法主要有反渗透、离子交换和蒸馏等。
二、二级水标准概述二级水，又称纯水，是指水中杂质含量较低的水。
二级水适用于一般实验室的常规实验，如普通化学分析、生物学实验和药品生产等。
二级水的制备方法主要有反渗透和蒸馏等。
三、三级水标准概述三级水，又称去离子水，是指水中主要离子含量较低的水。
三级水适用于一般实验室的实验，如水质分析、电化学实验和实验室清洁等。
三级水的制备方法主要有离子交换和反渗透等。
四、实验室用水应用场景及选择方法在实验室中，根据实验需求和水质要求，选择合适的水质至关重要。
一级水适用于高精度分析和高度敏感实验；二级水适用于一般实验室的常规实验；三级水适用于一般实验室的实验和清洁。
在选择实验室用水时，应根据实验要求、设备性能和水资源成本等因素进行综合考虑。
五、水质量对实验结果的影响水质量对实验结果具有重要影响。
低质量的水可能导致实验误差增大、仪器损坏和实验失败等问题。
因此，实验室应重视用水质量的控制，确保实验结果的准确性和可靠性。
六、提高实验室用水质量的策略提高实验室用水质量的方法有以下几点：1.选择合适的净水设备，如反渗透装置、离子交换器和蒸馏器等。
2.定期对水质进行检测，确保水质达标。
3.建立实验室用水管理体系，加强用水管理和监督。
4.培训实验室人员，提高用水知识和技能。
5.选择正规的水源供应商，确保水质稳定。
半导体机能水
半导体机能水
半导体机能水是一种具有卓越纯度的超纯水，其电阻率高达18MΩ*cm以上，甚至接近18.3MΩ*cm的极限值（在25℃时）。
这种水经过了多道处理工序，每一道工序都是为了确保水的纯度。
预处理阶段，通过砂滤、活性炭过滤等手段，初步去除水中的悬浮物、胶体和有机物。
接下来是复床和混床处理，这两个阶段通过离子交换树脂的吸附作用，将水中的阴阳离子几乎完全去除，使得水的电导率极低。
最后是抛光处理，使用特殊的方法进一步降低水的电导率，使其达到超纯水的标准。
半导体机能水的纯度极高，几乎不含任何杂质，因此它在电子制造领域具有不可替代的作用。
在硅片、半导体材料、晶元材料的清洗过程中，只有高纯度的水才能确保清洗效果，避免因杂质残留而导致的性能下降或成品率降低。
此外，半导体机能水还广泛应用于芯片生产过程中的化学处理环节。
在芯片生产线上，几乎每一个工艺步骤都需要用到超纯水。
这是因为超纯水能够提供稳定、可靠的清洗和化学反应条件，确保芯片的品质和性能。
总之，半导体机能水作为电子制造中的重要资源，其高纯度、低杂质的特点对于保证电子产品的性能和成品率具有至关重要的作用。
为了满足半导体行业对水质日益严格的要求，必须采用先进的超纯水设备来制备高品质的半导体机能水。
半导体行业用水标准
半导体行业用水标准集团标准化工作小组 #Q8QGGQT-GX8G08Q8-GNQGJ8-MHHGN#电子行业水质标准1.电子工业与超纯水在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质 M Ω.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤μm,而且≥μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。
电子级水国家标准:详见表3、超纯水中杂质的污染源制备超纯水的水源由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
材料的影响:制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。
材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表各种材料的污染值(TOC 的溶出值)4水的电阻值在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。
根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。
3747-2020半导体行业污染物排放标准
半导体行业污染物排放标准1 范围本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准限值、监测要求、达标判定、实施与监督。
本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理，以及半导体企业排污许可管理、建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。
半导体企业与污水集中处理设施采用协商方式确定企业水污染物间接排放限值时，污水集中处理设施的水污染物排放管理也适用于本标准。
2 规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。
凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。
凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB 3095 环境空气质量标准GB 3838 地表水环境质量标准GB/T 6920 水质pH值的测定玻璃电极法GB/T 7466 水质总铬的测定GB/T 7467 水质六价铬的测定二苯碳酰二肼分光光度法GB/T 7470 水质铅的测定双硫腙分光光度法GB/T 7471 水质镉的测定双硫腙分光光度法GB/T 7475 水质铜、锌、铅、镉的测定原子吸收分光光度法GB/T 7484 水质氟化物的测定离子选择电极法GB/T 7485 水质总砷的测定二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法GB/T 7494 水质阴离子表面活性剂的测定亚甲蓝分光光度法GB 8978 污水综合排放标准GB/T 11893 水质总磷的测定钼酸铵分光光度法GB/T 11901 水质悬浮物的测定重量法GB/T 11907 水质银的测定火焰原子吸收分光光度法GB/T 11910 水质镍的测定丁二酮肟分光光度法GB/T 11912 水质镍的测定火焰原子吸收分光光度法GB 13271 锅炉大气污染物排放标准GB/T 15432 环境空气总悬浮颗粒物的测定重量法GB/T 15516 空气质量甲醛的测定乙酰丙酮分光光度法GB/T 16157 固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法GB/T 16489 水质硫化物的测定亚甲基蓝分光光度法HJ/T 27 固定污染源排气中氯化氢的测定硫氰酸汞分光光度法HJ/T 28 固定污染源排气中氰化氢的测定异烟酸-吡唑啉酮分光光度法HJ/T 30 固定污染源排气中氯气的测定甲基橙分光光度法HJ 38 固定污染源废气总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定气相色谱法HJ/T 42 固定污染源排气中氮氧化物的测定紫外分光光度法HJ/T 43 固定污染源排气中氮氧化物的测定盐酸萘乙二胺分光光度法HJ/T 55 大气污染物无组织排放监测技术导则HJ/T 60 水质硫化物的测定碘量法HJ/T 65 大气固定污染源锡的测定石墨炉原子吸收分光光度法HJ/T 67 大气固定污染源氟化物的测定离子选择电极法HJ 75 固定污染源烟气（SO2、NO x、颗粒物）排放连续监测技术规范HJ 76 固定污染源烟气（SO2、NO x、颗粒物）排放连续监测系统技术要求及检测方法HJ 84 水质无机阴离子的测定离子色谱法HJ/T 91 地表水和污水监测技术规范HJ/T 195 水质氨氮的测定气相分子吸收光谱法HJ/T 199 水质总氮的测定气相分子吸收光谱法HJ/T 200 水质硫化物的测定气相分子吸收光谱法HJ/T 397 固定源废气监测技术规范HJ/T 399 水质化学需氧量的测定快速消解分光光度法HJ 484 水质氰化物的测定容量法和分光光度法HJ 485 水质铜的测定二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法HJ 486 水质铜的测定2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法HJ 487 水质氟化物的测定茜素磺酸锆目视比色法HJ 488 水质氟化物的测定氟试剂分光光度法HJ 489 水质银的测定3,5-Br2-PADAP分光光度HJ 490 水质银的测定镉试剂2B分光光度法HJ 493 水质采样样品的保存和管理技术规定HJ 494 水质采样技术指导HJ 495 水质采样方案设计技术指导HJ 501 水质总有机碳的测定燃烧氧化-非分散红外吸收法HJ 533 环境空气和废气氨的测定纳氏试剂分光光度法HJ 534 环境空气氨的测定次氯酸钠-水杨酸分光光度法HJ 535 水质氨氮的测定纳氏试剂分光光度法HJ 536 水质氨氮的测定水杨酸分光光度法HJ 537 水质氨氮的测定蒸馏-中和滴定法HJ 544 固定污染源废气硫酸雾的测定离子色谱法HJ 548 固定污染源废气氯化氢的测定硝酸银容量法HJ 549 环境空气和废气氯化氢的测定离子色谱法HJ 604 环境空气总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定直接进样-气相色谱法HJ 636 水质总氮的测定碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法HJ 637 水质石油类和动植物油的测定红外分光光度法HJ 644 环境空气挥发性有机物的测定吸附管采样-热脱附/气相色谱-质谱法HJ 657 空气和废气颗粒物中铅等金属元素的测定电感耦合等离子体质谱HJ 659 水质氰化物等的测定真空检测管-电子比色法HJ 665 水质氨氮的测定连续流动-水杨酸分光光度法HJ 666 水质氨氮的测定流动注射-水杨酸分光光度法HJ 667 水质总氮的测定连续流动-盐酸萘乙二胺分光光度法HJ 668 水质总氮的测定流动注射-盐酸萘乙二胺分光光度法HJ 670 水质磷酸盐和总磷的测定连续流动-钼酸铵分光光度法HJ 671 水质总磷的测定流动注射-钼酸铵分光光度法HJ 683 环境空气醛、酮类化合物的测定高效液相色谱法HJ 692 固定污染源废气氮氧化物的测定非分散红外吸收法HJ 693 固定污染源废气氮氧化物的测定定电位电解法HJ 694 水质汞、砷、硒、铋和锑的测定原子荧光法HJ 700 水质65 种元素的测定电感耦合等离子体质谱法HJ 732 固定污染源废弃挥发性有机物的采样气袋法HJ 734 固定污染物源废气挥发性有机物的测定固相吸附-热脱附/气相色谱-质谱法HJ 759 环境空气挥发性有机物的测定罐采样/气相色谱-质谱法HJ 776 水质32种元素的测定电感耦合等离子体发射光谱法HJ 777 空气和废气颗粒物中金属元素的测定电感耦合等离子体发射光谱法HJ 828 水质化学需氧量的测定重铬酸盐法HJ 836 固定污染源废气低浓度颗粒物的测定重量法HJ 908 水质六价铬的测定流动注射-二苯碳酰二肼光度法HJ 955 环境空气氟化物的测定滤膜采样/氟离子选择电极法HJ 970 水质石油类的测定紫外分光光度法《污染源自动监控管理办法》（国家环境保护总局令第28号）《环境监测管理办法》（国家环境保护总局令第39号）3 术语和定义下列术语和定义适用于本标准。
一般工业水的水质标准
一般工业水的水质标准1. 悬浮物悬浮物是指水中不可沉降的固体物质，其存在会干扰水流的透明度，影响水质的视觉判断。
一般工业用水中，悬浮物的含量应控制在50mg/L以下。
2. pH值pH值是衡量水酸碱性的指标。
在工业生产过程中，不同的工艺可能对水质有特定的pH值要求。
一般而言，pH值应在6.5至8.5之间，以避免对设备和管道的腐蚀。
3. 硬度水的硬度是指水中钙离子和镁离子的含量。
硬度过高的水在加热或蒸发时可能形成沉淀物，影响产品质量。
一般工业用水的硬度应低于150ppm（以碳酸钙计）。
4. 总溶解固体总溶解固体是指水中所有溶解性物质的总量，包括可溶性盐类、气体等。
过高的总溶解固体可能会影响工艺过程的效率和产品质量。
一般工业用水的总溶解固体应低于500ppm。
5. 电导率电导率是衡量水中导电能力的指标，与水的纯度有关。
在半导体工业等领域，对水的电导率有较高的要求。
一般工业用水的电导率应低于100μS/cm。
6. 氯化物氯化物是指水中氯离子的含量。
过高的氯化物含量可能会引起设备的腐蚀和管道的堵塞。
一般工业用水的氯化物应低于200ppm。
7. 硫酸盐硫酸盐是指水中硫酸根离子的含量。
过高的硫酸盐含量可能会影响产品的质量和设备的运行。
一般工业用水的硫酸盐应低于150ppm。
8. 铁、锰等金属离子铁、锰等金属离子可能会引起水质的颜色变化和沉淀物的形成。
在某些对水质有较高要求的工艺中，这些金属离子的含量需要严格控制。
一般情况下，这些金属离子的含量应低于1.0ppm。
9. 氨氮、亚硝酸盐等有机物氨氮、亚硝酸盐等有机物是水体中常见的污染物质，可能引起水质恶化并影响生产过程。
在一般工业用水中，这些有机物的含量应低于相应的排放标准。
10. 余氯余氯是指加氯消毒后水中剩余的氯量。
在某些对水质有特殊要求的工艺中，余氯的含量需要严格控制，以避免对设备和管道的氧化腐蚀。
一般工业用水的余氯应低于0.5ppm。
半导体行业用水标准
半导体行业用水标准Company Document number：WUUT-WUUY-WBBGB-BWYTT-1982GT电子行业水质标准1.电子工业与超纯水在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质 M Ω.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤μm,而且≥μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。
电子级水国家标准:详见表3、超纯水中杂质的污染源制备超纯水的水源由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
材料的影响:制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。
材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表各种材料的污染值(TOC 的溶出值)4水的电阻值在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。
根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。
晶圆制造及半导体制造业放流水标准对照表
晶圓製造及半導體製造業放流水標準總說明鑒於現行放流水標準雖已規範晶圓製造及半導體製造業(以下簡稱半導體業)共同適用項目與化學需氧量、懸浮固體等管制項目，惟尚無法充分反映半導體業之廢水污染特性。
考量近年來我國高科技產業蓬勃發展，其製程用藥多元複雜，廢水水質特性差異大，經多年調查及研究，分析國內外管制現況、處理技術及經濟可行性，於廣納各界意見後，爰依水污染防治法第七條第二項授權規定，訂定「晶圓製造及半導體製造業放流水標準」（以下簡稱本標準），以妥善管制該業別廢水排放品質。
本標準訂定管制項目包括水溫、氫離子濃度指數、氟鹽、硝酸鹽氮、氨氮、正磷酸鹽、酚類、陰離子介面活性劑、氰化物、油脂、溶解性鐵、溶解性錳、鎘、鉛、總鉻、六價鉻、總汞、銅、鋅、銀、鎳、硒、砷、硼、硫化物、化學需氧量、懸浮固體和總毒性有機物，共計二十八種管制項目。
相關管制項目除總毒性有機物外，其限值均與現行放流水標準中晶圓製造及半導體製造業限值同，惟考量半導體產業氟系廢水特性，予以管制氟鹽，將複合離子納入。
本標準增訂總毒性有機物及水源水質水量保護區(以下簡稱保護區)以外之氨氮項目，以符合產業廢水特性。
新設事業之氨氮管制方式依其廢(污)水排放是否位於保護區分別訂定限值，其中排放於保護區內適用一○mg/L之限值，而排放於保護區外之限值為二○mg/L。
另考量既有事業緩衝期因應，採兩階段管制，第一階段限值為七十五mg/L，自一百零一年七月一日施行，如需進行工程等改善措施者，得提出放流水污染物削減管理計畫，經核定並依計畫內容執行者，其管制自一百零二年七月一日施行；第二階段限值為三○mg/L，自一百零四年七月一日施行，給予較長時間供既設事業進行具體廢水處理設施改善。
施行日期除既設事業氨氮有兩階段的施行外，其餘項目均自發布日生效。
本標準共計十條，其要點如下：一、法源依據。
（第一條）二、專用名詞之定義。
（第二條）三、本標準適用對象。
（第三條）四、本標準管制項目及限值。
半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理
半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理2019年9月19日半导体行业的生产对水质要求非常严格，半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合行业用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺预处理→UF系统→一级反渗透→PH调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM)半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。
它的用水要求必须是超纯水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用，已经得到广泛认可。
下面莱特莱德小编来为大家分享半导体生产用超纯水设备工艺流程：原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点半导体生产用超纯水设备工作原理超纯水装置供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。
半导体生产用超纯水备工艺1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)半导体生产用超纯水备特点1、选用高性能离子交换树脂，工作交换容量大，能耗低，使用寿命长。
半导体行业用水标准
电子行业水质标准1.电子工业与超纯水在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质18.3 MΩ.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达0.1 微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤0.05μm,而且≥0.05μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。
2.1 电子级水国家标准:详见表2.13、超纯水中杂质的污染源3.1 制备超纯水的水源由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
3.2 材料的影响:制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。
材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表3.2 分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表3.2 各种材料的污染值(TOC 的溶出值)4水的电阻值在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。
根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。
sasb标准对应的指标 半导体行业
sasb标准对应的指标半导体行业SASB（Sustainability Accounting Standards Board）是一个致力于推动可持续会计标准的组织，它制定了一套行业标准，以帮助企业在可持续性报告中揭示他们在环境、社会和治理（ESG）方面的表现。
对于半导体行业而言，SASB为其制定了一系列的指标，以评估该行业在可持续性方面的表现。
下面将对这些指标进行详细介绍。
1. GE1301-01：气候变化影响这一指标要求半导体公司报告他们的温室气体排放情况，包括直接排放和间接排放。
同时，该指标要求企业评估其对气候变化的脆弱性，以及采取的应对措施。
2. GE1301-02：能源利用管理这一指标要求半导体公司报告其能源消耗情况，包括电力和燃料消耗。
同时，该指标指示企业评估其能源管理策略，包括能源效率提升措施是否得到应用。
3. GE1302-01：水资源管理这一指标要求半导体公司报告其水资源利用情况，包括水消耗量和水质管理。
企业还需要评估并报告其水资源管理策略，包括节水措施和水循环利用。
4. GE1303-01：化学品管理这一指标要求半导体公司报告其化学品使用情况，包括用于生产和制造过程中的化学品。
企业需描述其化学品管理策略，包括化学品替代和减少有害化学品的使用。
5. GE1304-01：废弃物和污染物管理这一指标要求半导体公司报告其废弃物和污染物的产生情况，包括有害废物和固体废弃物。
企业需报告其废弃物管理策略，包括废弃物减量和安全处理。
6. LA1301-01：劳动标准这一指标要求半导体公司报告其雇佣情况，包括员工数量、雇佣结构和雇佣合同类型。
企业需评估和报告其劳动政策，包括工时管理、工资政策和员工福利计划。
7. HR1302-01：员工健康与安全这一指标要求半导体公司报告其员工健康与安全管理情况，包括事故率、职业病发生率和安全培训覆盖率。
企业需评估并报告其员工健康与安全管理策略，包括风险评估和事故预防措施。
半导体行业含氟废水排放标准
半导体行业含氟废水排放标准
半导体行业的废水排放标准通常受到国家或地区的法规和标准的约束。
不同国家和地区的标准可能存在差异，因此在了解相关标准时，需要参考当地环保法规和标准。
以下是一般情况下可能涉及的半导体行业含氟废水排放标准的一些方面：
国家排放标准：不同国家对于半导体行业废水排放都有相应的国家排放标准。
这些标准通常由环保部门或类似机构颁布，规定了废水中各种污染物的限量要求，包括含氟废水。
行业规范：一些国家可能会有专门的行业协会或组织发布的半导体行业废水排放标准。
这些标准可能更为细化，更符合半导体制造的实际情况。
技术规范：半导体行业中常常有一些先进的技术和工艺，相关的技术规范可能对含氟废水排放也有具体的要求。
这些规范通常由行业内专业组织或研究机构发布。
环境影响评价：在一些国家，半导体企业在新建或改建时可能需要进行环境影响评价，这个过程中也会考虑废水排放的影响，并根据评价结果制定相应的排放标准。
需要注意的是，具体的标准和要求可能会根据企业的规模、技术水平、废水处理设施等情况而有所不同。
因此，企业在进行废水排放方面应当严格遵守当地相关法规和标准，并在需要的情况下进行监测和报告。
3562 半导体器件专用设备 用水定额
3562 半导体器件专用设备用水定额在文章中，如果涉及到半导体器件专用设备用水定额的话，建议先从解释半导体器件专用设备和用水定额的基本概念开始，然后深入探讨半导体制造过程中对水资源的需求、用水定额的重要性以及相关政策和措施等内容。
结合个人观点和理解进行分析和总结。
文章整体结构建议分为导言、正文和结尾三部分。
1. 导言介绍文章要探讨的主题，简要说明半导体器件专用设备和用水定额的重要性，引出本文要讨论的重点。
2. 正文2.1 半导体器件专用设备的概念和重要性首先要介绍半导体器件专用设备的定义、种类和作用，以及在半导体制造过程中的重要性和必要性。
2.2 用水定额的意义和作用解释用水定额的概念，以及在工业生产中的意义和作用，特别是在半导体器件制造过程中对水资源的需求，以及用水定额对保护水资源和可持续发展的重要性。
2.3 半导体器件制造过程中的用水需求深入探讨半导体器件制造过程中对水资源的需求情况，包括用水量、用水质量等方面的需求，以及对水资源的重要性和敏感性。
2.4 用水定额的相关政策和措施介绍相关政策和措施，包括政府对用水定额的监管和管理，以及企业的用水定额管理措施，以及在实践中的效果和问题等方面进行详细解释和讨论。
2.5 个人观点和理解结合以上内容，分享个人对半导体器件专用设备用水定额的理解和观点，包括对政策和措施的评价，以及未来发展方向和建议等。
3. 结尾回顾全文内容，总结半导体器件专用设备用水定额的重要性和必要性，强调水资源的保护和可持续利用的重要性，为读者留下深刻印象。
根据以上提纲，可以进行深度和广度兼具的分析和撰写。
文章需要结构清晰，逻辑严谨，用词准确，语言生动，既满足知识传授的要求，又能激发读者的兴趣，使读者能更深入地理解和思考所讨论的主题。
半导体器件专用设备用水定额的重要性正逐渐受到人们的重视。
半导体器件专用设备是指专门用于半导体器件生产加工的设备，包括晶圆设备、光刻设备、清洗设备等。
这些设备在半导体制造过程中起着至关重要的作用，对水资源的需求也非常大。
电子半导体行业用水工艺流程介绍
北京莱特莱德水处理设备有限公司
技术资料由北京处理提供 电子半导体行业用水工艺流程介绍
半导体行业是一个高能耗的行业，在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。
超纯水制造工艺中打破了传统的固定观念，将节能减排的理念充分应用到超纯水制造工艺中去。
半导体行业水质符合美国ASTM 标准 (18M Ω*cm ，15M Ω*cm ，2M Ω*cm 和0.5M Ω*cm 四级)，其处理工艺有：
预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
预处理-一级反渗透-加药机(PH 调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象
预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI 装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象
预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI 装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象。
工业用水标准
工业用水标准电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水出水电导率≤10μS/CM的纯净水，白酒生产用纯水，啤酒生产用纯水等，生产制造出水电导率≤5μS/CM的电镀用纯水设备、蓄电池用水设备、镀膜玻璃钢纯水设备、生产制造出水电导率0.110μS/CM的导电玻璃制造用水，实验室用超纯水。
生产出水电阻率在5-10MΩ.CM的锂电池、蓄电池生产用水，10~15MΩ.CM的电镀用水，光学材料清洗用水等等，生产制造电阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料锅炉用软化水、敏感新材料用水、半导体材料生产用水、尖端金属材料用水等。
上海半导体行业排放标准
上海半导体行业排放标准一、废水排放标准上海半导体行业废水排放应符合国家和地方相关法规和标准的要求。
具体来说，需要达到以下指标：1.水质：废水中各项污染物的浓度应符合《污水综合排放标准》（GB8978）以及地方相关标准的要求。
2.水量：废水排放量应符合相关法规和标准的要求，以及环保部门的规定。
二、废气排放标准上海半导体行业废气排放应符合国家和地方相关法规和标准的要求。
具体来说，需要达到以下指标：1.有害物质排放：废气中各项有害物质的浓度应符合《大气污染物综合排放标准》（GB16297）以及地方相关标准的要求。
2.烟尘排放：废气中烟尘的浓度和排放量应符合《大气污染物排放标准》（GB16297）以及地方相关标准的要求。
3.颗粒物排放：废气中颗粒物的浓度和排放量应符合《大气污染物综合排放标准》（GB16297）以及地方相关标准的要求。
4.无组织排放：对于无组织排放的废气，应采取有效措施进行治理和控制，确保排放量达到相关法规和标准的要求。
三、噪声污染排放标准上海半导体行业噪声污染排放应符合国家和地方相关法规和标准的要求。
具体来说，需要达到以下指标：1.声源：对于主要的噪声源，应采取有效措施进行治理和控制，确保噪声排放达到相关法规和标准的要求。
2.传播途径：对于无法从声源处进行治理的噪声，应采取措施控制传播途径，如设置隔音设施、合理规划厂区等。
3.接收点：在员工工作区域等接收点，应采取措施降低噪声污染，如佩戴耳塞、设置隔音玻璃等。
四、固废污染排放标准上海半导体行业固废污染排放应符合国家和地方相关法规和标准的要求。
具体来说，需要达到以下指标：1.分类处理：固废应按照性质和来源进行分类收集和处理，避免混杂和污染。
2.资源化利用：对于有资源利用价值的固废，应进行资源化利用，如废塑料、废金属等。
3.无害化处理：对于不能进行资源化利用的固废，应采取无害化处理措施，如焚烧、填埋等。
工业蒸馏水的分类标准
工业蒸馏水的分类标准工业蒸馏水是指通过蒸馏技术处理而得到的水，其主要用途是用于工业生产中的各种用水需求。
根据不同的分类标准，工业蒸馏水可以分为以下几种。
一、按照水质等级分类1. 一级蒸馏水：也称为超纯水，其纯度高达99.999%以上，主要用于半导体、电子、光学等高科技领域。
2. 二级蒸馏水：也称为纯水，其纯度在99.9%以上，主要用于制药、化工、电镀等行业。
3. 三级蒸馏水：也称为去离子水，其纯度在99%以上，主要用于电力、冶金、纺织等行业。
4. 四级蒸馏水：也称为普通蒸馏水，其纯度在95%以上，主要用于一般工业生产中的用水需求。
二、按照蒸馏方式分类1. 热力蒸馏水：是指通过加热水使其蒸发，再通过冷凝器将蒸汽冷凝成水的蒸馏方式。
这种方式适用于处理大量水的情况。
2. 蒸发蒸馏水：是指将水加热至沸点，使其蒸发，再通过冷凝器将蒸汽冷凝成水的蒸馏方式。
这种方式适用于处理浓度较高的水。
3. 气体蒸馏水：是指通过将水蒸气与其他气体混合，再通过分离器将水蒸气分离出来的蒸馏方式。
这种方式适用于处理含有易挥发物质的水。
三、按照用途分类1. 锅炉给水：是指用于锅炉的补给水，要求水质纯净，不含杂质和溶解气体。
2. 冷却水：是指用于冷却设备的水，要求水质清洁，不含杂质和微生物。
3. 洗涤水：是指用于清洗设备和工件的水，要求水质清洁，不含杂质和沉淀物。
4. 制药水：是指用于制药工业的水，要求水质纯净，不含杂质和微生物。
工业蒸馏水的分类标准有很多，不同的分类标准适用于不同的场合和用途。
在实际应用中，需要根据具体情况选择合适的蒸馏方式和水质等级，以满足工业生产中的用水需求。
半导体工厂超纯水简报标准版资料
运行参数：出口压力为7bar，温 度为20-30℃。
迈博瑞生物膜技术南通
活性炭1过.三支滤，器内(部A填C充F/颗碳粒滤活性）炭。
2.此段过滤器分为正洗与反洗， 正反洗水都回收至废水池，产水 为过滤水。
用途：再次处理水中不能溶解的 悬浮颗粒和胶体杂物。 运行参数：产水量为200260m³/h，出口压力为6bar，温 度20-30℃。
2.达标产水进入RO水箱，不达标产水 进入过滤水箱，浓水进入废水池。 3.产水为反渗透水。
运行参数：产水水量为248m³/h，出 水压力为2bar，温度为21-30℃；浓水 水量为18m³/h，出水压力为2bar，温 度为24-30℃。
RO水1箱.水箱采用玻璃钢材质，并使用
氮气密封。 2.RO水箱有三组水泵输出 ，一组 UV供水，一组阴阳离子交换床冲 洗水，一组冷凝设备供水。
定期对混床进行再生，使用HCl和NaOH。
自来水由原水泵将低水抽有至C机UB物(中央含动量力厂。房)。
用途：全面去除水中的阴阳离子，电阻率由4mΩ/cm提升至17-18mΩ/cm。
运行参数：产水水量为185m³/h， 出口为6bar，温度21-30℃。
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紫外线杀菌设备（UV装置）
1.两组，一用一备，单组使用44跟紫外
出水为超纯水，进入超滤装置。
灯管。 运行在恒温5℃环境中。
纯水进入交换器，温度降低为5℃。 出水为纯水进入增压泵。
2.出水为反渗透产水。 ACF出水先经过CIX（阴离子桶）加HCl，后AIX（阴离子桶）加NaOH处理，CIX和AIX 可以单独运行。
半导体工厂超纯水简报
总 流 程
原水
1.自来水由原水泵将水抽至CUB( 中央动力厂房)。CUB是半导体 工厂的心脏，制程用的水电空调 化学品等一般都是从这里输出。
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电子行业水质标准
1.电子工业与超纯水
在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质18.3 MΩ.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达0.1 微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤0.05μm,而且≥0.05μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准
超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。
2.1 电子级水国家标准:详见表2.1
3、超纯水中杂质的污染源
3.1 制备超纯水的水源
由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
3.2 材料的影响:
制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。
材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表3.2 分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表3.2 各种材料的污染值(TOC 的溶出值)
4水的电阻值
在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。
根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。
因此，纯净的水电阻率很大，超纯水电阻率就更大。
水越纯，电阻率越大。
4.1水的电导率
由于水中含有各种溶解盐类，并以离子的形态存在，当水中插入一对电极时，通电之后，在电场的作用下，带电的离子就产生一定方向的移动，水中的阴离子移向阳极，阳离子移向阴极，使水溶液起导电作用。
水的导电能力的强弱程度，就称为电导度S（或称电导）。
电导度反映了水中含盐量的多少，是水的纯净程度的一个重要指标。
水越纯净，含盐量越少，电阻越大，电导度越小。
超纯水几乎不能导电。
电导的大小等于电阻值的倒数。
即S=1/R，S=(1/ρ)·(F/L)。
1/ρ就称为电导率，其国际制单位为西·米-1(S·m-1)
理论上,水中由于水本身的电解作用而只存在两种离子即H+和OH-, 其浓度如下
[H+] = [OH-] = 10-7 eq/l (or 10-10 eq/ml)
这些浓度的离子经计算而得到理论的电导率为:
χ=0.055μS/cm 在25°C
电阻率为电导率的倒数,所以
R=18. 2MΩ.CM在25°C
电阻率的检测:电阻率在线测试仪(中科院半导体所参加起草制定)
电阻率是指在一定的温度下,边长1cm 的立方体水,其相对的两侧面之间的电阻,其单位是欧姆.厘米(Ω.cm)。
水的电导率是电阻率的倒数，单位是西门子/厘米（s/cm）。
4．3水的温度与电导率关系
影响水的电阻率值的因素很多,例如测量方法、电极方向、电容效应、极化效应、水的纯度、测量温度等。
超纯水的测量必须采用带温度补偿的仪器进行在线测试，而且定期到法定机构计量校正。
温度校正是将测量的电阻率值换算到25℃时的电阻率值，以便于比较不同水质。
表4. 1 水的温度(t)、电导率K、电阻率及温度系数K 的关系
4.4 纯水的电导率象征水中有导电能力的各种可溶性的电解质的含量,因此,通过测量水的电导率值可以近似的换算成总溶解性固体,此法换算出来的总溶液解性固体值对水处理设计仍然是重要的参考数据。
表4. 2 水的电导率\电阻率与溶解性固体之间的关系
超纯水电阻率与温度的关系
电阻率
(兆欧.厘米) 温度(摄氏度)
01020304050607080900
10 20 30 40 50 60 70 80 90 100
CO2对超纯水的影响pH= 5.7
时间(分钟)
电阻率。