膜的制备与应用 ppt课件

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第六章 讲义薄膜的应用(2)

第六章 讲义薄膜的应用(2)

2. 有超强高温稳定性;因为该类材料的化学键结合 强,适合研 制高温发光器件;
3. InN和AlN等还能与GaN等合金化,形成多元半导 体材料; 例如:形成AlGaN、InGaN等,可以 改变合金的比例来调制多元半导体材料的带隙, 从而得到不同的发光波长。其中, AlGaN、GaN、 InGaN 相互间还能形成量子阱和超晶格结构,结 合掺杂工艺,可以制备特种光电子器件。
第六章 薄膜的应用(2)
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第六章 薄膜材料及其应用(2)
主要内容
三、纳米薄膜 四、三族元素氮化物薄膜 五、磁性氮化铁薄膜 六、巨磁和庞磁薄膜
三、纳米薄膜
纳米薄膜材料是晶粒尺寸在几纳米到几十纳米量级的多晶 体。它的性质与处于晶态和非晶态的同种材料有很大差异。 它处在原子簇和宏观物体交界的过渡区域。从通常的关于微 观和宏观的观点看,这样的系统既非典型的微观系统亦非典 型的宏观系统,是一种典型的介观系统。它有以下特点:
其它的Ⅲ-N族化合物半导体薄膜材料的制备已经成为 当前半导体新材料的研究热点,它是除Si、GaAs以外, 另一类重要的电子材料。至今,制备高质量的大尺寸 GaN薄膜依然非常困难。
微观粒子具有贯穿势垒能力的效应称为隧道效应。近年来, 人们发现一些宏观量,如微粒的磁化强度、量子相干器件中 的磁通量等也具有隧道效应,它们可以穿越宏观体系的势垒 而产生变化,故称之为宏观的量子隧道效应。它与量子尺寸 效应一起,确定了微电子器件进一步微型化的极限。
纳米材料可分为三种类型:
1. 某些维度减小到纳米尺度和某些尺度以纳米尺度颗粒、细 线、薄膜出现的材料;这类材料的应用如催化剂、人工周 期调制的光子晶体、量子阱、量子点等。
四、三族元素氮化物薄膜

第三章 膜材料和膜制备-2

第三章 膜材料和膜制备-2
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1 膜的性能表征-膜的物理化学稳定性
耐热性
与膜材料的选择是对应的
耐酸碱性
抗氧化性
抗微生物分解性
表面性质(荷电性或表面吸附性)
亲水/疏水性
机械强度
毒性
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1 膜的性能表征-膜的经济性
价格由膜材料和制造工艺两个方面决定。
适度的分离率、较高的通量、较好的物理 化学稳定性、无缺陷和便宜的价格。
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2 膜的改性--膜表面改性
膜材料表面化学改性:
高能辐照接枝法:高能辐射线引发单体聚合,称为辐照聚合。Γ-射线、 X-射线、β-射线、α-射线及中子射线。利用辐射能量,将膜材料表面产 生自由基,引发单体接枝聚合,把某些性能的基团或聚合物支链接到膜 材料的高分子链上。例如:对聚偏氟乙烯(PVDF)辐照,然后接枝乙烯 基单体,在进行磺化,使PVDF膜成为具有磺酸基团的超滤膜,结果其截 留率提高、亲水性增强、膜污染减轻。
➢ 结晶的变化和结晶形态的变化,是能否形成 微孔及微孔大小的决定因素。 ➢牵伸倍数和牵伸温度,对于形成微孔尺寸和 孔隙率是很重要的。
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微孔膜的制备⑵ 烧结法
将粉状聚合物或金属粉均匀加热,控制温度和压 力,使粉粒间存在一定空隙,只使粉粒的表面熔融但 并不全熔,从而相互粘结形成多孔的薄层或管状结构。 膜孔径的大小,由原料粉的粒度及浇结温度来控制。 此法多用于聚乙烯、聚四氟乙烯、金属粉末等膜材料。
微(多)孔膜:拉伸法,烧结法、核径迹 法、溶出法 相转化法:热凝胶法(TIP法)、沉淀凝胶法 (L-S法)
复合膜的制备
离子交换膜
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微孔膜的制备⑴ 拉伸法
形成半晶态聚合物是关键。当聚舍物处于半结晶状态,内部存在晶区和非晶区 时,两个区的力学性质是不同的,当聚合物受到拉伸力量,非晶区受到过度拉伸 致使局部断裂形成微孔,晶区则作为微孔区的骨架得以保存形成拉伸半晶体膜

薄膜的制备工艺ppt课件

薄膜的制备工艺ppt课件
➢ ⑤制备纳米结构薄膜材料; ➢ ⑥用料省,成本较低。
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2.3.2溶胶-凝胶方法制备薄膜工艺
有机途径
通过有机金属醇盐的水解与缩聚而形成溶 胶。在该工艺过程中,因涉及水和有机物, 所以通过这种途径制备的薄膜在干燥过程 中容易龟裂(由大量溶剂蒸发而产生的残 余应力所引起)。客观上限制了制备薄膜 的厚度。
① 由单个的 原子、离子、原 子团无规则地入 射到基板表面, 经表面附着、迁 徙、凝结、成核、 核生长等过程而 形成的一薄层固 态物质。
Vacuum Thin Film
Atom
Substrate
3
②夹在两个平行平面间的薄层。
上平面:空气
固体膜、液体膜
下平面:固体表面、液体表面、空气
4
③ 采用特定的制备方法在基板表面上生长得到的 一薄层固态物质 。
只要是气相沉积,其基本过程都包括三个步骤;
提供气相镀料;镀料向所镀制的工件(或基片) 输送;镀料沉积在基片上构成膜层。
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2.2.1金属有机化学气相沉积MOCVD
又称金属有机气相外延(Metal organic vapor phase epitaxy, MOVPE ),它是利用有机金属热分解进 行气相外延生长的先进技术,目前主要用于化合 物半导体(III-V簇、II-VI簇化合物)薄膜气相
光CVD、热丝CVD
化学镀(CBD)、电镀(ED)、溶胶-凝胶(Sol-
液 Gel)、金属有机物分解(MOD)、液相外 相 延(LPE)、水热法(hydrothermal 法 method)、喷雾热解(spray pyrolysis)、喷
雾水解(spray hydrolysis)、LB膜及自组装
(self-assemble)

第三章薄膜材料的制备

第三章薄膜材料的制备

(6) 特殊蒸发方法—化合物和合金材料

a.闪蒸蒸发 又称瞬间蒸发,把薄膜 材料做成细小颗粒或粉 末状,通过一定装置使 其以极小的流量逐渐进 入高温蒸发源。使每个 颗粒都在瞬间完全蒸发, 以保证薄膜的组分比例 与合金相同。
闪蒸蒸发设备示意图

b.多源蒸发 将合金薄膜所需的元素各 自置于单独的蒸发源中, 同时加热,并独立控制各 蒸发源的温度,以使薄膜 的组分比例满足合金要求。 要求各蒸发源参数能独立 控制和指示,蒸发源间分 隔开,避免相互污染。

六硼化镧薄膜的电子束蒸发法制备 基底选用玻璃和钽片, 使用的设备为南光H44500-3 型超高真空镀 膜机。基底固定在一个不锈钢底座上, e型电子枪为加工的块状 LaB6 , 用来代替原设备中的钨阴极, 试验装置的基本结构如图。 实验过程中冷阱中持续添加液氮, 真空度控制在8×105~3×10- 4Pa 之间, 电子束加速级电压控制在4500V 左右, 电 流为80mA, 蒸发时间为15min 。蒸发过程中通过控制电子束能 量来实现对多晶材料蒸发速率的控制, 通过蒸发时间来控制蒸发薄
一、薄膜和薄膜材料分类
1、薄膜材料的概念

采用一定方法,处于某种状态的一种或几种物质 (原材料)的基团(离子、原子或分子)以物理或 者化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表 面形成一层新的物质,这层新物质就称为薄膜。

简而言之,薄膜是由离子、原子或分子的沉积过 程形成的二维材料。
2、薄膜的基本特征
多源蒸发装置示意图

c.反应蒸发(属化学成膜) 把活性气体导入真空室,使活性气体的原子、分子与来自 蒸发源的原子、分子在衬底表面反应,生成所需化合物。 这种方法在制作高熔点 化合物薄膜时经常被采 用。 例如:在空气或氧气中 蒸发Si来制备SiO2薄膜

薄膜光学PPT课件

薄膜光学PPT课件
溶胶-凝胶法(Sol-Gel)
Sol-Gel是一种制备光学薄膜的新方法,具有工艺简单、成本低等优点。该方法制备的薄 膜具有纯度高、均匀性好等优点,可广泛应用于各种光学器件的制造。
在新能源和光电器件中的应用前景
太阳能光伏电池
光学薄膜在太阳能光伏电池中有着广泛的应用,如减反射膜、抗反射膜等。通过使用高性能的光学薄膜,可以提高光 伏电池的光电转换效率和稳定性。
散射类型
瑞利散射、米氏散射、拉 曼散射等。
散射强度
与波长、散射颗粒或分子 的尺寸、形状和折射率有 关。
光的吸收和反射
光的吸收
光波通过介质时,能量 被介质吸收转化为热能 或其他形式的能量的现
象。
吸收系数
表示介质对不同波长光 的吸收能力,与物质的
性质和浓度有关。
反射现象
光波在介质表面发生方 向改变的现象,可分为
光电探测器
在光电探测器中,光学薄膜可以起到保护、增强光信号的作用。高性能的光学薄膜可以提高探测器的响应速度、灵敏 度和稳定性。
激光器
在激光器中,光学薄膜可以起到调制激光输出、提高激光质量的作用。新型的光学薄膜材料和制备技术 可以推动激光器技术的发展,为新能源和光电器件的应用提供更广阔的前景。
THANKS
干涉仪测试的原理基于光的干涉现象,通过将待测薄膜放置在干涉仪中,与标准参 考膜片进行干涉,通过测量干涉图谱的变化来计算薄膜的光学常数。
分光光度计测试
分光光度计测试是一种通过测量 光的吸收光谱来分析物质的方法, 广泛应用于薄膜的光学性能测试。
分光光度计测试可以测量薄膜的 吸收光谱、反射光谱和透射光谱, 从而获得薄膜的折射率、反射率、
新型制备技术的探索
化学气相沉积(CVD)

《膜分离技术》PPT课件

《膜分离技术》PPT课件
蛋白质、无机盐
缓冲液
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无机盐
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2. 微 滤
以多孔薄膜为过滤介质,压力差为推动力,利用 筛分原理使不溶性粒子(0.1-10um)得以分离的 操作。操作压力0.05-0.5MPa。
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• 微滤应用 1) 除去水/溶液中的细菌和其它微粒; 2) 除去组织液、抗菌素、血清、血浆蛋白 质等多种溶液中的菌体; 3) 除去饮料、酒类、酱油、醋等食品中的 悬浊物、微生物和异味杂质。
F
精选ppt
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17.1 膜材料 与膜的制造
精选ppt
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膜材料的特性
• 对于不同种类的膜都有一个基本要求:
– 耐压:膜孔径小,要保持高通量就必须施加较高的压 力,一般膜操作的压力范围在0.1~0.5MPa,反渗透 膜的压力更高,约为1~10MPa
– 耐高温:高通量带来的温度升高和清洗的需要 – 耐酸碱:防止分离过程中,以及清洗过程中的水解; – 化学相容性:保持膜的稳定性; – 生物相容性:防止生物大分子的变性; – 成本低;
孔膜,其孔隙大小在电镜的分辨范围内。
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4完整性试验
• 本法用于试验膜和组件是 否完整或渗漏。
• 将超滤器保留液出口封闭, 透过液出口接上一倒置的 滴定管。自料液进口处通 入一定压力的压缩空气, 当达到稳态时,测定气泡 逸出速度,如大于规定值, 表示膜不合格。
× 保留液 出口封闭
压缩空气
• 透析过程中透析膜内无流体流动,溶质 以扩散的形式移动。
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透析原理图
大分子
透析膜 小分子
水分子
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透析法的应用
常用于除去蛋白或核酸样品中的盐、变性剂、还原剂之类 的小分子杂质,

膜与膜过程_第二章_膜材料与膜制备(3)

膜与膜过程_第二章_膜材料与膜制备(3)

① 平板膜
② 中空纤维膜

分湿纺丝法(干-湿纺丝法)、熔融纺丝法;干纺丝法。
③ 管式膜
聚合物管式膜不是自撑式,因此聚合物溶
液需刮涂在一种管状支撑材料上,如聚酯 无纺布或多孔碳管。
(2)蒸气相凝胶法
将聚合物和溶剂组成的刮涂薄层置于被溶
剂饱和的非溶剂蒸气气氛中。由于蒸气相 中溶剂浓度很高,故防止了溶剂从膜中挥 发出来。随着非溶剂渗入(扩散)到刮涂 的薄层中,膜便逐渐形成。利用这种方法 可以得到无皮层的多孔膜。用浸沉凝胶法 制备中空纤维膜(干-湿纺丝)时,常采用 蒸发步骤,此时溶剂与蒸气相非溶剂交换 而导致沉淀。
3、均质膜的制备
致密均质膜 一般是指结构最紧密的膜,孔径在1.5nm以 下,膜中的高分子以分子状态排列。有机 高分子的致密均质膜在实验室研究工作中 广泛用于表征膜材料的性质。 致密均质膜太厚,透量太小,一般较少实 际应用于工业生产。
(1)Biblioteka ① 溶液浇铸法将膜材料用适当的溶剂溶解,制成均匀的铸膜液, 将铸膜液倾倒在玻璃板上(一般经过严格选择的 平整玻璃板),用一特制的刮刀使之铺展成一具 有一定厚度的均匀薄层,然后移置到特定环境中 让溶剂完全挥发,最后形成一均匀薄膜。 铸膜液的浓度范围较宽,一般在15%~20% (w/w),铸膜液要有一定粘度;一般不用高沸 点溶剂。 脱溶剂过程中铸膜液上面的空气相对湿度、流动 状况等对膜的最终性质具有重大影响。

4、无机膜制备工艺
无机膜可分致密膜、多孔膜及复合非对称膜三种。 无机膜的制备方法与材料和种类、膜的结构及孔径 范围密切相关。有多种制膜工艺:悬浮粒子法、溶 胶-凝胶(Sol-gel)法、阳极氧化法、化学气相沉 积法(CVD)、分相法和水热合成法等。 致密膜为金属或固体电解质膜。钯等金属膜的主要 制备方法有电镀法、化学镀法、化学气相沉积法, 浇铸及辗压法以及物理气相沉积法。膜厚为几个微 米至几个毫米。氧化物致密膜常采用挤出和等静压 法成型,其制备过程包括粉料制备、成型和干燥烧 结三个基本步骤。

最新专家讲座膜科学技术应用、发展幻灯片课件

最新专家讲座膜科学技术应用、发展幻灯片课件

❖ 膜生物反应器污水处理技术 特点: ➢ 彻底除去水中的固体物质 ➢ COD、固体和营养物可以在一个单元内除去 ➢ 出水无须消毒 ➢ 高负荷率,能量利用率高 ➢ 氧利用率高 ➢模块化/升级改造容易
Wehrle Werk AG公司流程
膜生物反应器
工艺性能 ➢ 进水COD在15000mg/L以上时,COD几乎完全被 去除。 ➢ HRT(水力停留时间)
❖膜反渗透海水淡化
➢世界淡化水日产量3000万吨,世界人口1/50的地区靠淡 化水生存和发展。
➢沙 特 膜 法 海 水 淡 化 设 备 能 力 为 5.68 万 m3/d , 含 盐 量 43700mg/m3,脱盐率99.7% ➢生产成本4~5元/吨 ➢我国“十五”计划专项,总投资25亿元人民币建膜反渗 透海水淡化装置。
CH4,C2H6
CO2
膜法与传统方法比较
传统方法
设备庞大 投资高 运行费用大 海上天然气开采无法实现
膜法
占地少 投资省 成本低 可用于海上天然气开采
2. 体积能量密度低,(33.936 MJ/m3,为汽油的22%), 运输困难,——低成本转化成液体燃料(Gas To Liquid)
技术路线:
天然气 占总成本60% 合成气
➢我国七亿人饮用水大肠杆菌超标 ➢1.7亿人饮用有机物污染的水
解决的方法—采用微滤、超滤膜净化使之成合 格的引用水:
除去细菌 除去有机物:苯、苯酚、氯仿等 除去硫酸盐、亚硝酸盐 除重金属离子:Pd、Hg、Al、Fe、Mn等。
0.2mm陶瓷膜处理地表水前后的水质表
水质指标 浊度/NTU 有机物含量/mg(O2)L-1 Al/mgL-1 Fe/mgL-1 Mn/mgL-1 细菌(20oC, 37oC)

第一章 薄膜的制备

第一章 薄膜的制备
单位面积器壁碰撞的分子数,即气体分子的流 量J 为:
式中,n 为气体分子的密度;V 为分子的最可几速度;m 为 气体分子的质量;k是为玻尔兹曼常数,k=1.33×10-23 J/K; A 为阿伏加德罗常数;R 为普朗克常数;M为分子量。
真空蒸镀法-蒸发过程(蒸发分子动力学)
由于气相分子不断沉积于器壁及基片上,因此为保 持二者的平衡,凝固相不断向气相蒸发,若蒸发元 素的分子质量为m,则蒸发速度可用下式估算
真空蒸镀法-蒸发过程(蒸发分子动力学)
从蒸发源发出来的分子是否能全部达到基 片,尚与真空中存在的残留气体有关。
一般为了保证有80%-90%的蒸发元素到达 基片,则希望残留气体分子和蒸发元素气 体分子的混合气体的平均自由程是蒸发源 至基片距离的5-10 倍。
单选题 真空蒸镀法薄膜质量好坏的一个重要因素是
3) 吸附、成核与生长。通过粒子对衬底表面的 碰撞,衬底表面对粒子的吸附以及在表面的 迁移完成成核与生长过程。
原子层的晶体生长“世界”与自然世界的比拟
Natural World
“Atomic-World”
target
Cloud
Cloud Earth surface -- ground
Natural rain Snow Hail
蒸发源的加热方式
电阻加热法 电子束加热法 高频感应加热,电弧加热,激光加热法
电阻加热法 • 电阻作为蒸发源,通过电流受热后蒸发成膜。 • 使用的材料有:W、Mo、Nb、Ta及石墨等。
要考虑的因素:
蒸发源材料的熔点和蒸气压 蒸发源材料与薄膜材料的反应性 蒸发源材料与薄膜材料间的润湿性
真空蒸镀法 加热
蒸发粒子 的速度
溅射成膜 荷能粒子

第4章薄膜的制备

第4章薄膜的制备

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基片的清洗(1)
使用洗涤剂的清洗方法
去除基片表面油脂成分等的清洗方法.
首先在煮沸的洗涤剂中将基片浸泡10min 左右,随 后用流动水充分冲洗,再在乙醇中浸泡之后用干燥 机快速烘干。
基片经洗涤剂清洗以后,为防止人手油脂附着在基 片上,需用竹镊子等工具夹持。简便的清洗方法是 将纱布用洗涤液浸透,再用纱布充分擦洗基片表面, 随后如上所述对基片进行干燥处理。
不溶性杂物; ②必要时将玻璃放在热(T=70°C)的铬酸洗液(由等体积的浓
H2SO4 和饱和的K2Cr2O7 溶液配制)中清洗,由于铬酸洗液 具有强氧化性,可以除掉油污和有机物以及其它杂质。有时还 要用NH4F 溶液或HF 稀溶液浸泡玻璃,使之发生化学反应产 生新的玻璃表面; ③用水洗去铬酸洗液或氟化物溶液; ④洗干净的玻璃(洁净的玻璃板竖放时,应该任何一处都无油 花或水珠)再用去离子水洗涤; ⑤有时还要用无水乙醇清洗。
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4.1.3 基片的表面处理
基片表面长时间保持清洁是非常困难的。为使清洁 表面能连续保持几小时,要求10-7~10-8 Pa 的高真 空条件。
清洁处理被污染表面的典型方法是在高真空条件下 对基片加热脱气。
在基片不允许加热的情况下,在要求快速清洁处理 或要求修饰基片时,采用离子辐照、等离子体辐照 和电子辐射方法处理基片表面通常能收到较好的效 果。
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4.1.2 基片的清洗
薄膜基片的清洗方法应根据薄膜生长方法和 薄膜使用目的而定。这是因为基片的表面状 态严重影响基片上生长出的薄膜结构和薄膜 物理性质。
基片清洗方法一般分为去除基片表面上物理 附着的污物的清洗方法和去除化学附着的污 物的清洗方法。
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固态烧结法(Sintering Method)
❖ 将细微颗粒及超细颗粒(0.1-1μm)与适当溶 剂混合制成的成型生坯,在高温(10001600℃)下进行烧结处理。
❖ 特点:成熟,易于工业化,可同时制取多层 不对称的微孔膜。
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相分离-沥取法(Phase Seperation-leaching)
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液相分离(Liquid Phase Separation)
❖ 海水淡化 ❖ 饮料除菌 ❖ 污水处理 ❖ 药物萃取 ❖ 水中的油分的浓缩
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气体分离(Gas Separation)
❖ 空气分离出氧气或惰性气体 ❖ 天然气的脱水 ❖ 高温气体分离
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膜分离的基本流程图
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膜分离技术
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膜分离种类
❖ 微滤(microfiltration ) 0.2-1 mm ❖ 超滤(ultrafiltration )5 nm-0.2mm ❖ 纳滤(nanofiltration ) 0.5-5 nm ❖ 反渗透(reverse osmosis ) 0.2-0.3nm
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膜反应器(Membrane Reactor)
❖ 定义:具有选择性透过膜,并能同时进行反 应和分离的反应器。
❖ 例:用Al2O3膜可以是蔗糖转化成普糖糖的转 化率从50%增至100%
❖ 惰性膜反应器(多为多孔陶瓷或多孔玻璃) ❖ 催化膜反应器(具有催化和分离双重功能)
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膜反应器优越性
不能得到充分利用。
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商品化无机膜的几何结构
❖ 平板型:主要用于小规模的工业生产和实验 室实验;
❖ 管型:适合于组装成分离元件或膜反应器; ❖ 多通道型(蜂窝型):结构的单位体积膜面
积大,被更多地工业过程采用。
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基质膜制备方法
❖ 固态烧结法(Sintering Method) ❖ 相分离-沥取法(Phase Seperation-leaching) ❖ 阳极氧化法(Anodic oxidation) ❖ 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) ❖ 薄膜沉积法(Thin-Film Deposition)
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微滤(microfiltration )
❖ 微滤(MF) 又称微孔过滤,它属于精密过滤, 其基本原理是筛孔分离过程。0.2-1 mm
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超滤
❖ 超滤(UF) 是介于微滤和纳滤之间的一种膜过程, 膜孔径在5 nm-0.2mm 分子量之间。超滤是一种能 够将溶液进行净化、分离、浓缩的膜分离技术,超 滤过程通常可以理解成与膜孔径大小相关的筛分过 程。以膜两侧的压力差为驱动力,以超滤膜为过滤 介质,在一定的压力下,当水流过膜表面时,只允 许水及比膜孔径小的小分子物质通过,达到溶液的 净化、分离、浓缩的目的。
❖ 化学稳定性好,耐有机溶剂,耐酸碱,抗微生物 侵蚀。
❖ 机械强度大,担载无机膜可承受几十个大气压的 外压,并可反向冲洗。
❖ 净化操作简单、迅速,价格便宜,保存方便。
❖ 孔径分布窄,分离效率高。
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无机膜缺点
❖ 生产成本高,制造技术难度大。 ❖ 无机膜易发脆,给膜的成型加工及
组件装备带来一定的困难。 ❖ 膜器安装因密封的缘故,使其性能
是否会认为老师的教学方法需要改进? • 你所经历的课堂,是讲座式还是讨论式? • 教师的教鞭 • “不怕太阳晒,也不怕那风雨狂,只怕先生骂我
笨,没有学问无颜见爹娘 ……” • “太阳当空照,花儿对我笑,小鸟说早早早……”
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无机膜优点(与有机膜对比)
❖ 热稳定性好,耐高温,一般可以在400℃下使用, 最高可达800℃以上,不老化、寿命长。
❖ 对平衡限制的反应,膜反应器能够移动化学平衡,大大提高 反应的转化率
❖ 膜反应器有可能大大提高反应的选择性 ❖ 较低温度下,即可得较高转化率 ❖ 可能使产物分离、反应物净化及化学反应等几个单元在一个
膜反应器中进行,大大节省投资。 ❖ 由于能使反应在较低温度和压力下操作,节约能源
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等方法制得多孔质陶瓷膜及玻璃膜。一般来 说,CVD等方法只适合与制顶层功能分离膜, 不适合制基质膜。
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无机膜的主要应用
❖ 液相分离(Liquid Phase Separation) ❖ 气体分离(Gas Separation) ❖ 膜反应器(Membrane Reactor) ❖ 功能器件(Function Devices FD) ❖ 其他
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陶瓷膜的制备与应用 及膜分离技术简析
飞雾流雪
1
无机膜材料种类
Pd及Pd合金膜
致密膜
Ag膜
ZrO2膜



多孔金属膜
Al2O3膜
微孔膜
陶瓷膜
SiO2膜(玻璃膜) ZrO2膜
分子筛膜
TiO2
2如果老师最后没有总结一节课的重点的难点,你
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薄膜沉积法(Thin-Film Deposition)
❖ 薄膜沉积法借鉴传统物理镀膜方法,如在无 线电材料中的SiO2单晶膜。以多孔质过渡金
属或其合金,可利用沉积技术,如溅射 (Sputtering),离子镀(Ion Plating),金属 镀(Metal Plating)或化学气相沉积(CVD)
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溶胶-凝胶法(Sol-Gel)
❖ 1984年由荷兰Twente大学首先开发此项技术, 并成功地制备了Al2O3膜,继而美国、法国 、 日本开始此项技术研究。 Sol-Gel法从技术上又
可细分为分子聚合发(Polymerization of Molecular Units, PMU)和胶溶法(Destabilization of Colliod Solutions,DCS)
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阳极氧化法(Anodic oxidation)
❖ 以高纯度的金属铝箔为阳极,并使一侧面与 酸性电解质溶液(如草酸、硫酸、磷酸)接 触,通过电解作用在此表面上形成微孔氧化 铝膜,然后用适当方法除去未被氧化的铝基 体和阻挡层,便得到孔径均匀,孔道与膜平 面垂直的微孔Al2O3膜。
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