激光诱导化学气相沉积制膜技术
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激光诱导化学气相沉积制膜技术
葛柏青;王豫
【期刊名称】《安徽工业大学学报（自然科学版）》
【年(卷),期】2004(021)001
【摘要】综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向.阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点.分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响.
【总页数】5页(P7-10,22)
【作者】葛柏青;王豫
【作者单位】安徽工业大学,冶金与材料学院,安徽,马鞍山,243002;安徽工业大学,冶金与材料学院,安徽,马鞍山,243002
【正文语种】中文
【中图分类】TB43
【相关文献】
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