石英管内表面镀膜方法的研究

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用于管内壁镀膜的装置及方法[发明专利]

用于管内壁镀膜的装置及方法[发明专利]

(10)申请公布号(43)申请公布日 (21)申请号 201510362876.5(22)申请日 2015.06.26C23C 16/513(2006.01)(71)申请人核工业西南物理研究院地址610041 四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号申请人成都理工大学工程技术学院(72)发明人王坤 李建(74)专利代理机构核工业专利中心 11007代理人刘昕宇(54)发明名称用于管内壁镀膜的装置及方法(57)摘要本发明公开了一种用于管内壁镀膜的装置,包括电源和能够插入待镀管内的内电极,内电极为双层结构,内层为导电体,外层为介质层,使用状态下,内电极设置在待镀管内并连接至电源,待镀管由导电材料制成亦连接至电源,通电状态下,在内电极和待镀管之间产生介质阻挡放电,激励气体原料产生等离子体,实现薄膜沉积。

本发明还公开了采用上述用于管内壁镀膜的装置进行管内壁镀膜的方法。

本发明的用于管内壁镀膜的装置及方法,是采用表面带有介质层的内电极与导电的待镀管组成介质阻挡放电结构形式,使发明的装置可以在高气压、甚至在大气压下实现均匀放电,进而利用高频高电压电源激励产生均匀等离子体或相对均匀等离子体,实现金属管内壁薄膜沉积。

(51)Int.Cl.(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书1页 说明书3页 附图2页CN 106282973 A 2017.01.04C N 106282973A1.用于管内壁镀膜的装置,其特征在于:包括电源和能够插入待镀管(2)内的内电极(1),所述内电极(1)为双层结构,内层为导电体(11),外层为介质层(12),使用状态下,所述内电极(1)设置在所述待镀管(2)内并连接至所述电源,所述待镀管(2)由导电材料制成亦连接至所述电源,通电状态下,在所述内电极(1)和所述待镀管(2)之间产生介质阻挡放电,激励气体原料产生等离子体,实现薄膜沉积。

2.如权利要求1所述用于管内壁镀膜的装置,其特征在于:所述导电体(11)为石墨、金属或合金。

石英材料镀膜工艺流程

石英材料镀膜工艺流程

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镀膜均匀性分析

镀膜均匀性分析
严重漏气,如石英管裂开等,会造成,膜厚很厚,折射率很低。
真空查看
1.R&R本身自带的检漏测试,要求厂家设定开始压强5.0e-3mba,漏率不能超过 2.6e-3mba。这个要求还是非常高的,目前产线开始压强达不到,漏率几乎也都 不满足。
2.关腔不升温静态抽真空,目前工艺运行所需压强,一厂设置是4.0e-2mba,二 三厂设置真空度要高,很多时候产线没等降低到设定值就开始生产,初始的真空度 不高,腔体杂质含量要高,对开始生产还是有一定的影响。要是抽真空比较慢,一 般是漏气率比较高或泵的能力有问题。
O2进入腔体,造成折射率比较低。
杂质进入腔体,容易造成污染,效率会比较低。
漏气一般集中在腔体两侧,一般密封圈(包括腔门之间密封圈)、磁流体漏气。 如果进气管道缺损,也会造成漏气。
通过更换密封圈和打磨磁流体会有所改善。
密封圈
磁流 体
轻微漏气,一般是边缘漏气,膜厚相对要高一点,由于含有一层SIO2层。由 于多了一部分气体,腔体要保持压力,腔体气体抽的会多。如果大部分抽的是 SIH4,折射率会低,如果抽的大部分是NH3,折射率会变高,这要考虑到真 空气流分布和漏气的位置。一般工艺NH3处于过饱和状态,则折射率会低。
PECVD 均匀性分析
1. 情况分析 2.均匀性分析 3.预防
情况分析
目前PECVD均匀性是比较大的问题,会造成效率偏低、组件色差。 这里主要说明一下ROTH&RAU情况。 效率:均匀性比较差,会偏离工艺优化方向,效率会有降低。 组件:组件分为:122客户组件(对颜色要求比较高),常规组件,B类组件。 严重色差会降为B类组件。
微波源
微波源产生线性等离子体,结构如下:
目前存在问题主要是实际功率达不到设定值,反射功率过高。 一般会造成腔体两侧膜厚折射率不均匀。

石英玻璃表面化学镀镍_磷工艺研究_赵芳霞

石英玻璃表面化学镀镍_磷工艺研究_赵芳霞

石英玻璃表面化学镀镍2磷工艺研究3赵芳霞1,张振忠1,郭世德2(1.南京工业大学材料科学与工程学院,江苏南京210009;2.汉中江南压铸责任有限公司,陕西汉中723000)摘 要: 采用化学镀的方法解决电真空器件封接中的石英玻璃表面金属化问题。

利用金相显微分析、XRD 、SEM 和EDS 等分析手段,系统研究了化学镀前处理工艺和镀液成分、p H 值以及温度、施镀时间等工艺参数对镀速和镀层质量的影响规律。

结果表明:较好的石英玻璃镀前处理工艺流程为:清洗→除油→粗化→热处理→敏化→活化→热处理。

施镀工艺中,对化学镀镀速影响大小的顺序依次为:温度、镍磷比、柠檬酸钠浓度、p H 值,且各因素对镀速影响规律不同。

推荐较好的施镀工艺为:28g/L 硫酸镍,26g/L 次亚磷酸钠,30g/L 柠檬酸钠,15g/L 乙酸钠,0.001g/L PbCl 2,温度为70℃,p H 值为5.0。

关键词: 石英玻璃;化学镀;镍磷合金;金属化中图分类号: TQ153文献标识码:A 文章编号:100129731(2007)022*******1 引 言电真空器件的在宇航工业、能源、汽车工业、化学工业等领域有着极其重要的作用[1]。

电真空玻璃是制造电真空器件的主要材料之一,它广泛应用于真空电子技术、微电子技术、激光和红外技术、电光源、高能物理等方面[1,2]。

在制造电真空器件中,玻璃-金属封接是获得气密性好电真空器件的关键技术之一[3]。

由于玻璃脆性大,不能塑性变形,与金属性质差异大,为获得玻璃和金属的气密性封接,首先必须解决玻璃的金属化问题,而化学镀由于具有适用范围广,可在常用金属及经特殊处理的非导体和半导体材料表面沉积出金属或合金镀层等优点[4],有望解决此问题。

基于上述原因,研究玻璃表面化学镀镀Ni 2P 合金工艺,为今后的进一步实验研究和该技术的工业应用提供参考。

2 实验方法采用纯石英玻璃管作为化学镀基材。

化学镀镍磷的基本工艺流程为:镀前处理→施镀过程→后处理。

石英材料镀膜 氧化铪

石英材料镀膜 氧化铪

石英材料镀膜氧化铪石英材料镀膜氧化铪石英材料是一种常见的无机材料,具有优异的物理和化学性质,因此在各种领域得到广泛应用。

为了进一步提升其性能,常常需要对石英材料进行表面改性,其中一种常用的方法是通过镀膜技术来增加石英材料的功能性。

而氧化铪是一种常用的镀膜材料。

氧化铪作为一种高温材料,具有优异的耐热性、耐腐蚀性和机械强度。

它可以通过热蒸发、磁控溅射等方法在石英材料表面形成均匀、致密的氧化铪膜。

这种膜可以有效提高石英材料的硬度、耐磨性和化学稳定性,增强其抗高温、抗腐蚀和抗氧化性能。

石英材料镀膜氧化铪的过程可以分为准备、镀膜和后处理三个步骤。

首先,需要对石英材料进行表面清洗和预处理,以去除表面的杂质和污染物,提高膜的附着力。

清洗方法可以采用超声波清洗、酸洗或碱洗等。

接下来,将石英材料放入真空镀膜设备中,通过热蒸发或磁控溅射等技术将氧化铪材料蒸发或喷射到石英材料表面,形成氧化铪膜。

镀膜过程中需要控制温度、压力和镀膜速度等参数,以确保膜的均匀性和致密性。

最后,进行后处理,主要是对镀膜进行退火或氧化处理,以提高膜的结晶性和稳定性。

石英材料镀膜氧化铪可以赋予石英材料许多优良的性能。

首先,氧化铪膜可以提高石英材料的硬度和耐磨性,使其更加耐用和抗划伤。

其次,氧化铪膜具有良好的化学稳定性,能够抵抗酸、碱等腐蚀介质的侵蚀,延长石英材料的使用寿命。

此外,氧化铪膜还可以提高石英材料的抗高温性能,使其能够在高温环境下稳定工作。

此外,氧化铪膜还具有良好的光学性能,可以用于制备光学器件和光学涂层。

石英材料镀膜氧化铪在许多领域得到了广泛应用。

在电子行业中,石英材料镀膜氧化铪可以用于制备高温电子器件和集成电路。

在光学领域中,氧化铪膜可以用于制备光学滤波器、反射镜和透镜等光学元件。

在化工领域中,石英材料镀膜氧化铪可以用于制备耐酸碱介质的反应器和催化剂载体。

在航空航天领域中,氧化铪膜可以用于制备高温和耐腐蚀的航空发动机部件和航天器件。

石英管加热和厚膜加热

石英管加热和厚膜加热

石英管加热和厚膜加热石英管加热和厚膜加热是两种常见的加热方式,它们在不同的领域和应用中都有着广泛的应用。

本文将从原理、特点、优缺点等方面对这两种加热方式进行详细介绍。

一、石英管加热石英管加热是一种通过石英管将电热丝加热的方式。

石英管是一种高温、高强度、高透明度的材料,具有良好的耐热性和化学稳定性,因此被广泛应用于高温加热领域。

石英管加热的原理是将电热丝绕在石英管内部,通过通电使电热丝发热,从而将石英管加热。

石英管加热的特点是加热速度快、温度控制精度高、加热均匀、使用寿命长等。

由于石英管具有良好的透明度,因此可以观察到加热过程,方便控制加热温度和时间。

此外,石英管加热还具有较高的加热效率,能够将电能转化为热能,从而实现高效加热。

石英管加热的优点是加热速度快、温度控制精度高、加热均匀、使用寿命长等。

但是,石英管加热也存在一些缺点,如加热范围有限、加热温度受限、易受外界环境影响等。

二、厚膜加热厚膜加热是一种通过在基板表面涂覆厚膜电阻材料,通过通电使电阻材料发热,从而将基板加热的方式。

厚膜电阻材料是一种具有高电阻率的材料,如铂、钨、铬等,可以在基板表面形成一层电阻层,通过通电使电阻层发热,从而将基板加热。

厚膜加热的特点是加热范围广、加热温度高、加热均匀、使用寿命长等。

由于厚膜电阻材料可以在基板表面形成一层电阻层,因此可以实现对基板的全面加热,从而实现加热范围广。

此外,厚膜加热还具有较高的加热温度,可以实现高温加热,从而满足一些特殊应用的需求。

厚膜加热的优点是加热范围广、加热温度高、加热均匀、使用寿命长等。

但是,厚膜加热也存在一些缺点,如加热速度慢、温度控制精度低、加热效率低等。

石英管加热和厚膜加热都是常见的加热方式,它们在不同的领域和应用中都有着广泛的应用。

下面对这两种加热方式进行比较。

1. 加热范围石英管加热的加热范围相对较小,主要适用于局部加热。

而厚膜加热的加热范围较广,可以实现对基板的全面加热。

2. 加热温度石英管加热的加热温度相对较低,一般在1000℃以下。

镀膜实践总结报告

镀膜实践总结报告

镀膜实践总结报告1. 引言本报告旨在总结镀膜实践的经验和教训,并提出进一步改进实践的建议。

镀膜作为一种常用的表面处理技术,广泛应用于许多领域,如光学器件制造、电子元件制造等。

通过镀膜可以提高材料的耐腐蚀性、增加光学透过率等性能,因此对于提高产品质量具有重要意义。

2. 实践过程在镀膜实践中,我们按照以下步骤进行:2.1 材料准备首先,我们准备了需要进行镀膜的基材,及所需的镀膜材料。

基材的选择要根据实际需求和要求的性能来确定,镀膜材料也需要根据要达到的效果来选择。

2.2 表面准备在进行镀膜前,需要对基材的表面进行准备,以确保镀膜能够有效附着在基材上。

常见的表面准备方法包括清洗、打磨和去除氧化膜等。

2.3 镀膜过程镀膜过程是整个实践的核心环节,它通常包括以下几个步骤:1.准备镀膜设备:安装所需设备和材料,确保设备的正常运行。

2.准备镀膜液:按照配方将所需化学品按比例混合,并调整镀膜液的pH值和温度等参数。

3.镀膜操作:将基材浸入镀膜液中,通过电解或化学反应等方式,在基材表面形成一层薄膜。

4.清洗步骤:在完成镀膜后,需要对镀膜的基材进行清洗,以去除残留的镀膜液和杂质。

5.检测和评估:对镀膜薄膜进行必要的检测和评估,以确保其达到要求的性能和质量。

2.4 质量控制在整个实践过程中,我们需要进行严格的质量控制,以确保镀膜的质量和稳定性。

常用的质量控制方法包括镀膜厚度的测量、镀膜物理性能的测试、镀膜外观的检查等。

3. 实践经验总结通过镀膜实践,我们总结了以下几点经验:1.选择合适的基材和镀膜材料非常重要,需要根据实际需求来确定。

2.注意表面准备的细节,保证镀膜能够牢固附着在基材上。

3.控制好镀膜液的配方和参数,以确保薄膜的性能和质量。

4.进行严格的质量控制,及时发现和解决问题,确保镀膜的稳定性和一致性。

4. 改进建议基于本次实践的经验和教训,我们提出以下改进建议:1.在实践前,更加深入地了解镀膜的理论知识,以便更好地实施实践。

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