电过应力EOS

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微电子器件的可靠性 复旦大学材料科学系 6
P-N结的功率阈值(2)
最大允许功率PF与脉冲 宽度关系 tf : 1. PF tf-1 绝热区 2. PF tf-1/2 不完全绝 热 3. PF const 等功率 区
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Wunsch-Bell 公式
1968年Wunsch-Bell从一维线性热流动模型, 推导出平均功率密度,温度与时间的关系: Pav=(Cp)1/2(TmT0) t-1/2 以硅的熔点Tm=1415C,可计算硅器件Pav 与脉冲宽度间的关系 二极管Pav=560 t-1/2 三极管Pav=310 t -1/2 平均Pav=480 t -1/2 Pav的单位是KW/cm2, 时间t的单位是s .
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二次击穿的机理
正偏二次击穿: 热不稳定性模型 反偏二次击穿 基区夹紧效应
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NMOS 的二次击穿
NMOS 的二次击穿 是一种寄生三极管效应 。
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安全工作区
考虑了晶体管的最大工 作电流、最大耗散功率, 击穿电压和二次击穿 后, 器件的工作区域 定义为 安全工作区。 安全工作区的等功率线 和二次击穿线的位置 是与工作脉冲宽度有 关的 函数。
微电子器件的可靠性 Microelectronics Reliability
第十一章 电过应力 (EOS )
微电子器件的可靠性
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电过应力是引起器件失效的主要失效机理之一。 某空间计算机的失效器件中,有60-70% 是 电过应力引起的。
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1988年美国军用装备现场失效的 微电子器件失效分布
22000 15200
3020500 000 30000 20500 15000 10500 9000 6300
15
Cu
Ag 其它
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晶体管的击穿特性
晶 体 管 的 击 穿 电 压 有 以 下 几 种: 1. 发射极开路,集电极- 基极击穿电压 BVCBO; 2. 集电极开路,发射极- 基极击穿电压 BVEBO; 3. 基极开路, 集电极-发射极击穿电压 BVCEO; 4. 基极接地, 集电极-发射极击穿电压 BVCES ; 5. 发射极-基极反偏,集电极-发射极击穿电压 BVCEX; 6. 发射极-基极间接电阻R时,集电极-发射极击穿 电 压 BVCER。 BVCBO BVCES BVCER BVCEX BVCEO
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安全工作区
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晶体管的击穿特性曲线
在BVCBO 和 BVCEO 关系: BVCBO=BVCEO/(1+HFE)1/n
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二次击穿
二次击穿现象: 在晶体管的集电结处于反偏状 态下,继续增加电压,当到达 一定的电压、电流时,集电极 电压突然减小,降低到很低的 数值,结的动态电阻很小。 发生二次击穿后,若 外电路 没有限流的情况下,电流会很 大,导致器件因过热而损坏。
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金属内引线的阈值
美国军用标准 MIL-PRF-38535E 规定 直流恒定电流下,最大 电流I与其直径d的关系 I=kd2/3, 其中k是常数(与材料种 类、引线长度L有关)。 D 的单位是米。
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材料
K
L 0.1cm

L 0.1cm
Al
Au
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P-N结的功率阈值(1)
1.在单个脉冲功率下,将器件中有电流流
过的区域定义在(a.b.c.)区域内。脉冲电 流从表面ab平面流向内部。在开始时器 件温度为T0,该区域温度的变化可通过 热流方程来描述。 Cp(T/t)= H +(kT) 2.若器件最高允许温度TM是确定的,从解 微分方程式,就可得到不同脉冲宽度下, 器件的允许功率。
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二次击穿
二次击穿分为: 正偏二次击穿 负偏二次击穿。
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二次击穿的过程
1。P-N 结发生击穿; 2。P-N结电压由高压 区转移到低压区,该 低电压点称为维持电压; 3。电流以低的动态电 阻迅速增加; 4。器件因过电流、高 温而烧毁。
out
0.0014 0.105. 0.0743 0.0139
0.815 0.643 0.600 0.712
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二氧化硅薄膜的阈值
二氧化硅薄膜因热导率很低,会发生过热 而熔化,发生失效。 损坏能量E与脉冲宽度tD间的关系为: tD=2REln(VD/VBD)/(VV) 外加电压VD, 薄膜击穿电压VBD, 串联电阻 R,
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金属内引线的阈值
器件的内引线的散热途径有: 从两端键合点通过管座、内引线通过周围的空气或 塑封料散热。 因两端键合点的散热能力较强,当电流通过引线时, 两端键合点温度最低,而引线中央温度最高。
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金属内引线的阈值
内引线的熔融电路与金属丝的直径、丝的长度 等有关。
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集成电路的Pav
电路类型 集成电路的 TTL input Pav与脉冲宽度 output 间的关系可写为: Pav= AtB MOS input (A,B为常数) output 各种不同的器件 power 常数A,B也不同。 Liear inout A B 0.00216 0.089 0.00359 0.722 0.0546 4.483
失效原因
IC设计,制造,装配 EOS ESD阈 EOS\ESD
占百分率%
25 46 6 5
重测合格
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电过应力失效的类别
过热引起的烧毁、 晶体管的二次击穿(Second Breakdown SB) CMOS的闩锁效应(Latch-up) 静电放电(Electeo-Static Dicharge)
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微电子器件的功率阈值
1。 器件的温度达到半导体材料的本征激发温度
时,半导体材料发生本征激发,载流子数量激 增,器件失去它的正常性能。 2。温度达到金属化铝的熔点时会引起铝膜的熔 化、断裂 。 3。为保持微电子器件的性能正常,器件的温度 有它的极限,从功率来说,就有它的功率阈值。
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金属化的阈值
按Wunsch的估计为 P t-1 ~ t -1/2 P t -1/2 ~ t0
t ~ 1ms t ~100ms
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金属化的阈值
Al,Al-Si金属化最大脉冲电流与金属化厚度的关系
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