14nm工艺即将到来Intel Broadwell技术前瞻

14nm工艺即将到来Intel Broadwell技术前瞻
黄博文
【期刊名称】《微型计算机》
【年(卷),期】2014(000)028
【摘要】按照intel的Tick-Tock战略，2014年推出的BroadwelI将主要侧重于工艺进步，微结构上不会做出什么大幅度改动，只会做出一些小幅度的调优。

BroadwelI的微结构来自于它的前代Haswell，Haswell的设计重点是性能功耗比，IPC的绝对涨幅并不明显，在Broadwel身上，这种趋势也延续了下来。

所以关注单核心微结构的读者们恐怕要失望了，Broadwell大致上只是Haswell的14nm
工艺迁移版，IPC的涨幅估计比5％高不了太多，主要的性能变化将来自于电路层以下特别是工艺层的改良。

据报道lntel并不打算降低BroadwelI产品线的芯片频率，Broadwell大概只会在同频率上性能略微超出Haswell—点，但是同时功耗应该会有一个比较可观的降幅。

【总页数】5页(P104-108)
【作者】黄博文
【作者单位】不详
【正文语种】中文
【中图分类】TP332
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