离子束辅助沉积制备的铁锆多层膜中的相演化

离子束辅助沉积制备的铁锆多层膜中的相演化
丁珉;曾飞;潘峰
【期刊名称】《材料工程》
【年(卷),期】2000(000)004
【摘要】研究了用氩离子束辅助沉积(IBAD)技术制备的铁/锆多层膜中的微结构演化规律.实验中所使用的氩离子能量范围为4keV到12keV,束流密度为12
μA/cm2.实验结果表明,用IBAD技术可在富锆端制备出完全非晶化的薄膜.对于Fe(0.54nm)/Zr(4.5nm)多层膜,随Ar离子能量的增加,在薄膜中还观察到晶态-非晶-亚稳fcc相-非晶-晶态的结构转变.对于富铁合金膜,IBAD技术仅能制备部分非晶化的薄膜.
【总页数】4页(P19-21,48)
【作者】丁珉;曾飞;潘峰
【作者单位】清华大学材料科学与工程系,先进材料教育部重点实验室,北京100084;清华大学材料科学与工程系,先进材料教育部重点实验室,北京100084;清华大学材料科学与工程系,先进材料教育部重点实验室,北京100084
【正文语种】中文
【中图分类】O484
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