一种离型膜生产用涂布设备及其涂布工艺[发明专利]

(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910717160.0
(22)申请日 2019.08.05
(71)申请人 四川羽玺电子科技有限公司
地址 636600 四川省巴中市经济开发区工
业园区
(72)发明人 许显成　邓林　邬艺　姜鑫　
(74)专利代理机构 成都行之专利代理事务所
(普通合伙) 51220
代理人 张严芳
(51)Int.Cl.
B05C 1/08(2006.01)
B05C 11/10(2006.01)
(54)发明名称
一种离型膜生产用涂布设备及其涂布工艺
(57)摘要
本发明公开了一种离型膜生产用涂布设备
及其涂布工艺，解决了现有的涂布机将离型剂涂
覆在基材上时，由于设备和方法的原因存在涂覆
在基材上的离型剂厚度不均匀，从而影响离型膜
的性能的问题。

本发明包括涂布辊和盛装离型剂
的涂液槽，所述涂布辊包括上辊和下辊，所述上
辊和下辊通过轴安装在支架上，所述涂液槽包括
溢流槽、缓冲槽以及补液机构，所述溢流槽位于
所述缓冲槽中，所述溢流槽上设置有溢流孔，所
述下辊处于所述溢流槽中，所述补液机构与所述
溢流槽连接。

本发明具有设备简单，离型剂涂覆
均匀等优点。

权利要求书1页 说明书5页 附图2页CN 110369215 A 2019.10.25
C N 110369215
A
1.一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，包括涂布辊和盛装离型剂的涂液槽，所述涂布辊包括上辊(1)和下辊(2)，所述上辊(1)和下辊(2)通过轴安装在支架上，所述涂液槽包括溢流槽(3)、缓冲槽(4)以及补液机构，所述溢流槽(3)位于所述缓冲槽(4)中，所述溢流槽(3)上设置有溢流孔，所述下辊(2)处于所述溢流槽(3)中，所述补液机构与所述溢流槽
(3)连接。

2.根据权利要求1所述的一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，所述下辊(2)设置为从中间向两端直径逐渐减小的橄榄形结构。

3.根据权利要求1或2所述的一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，所述缓冲槽(4)设备为密闭槽，所述溢流孔处安装有单向阀(6)，所述单向阀(6)位于所述缓冲槽(4)的密闭空间内，所述溢流槽(3)的液位下还设置有进液口，所述进液口上设置有反向的单向阀二
(7)。

4.根据权利要求3所述的一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，所述单向阀二(7)位于所述溢流槽(3)的底部。

5.根据权利要求3所述的一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，所述单向阀二(7)上连接管道(8)，所述管道(8)的一端延伸至所述缓冲槽(4)的底部。

6.根据权利要求1、2、4或5任一项所述的一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，所述溢流槽(3)的上端设置盖板(9)，所述盖板(9)上设置显露所述下辊(2)的通孔。

7.根据权利要求1、2、4或5任一项所述的一种离型膜生产用涂布设备，其特征在于，所述缓冲槽(4)的顶部设置有液位计，所述液位计连接控制器，所述控制器与所述补液机构连接。

8.一种离型膜的涂布工艺，其特征在于，采用如权利要求1-7任一项所述的涂布设备，包括如下步骤：
步骤1：开启单向阀(6)和单向阀二(7)；
步骤2：在涂料槽中加入离型剂，使其达到溢流孔的位置；
步骤3：开启补液机构；
步骤4：开启涂布辊转动。

9.根据权利要求8所述的一种离型膜的涂布工艺，其特征在于，所述补液机构的补液速度与单向阀二(7)的补液速度大于等于所述单向阀(6)的溢流速度。

权　利　要　求　书1/1页CN 110369215 A
一种离型膜生产用涂布设备及其涂布工艺
技术领域
[0001]本发明涉及离型膜生产设备技术领域，具体涉及一种离型膜生产用涂布设备及其涂布工艺。

背景技术
[0002]离型膜是指薄膜表面能有区分的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性，通常情况下为了增加塑料薄膜的离型力，会将塑料薄膜做等离子处理，或涂氟处理，或涂硅(silicone)离型剂于薄膜材质的表层上，如PET、PE、OPP等等；让它对于各种不同的有机压感胶(如热融胶、亚克力胶和橡胶系的压感胶)可以表现出极轻且稳定的离型力。

根据不同所需离型膜离型力，隔离产品胶的粘性不同，离型力相对应调整，使之在剥离时达到极轻且稳定的离型力。

[0003]但是在众多的离型膜产品中，仍然是国外的产品占主导，主要因为其制备的离型膜性能好，其洁净度、平整性和抗静电等指标都达不到电子和模切等行业的使用要求。

而高端产品的需求则只能依靠进口，特别是在电子行业应用的离型膜，严重的制约了我国相关行业的发展，进口的离型膜价格高，供货周期长使得国内用户深受困扰。

[0004]影响离型膜性能的因素有很多，一方面来自于配方，另一方面来自于制备工艺和设备。

[0005]涂布是将离型剂涂覆在基材上的工艺，是影响离型膜性能的重要因素之一，其中涂布设备和涂布工艺的好坏直接影响离型膜层涂覆的均匀性，从而影响最终的使用性能，因此，有必要对如何提升离型剂在基材上涂布的均匀性进行改进。

发明内容
[0006]本发明所要解决的技术问题是：现有的涂布机将离型剂涂覆在基材上时，由于设备和方法的原因存在涂覆在基材上的离型剂厚度不均匀，从而影响离型膜的性能。

[0007]本发明提供了解决上述问题的一种离型膜生产用涂布设备。

[0008]本发明通过下述技术方案实现：
[0009]一种离型膜生产用涂布设备，包括涂布辊和盛装离型剂的涂液槽，所述涂布辊包括上辊和下辊，所述上辊和下辊通过轴安装在支架上，所述涂液槽包括溢流槽、缓冲槽以及补液机构，所述溢流槽位于所述缓冲槽中，所述溢流槽上设置有溢流孔，所述下辊处于所述溢流槽中，所述补液机构与所述溢流槽连接。

[0010]本发明通过下辊蘸取离型剂并通过上下辊的滚动实现在基材上进行离型剂的涂覆，考虑在下辊蘸取离型剂的过程中，随着离型剂的逐渐消耗，涂料槽中的离型剂量逐渐减少，下辊在涂料槽中的淹没深度会发生变化，这样在下辊转动将蘸取的离型剂运输到下辊顶部时，残留的离型剂量发生变化，从而导致涂覆在基材上的离型剂的厚度发生变化，使得前后段的基材上涂覆的离型剂厚度不同，为此，本发明通过设置溢流槽，溢流槽中的离型剂处于盛满的状态，保证下辊在溢流槽中离型剂中的深度始终不变，而多余的离型剂会通过
溢流孔流到缓冲槽中，这样在整个涂覆过程中，下辊蘸取的离型剂的量不变，从而保持前后段涂覆的离型剂的厚度不变，保证了离型膜的均匀性。

[0011]本发明优选一种离型膜生产用涂布设备，所述下辊设置为从中间向两端直径逐渐减小的橄榄形结构。

[0012]本发明考虑在基材厚度较小时，基材在导辊上会出现中间张力小两端张力大从而导致基材中间松两端紧绷的情况，在涂覆离型剂时，会使得中间间隙大两端间隙小，从而使得中间和两端的厚度不同，表现为中间厚，两端薄，为此，本发明改进了下辊的形状，中间直径大，两端直径小，在与上辊配合进行挤压涂覆时，对基材的中部有个增大张力的支撑力，修正离型剂在基材中部和两端厚度的不均匀性，另一方面，橄榄形结构的下辊在蘸取离型剂之后，随着下辊的转动将离型剂转动到与上辊配合涂覆的顶部时，由于中间向两端直径逐渐减小，形成一定的倾斜，离型剂会在中上部的时候从中间向两端流动，即从中间向两端的离型剂的残留量是逐渐减小的，涂覆在基材上的厚度也存在从中间向两端的逐渐减小，这也修正了由于两端张力大中间张力小带来的厚度不均匀性，但是对于橄榄形结构的下辊浸没在涂料槽中的深度提出了更高的要求，因为随着涂料槽中离型剂的消耗，下辊将蘸取的离型剂量减少而将其运输到顶部的距离增大，这就使得中间的离型剂向两端的流失加重，使得前后段涂覆的不均匀加重，因此，本发明要求设置溢流槽来保证下辊浸入溢流槽的深度不变，确保其对厚度的修正效果不变。

[0013]本发明优选一种离型膜生产用涂布设备，所述缓冲槽设备为密闭槽，所述溢流孔处安装有单向阀，所述单向阀位于所述缓冲槽的密闭空间内，所述溢流槽的液位下还设置有进液口，所述进液口上设置有反向的单向阀二。

[0014]本发明为了保证下辊浸入到溢流槽中的深度不变，使得溢流槽中的离型剂处于盛满的状态，而多余的离型剂会通过溢流孔流到缓冲槽中，为了实现流入缓冲槽中的离型剂的循环利用，同时在循环利用过程中起到搅拌保持离型剂均匀性的作用，本发明在溢流孔处设置单向阀，使得离型剂和气体只能从溢流槽向缓冲槽流动而不能反向流动，当补液机构向溢流槽中补液时，溢流槽中的离型剂会通过单向阀流入到缓冲槽中，由于缓冲槽为密闭槽，随着离型剂的流入，气体空间变小，当气压大到足够将单向阀二打开时，离型剂会从缓冲槽中回流至溢流槽中，从而对溢流槽进行补液，且会形成溢流槽和缓冲槽的离型剂的循环流动。

[0015]本发明优选一种离型膜生产用涂布设备，所述单向阀二位于所述溢流槽的底部。

[0016]本发明优选一种离型膜生产用涂布设备，所述单向阀二上连接管道，所述管道的一端延伸至所述缓冲槽的底部。

[0017]管道设置在缓冲槽的底部，可以在缓冲槽中离型剂量比较少的情况下，即实现循环，而将单向阀二设置在溢流槽的底部可以实现溢流槽中所有离型剂的循环使用。

[0018]本发明优选一种离型膜生产用涂布设备，所述溢流槽的上端设置盖板，所述盖板上设置显露所述下辊的通孔，所述盖板有利于减少离型剂与外界大气的接触面积，减小离型剂中的溶剂挥发。

[0019]本发明优选一种离型膜生产用涂布设备，所述缓冲槽的顶部设置有液位计，所述液位计连接控制器，所述控制器与所述补液机构连接。

[0020]所述控制器为PLC控制器，采用液位计监控缓冲槽中的离型剂存量，当缓冲槽装满
后，能通过PLC控制器控制补液机构停止补液，防止溢流槽中的离型剂溢出至涂料槽外。

[0021]进一步地，所述补液机构包括补液管和离型剂储槽，所述补液管与所述溢流槽连通。

[0022]一种离型膜的涂布工艺，包括如下步骤：
[0023]步骤1：开启单向阀和单向阀二；
[0024]步骤2：在涂料槽中加入离型剂，使其达到溢流孔的位置；
[0025]步骤3：开启补液机构；
[0026]步骤4：开启涂布辊转动。

[0027]本发明优选一种离型膜的涂布工艺，所述补液机构的补液速度与单向阀二的补液速度大于等于所述单向阀的溢流速度。

[0028]本发明优选一种离型膜的涂布工艺，还包括盖上盖体，以减少离型剂中溶剂的挥发。

[0029]本发明的涂布工艺主要在于保持涂料槽中液位的恒定。

[0030]本发明具有如下的有益效果：
[0031]1、本发明通过设置溢流槽并始终保持溢流槽中离型剂处于饱和状态，使得下辊在整个涂覆过程中浸没在溢流槽中的深度相同，不会因为浸没深度不同，使得在其顶部涂覆的离型剂厚度不同，从而有效减少涂覆厚度的不均匀。

[0032]2、本发明将下辊设置为从中间向两端直径逐渐减小的橄榄形结构，使得下辊在与上辊配合时能有效减少因为基材较薄其中间张力小带来的涂覆不均匀性问题。

[0033]3、本发明采用涂料槽的溢流功能和下辊的橄榄形结构配合，修正了由于基材中间张力小以及由于下辊在涂料槽中浸没深度变化带来的涂覆厚度不均匀性，提高了最终离型膜的均匀性。

附图说明
[0034]此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。

在附图中：
[0035]图1为本发明不带盖板的正视结构示意图。

[0036]图2为本发明带盖板的侧视结构示意图。

[0037]图3为本发明盖体结构示意图。

[0038]附图中标记及对应的零部件名称：
[0039]1-上辊，2-下辊，3-溢流槽，4-缓冲槽，5-补液管，6-单向阀，7-单向阀二，8-管道，9-盖板，10-轴通孔，11-下辊通孔。

具体实施方式
[0040]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。

[0041]实施例1
[0042]如图1和图2所示，一种离型膜生产用涂布设备，包括涂布辊和盛装离型剂的涂液
槽，所述涂布辊包括上辊1和下辊2，所述上辊1和下辊2通过轴安装在支架(附图未示出)上，所述涂液槽包括溢流槽3、缓冲槽4以及补液机构，所述溢流槽3位于所述缓冲槽4中，所述溢流槽3上设置有溢流孔，所述下辊2处于所述溢流槽3中，所述补液机构与所述溢流槽3连接。

[0043]本发明通过下辊2蘸取离型剂并通过上下辊2的滚动实现在基材上进行离型剂的涂覆，考虑在下辊2蘸取离型剂的过程中，随着离型剂的逐渐消耗，涂料槽中的离型剂量逐渐减少，下辊2在涂料槽中的淹没深度会发生变化，这样在下辊2转动将蘸取的离型剂运输到下辊2顶部时，残留的离型剂量发生变化，从而导致涂覆在基材上的离型剂的厚度发生变化，使得前后段的基材上涂覆的离型剂厚度不同，为此，本发明通过设置溢流槽3，溢流槽3中的离型剂处于盛满的状态，保证下辊2在溢流槽3中离型剂中的深度始终不变，而多余的离型剂会通过溢流孔流到缓冲槽4中，这样在整个涂覆过程中，下辊2蘸取的离型剂的量不变，从而保持前后段涂覆的离型剂的厚度不变，保证了离型膜的均匀性。

[0044]所述补液机构包括补液管5和离型剂储槽，所述补液管5与所述溢流槽3连通。

[0045]所述下辊2设置为从中间向两端直径逐渐减小的橄榄形结构。

[0046]本发明考虑在基材厚度较小时，基材在导辊上会出现中间张力小两端张力大从而导致基材中间松两端紧绷的情况，在涂覆离型剂时，会使得中间间隙大两端间隙小，从而使得中间和两端的厚度不同，表现为中间厚，两端薄，为此，本发明改进了下辊2的形状，中间直径大，两端直径小，在与上辊1配合进行挤压涂覆时，对基材的中部有个增大张力的支撑力，修正离型剂在基材中部和两端厚度的不均匀性，另一方面，橄榄形结构的下辊2在蘸取离型剂之后，随着下辊2的转动将离型剂转动到与上辊1配合涂覆的顶部时，由于中间向两端直径逐渐减小，形成一定的倾斜，离型剂会在中上部的时候从中间向两端流动，即从中间向两端的离型剂的残留量是逐渐减小的，涂覆在基材上的厚度也存在从中间向两端的逐渐减小，这也修正了由于两端张力大中间张力小带来的厚度不均匀性，但是对于橄榄形结构的下辊2浸没在涂料槽中的深度提出了更高的要求，因为随着涂料槽中离型剂的消耗，下辊2将蘸取的离型剂量减少而将其运输到顶部的距离增大，这就使得中间的离型剂向两端的流失加重，使得前后段涂覆的不均匀加重，因此，本发明要求设置溢流槽3来保证下辊2浸入溢流槽3的深度不变，确保其对厚度的修正效果不变。

[0047]所述缓冲槽4设备为密闭槽，所述溢流孔处安装有单向阀6，所述单向阀6位于所述缓冲槽4的密闭空间内，所述溢流槽3的液位下还设置有进液口，所述进液口上设置有反向的单向阀二7，所述单向阀6只允许离型剂从溢流槽3流向缓冲槽4，所述单向阀二7只允许离型剂从缓冲槽4流向溢流槽3。

[0048]所述缓冲槽4的底部还设置有阀门控制的排液口，在需要释放出缓冲槽4内部的液体时，可打开阀门排出。

[0049]本发明为了保证下辊2浸入到溢流槽3中的深度不变，使得溢流槽3中的离型剂处于盛满的状态，而多余的离型剂会通过溢流孔流到缓冲槽4中，为了实现流入缓冲槽4中的离型剂的循环利用，同时在循环利用过程中起到搅拌保持离型剂均匀性的作用，本发明在溢流孔处设置单向阀6，使得离型剂和气体只能从溢流槽3向缓冲槽4流动而不能反向流动，当补液机构向溢流槽3中补液时，溢流槽3中的离型剂会通过单向阀6流入到缓冲槽4中，由于缓冲槽4为密闭槽，随着离型剂的流入，气体空间变小，当气压大到足够将单向阀二7打开时，离型剂会从缓冲槽4中回流至溢流槽3中，从而对溢流槽3进行补液，且会形成溢流槽3和
缓冲槽4的离型剂的循环流动。

[0050]所述单向阀二7位于所述溢流槽3的底部。

[0051]所述单向阀二7上连接管道8，所述管道8的一端延伸至所述缓冲槽4的底部。

[0052]管道8设置在缓冲槽4的底部，可以在缓冲槽4中离型剂量比较少的情况下，即实现循环，而将单向阀二7设置在溢流槽3的底部可以实现溢流槽3中所有离型剂的循环使用。

[0053]实施例2
[0054]如图2和图3所示，本实施例与实施例1的区别在于，所述溢流槽3的上端设置盖板9，所述盖板9上设置显露所述下辊2的下辊通孔11，所述盖板9的两端设置轴能穿过的轴通孔10，所述盖板9有利于减少离型剂与外界大气的接触面积，减小离型剂中的溶剂挥发。

[0055]所述盖体和所述溢流槽3的上端扣接。

[0056]实施例3
[0057]本实施例与实施例2的区别在于，所述缓冲槽4的顶部设置有液位计，所述液位计连接控制器，所述控制器与所述补液机构连接。

[0058]所述控制器为PLC控制器，采用液位计监控缓冲槽4中的离型剂存量，当缓冲槽4装满后，能通过PLC控制器控制补液机构停止补液，防止溢流槽3中的离型剂溢出至涂料槽外。

[0059]实施例4
[0060]一种离型膜的涂布工艺，包括如下步骤：
[0061]步骤1：开启单向阀6和单向阀二7；
[0062]步骤2：在涂料槽中加入离型剂，使其达到溢流孔的位置；
[0063]步骤3：开启补液机构；
[0064]步骤4：开启涂布辊转动。

[0065]所述补液机构的补液速度与单向阀二7的补液速度大于等于所述单向阀6的溢流速度。

[0066]本发明的涂布工艺主要在于保持涂料槽中液位的恒定。

[0067]本发明中所述的“中间”、“两端”、“顶”、“低”等术语均以附图所示方位为准。

[0068]以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

图1
图2
图3。