不同抛光方法对邻面去釉后牙釉质的影响

不同抛光方法对邻面去釉后牙釉质的影响
吴海苗;赵丙姣;陈栋
【期刊名称】《上海口腔医学》
【年(卷),期】2008(17)1
【摘要】目的:研究不同抛光方法对离体牙邻面去釉区域釉质脱矿程度的影响。

方法:选择20颗离体前磨牙作为实验对象,随机将牙的一个邻面作为对照组,另一邻面作为实验组。

对照组邻面去釉后进行物理抛光,实验组邻面去釉后进行化学抛光。

所有样本进行体外pH循环60d后,利用激光荧光诊断仪对样本实验区釉质脱矿程度进行定量测定,所得数据采用SPSS10.0软件包进行配对t检验。

另选取试样通过扫描电镜观察釉质表面形态结构。

结果:对照组釉质脱矿程度较实验组更重,两者差异有高度统计学意义(P<0.01)。

扫描电镜观察发现,化学抛光后的釉质表面较物理抛光后更平滑。

结论:对邻面去釉后的釉质进行化学抛光较物理抛光可提高釉质表面的光滑程度,降低釉质脱矿的风险。

【总页数】4页(P96-99)
【关键词】邻面去釉;抛光;激光荧光;扫描电镜
【作者】吴海苗;赵丙姣;陈栋
【作者单位】上海市口腔病防治院正畸科
【正文语种】中文
【中图分类】R783.5
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