脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用
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脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用
吴卫东;许华;魏胜;唐永建;陈正豪
【期刊名称】《强激光与粒子束》
【年(卷),期】2002(014)006
【摘要】在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中,经常用到多层薄膜靶,激光脉冲气相沉积(PLD)技术是制备多层薄膜靶的较好方法.论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计,用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu/ Fe薄膜.Cu薄膜的均方根粗糙度为0.2nm,Fe薄膜的均方根粗糙度为0.4nm.
【总页数】4页(P873-876)
【作者】吴卫东;许华;魏胜;唐永建;陈正豪
【作者单位】中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵
阳,621900;中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
【正文语种】中文
【中图分类】TL639.11
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