硅油稀释PDMS法制备紫外纳米压印软模板

硅油稀释PDMS法制备紫外纳米压印软模板
李海鑫;黄其煜
【期刊名称】《微纳电子技术》
【年(卷),期】2010(47)3
【摘要】软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。

使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)法制备出具有规则点阵结构的软模板。

通过SEM和AFM表征发现,特征图形得到了有效转移,特征尺度保持在100nm左右。

相对于传统的模板制备方法,此方法成本低、流程简单、适合大规模生产,是一种非常有前途的软模板制备方法。

【总页数】5页(P188-192)
【关键词】聚二甲基硅氧烷;硅油;紫外纳米压印;软模板;浇铸法
【作者】李海鑫;黄其煜
【作者单位】上海交通大学微电子学院
【正文语种】中文
【中图分类】TN305
【相关文献】
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