电镀层基本常识教材
电镀员工培训教材
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第一章化学基础和电镀基础第一节化学基础氧化还原反应在化学反应中有电子得失和电子转移,并且反应物在反应前后化合价发生变化的反应,叫氧化还原反应。
如:得到2个电子,化合价降低为氧化剂失去2个电子化合价升高为还原剂在氧化还原反应中,还原剂失去电子被氧化,氧化剂得到电子被还原。
第二节溶液浓度表示方法1。
体积比例:1:1HCl溶液表示1份HCl与1份水相混合;2。
克/升(g/L)以1升溶液中所含溶质的质量表示;如:5g/L的SnCl2溶液就是指1升SnCl2溶液中含5gSnCl2;溶质的质量3.质量百分比浓度(x%)x%= ×100%溶液质量如:20%的NaOH溶液表示100g水中含20gNaOH固体。
溶质的摩尔数4。
体积摩尔浓度(mol/L) mol/L= ×100%溶液的体积如:0。
2mol/L的NaOH溶液表示1L溶液中含0。
2mol的NaOH即含有8g(0.2×40)NaOH固体。
5。
波美度主要代表溶液密度,用比重计测量。
波美度与密度关系:Be=144.3—144.3/密度6.ppm浓度指溶质质量占全部溶液质量的百万分之一,即1kg溶液中含1mg溶质。
第三节化学镀镍的基本原理一、化学镀镍镀层的主要性质1.耐蚀性、耐热、耐磨;2.良好的导电性、焊接性;3.磁性能、电阻性能;二、化学镀镍的特点化学镀镍镀层厚度均匀、针孔少,不需要直流电源设备,能在非导体上沉积,并具有一些特殊性能,但成本比电镀高,镀液稳定性差。
三、化学镀镍应具备的条件1.化学镀镍应包括金属盐、还原剂、缓冲剂、pH调节剂、稳定剂等成份;2.必须有催化剂存在,才发生金属沉积过程;3。
调节溶液的pH值、温度时,可以控制金属的还原速度,即可以调节镀覆速度;4.被还原析出的金属应具有自催化活性,这样镀层才能增厚;5。
反应生成物不妨碍镀覆过程的正常进行,即溶液有足够的使用寿命。
四、化学镀镍原理1。
溶液中的次磷酸根在催化表面上催化脱氢,同时氢化物离子转移到催化表面,而本身被氧化生成亚磷酸根,反应式为:H2PO-2+H2O 催化表面[HPO3]2-+H++2[H]—吸附催化表面2。
电镀基础知识第一讲
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Elkington
Jacobi R.Bottger Bunsen Geuther R.Bottger O.P.Watts Proctor
氰化物电镀银
酸性电铸铜 电镀镍 三价铬镀铬 铬酸镀铬 硫酸盐酸性镀锌 硫酸盐电镀镍 氰化物镀锌 发展了实用性镀铬
美国 美国 美国 美国
邦森 盖瑟 R.班特格尔 瓦特 普洛克特 萨金特等
11 置换脱皮 同一工件上有二种不同的材质组成 12
油污染 脱皮
镀前处理中油未除干净。
13
暗圆斑 镀层
镀液中杂质多或添加剂不足
14 镀层光泽
不均
添加剂没有充分分散
15 镀液霉菌 为了避免霉菌污染,必须重视生产线的 污染
开缸程序的实施。
16
若苔藓污染了镀槽,苔藓会嵌镀在镀 苔藓污染 层中。
水质
17
21.7 9 27.2 3
11.2 1
14.9 5 18.1 9
3.2 7
4.3 6 5.4 5
赫尔槽电流 和时间的选择
试验的基本条件要和生产现场情况吻合。 若生产线上常规电流密度为0.4~0.6A/dm2,那么 应该在0.5A/5min的条件下作赫尔槽试验。 若生产线上电流密度为1~2A/dm2,则宜用 1A/4min的条件作赫尔槽试验。
历史上著名的电镀发明
发明年代 1800 1805 国 家 意大利 意大利 译 名 布鲁纳特利 布鲁纳特利 原 名 Brug-natell Brug-natell 发明的电镀种类 电镀银 电镀银
1840
1840 1843 1854 1856 1915 1916 1917 1925
英国
埃尔金顿
雅柯比 R.班特格尔
强浸蚀
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电镀基础知识
镀 前 处 理 — 清
初级职能培训
洗
清洗及水洗是电镀工艺不可缺少的组成部分, 水洗质量的好坏对于电镀工艺的稳定性和电镀产 品的外观、耐蚀性等有很大影响。主要防止镀液 带入下一次工序污染镀液。不同的清洗方法,有 不同的清洗效果。逆流清洗需用的水量比其他清 洗方法用水量少,有利于废水的处理和回收利用。 一般用来清洗的为自来水,浓水,纯水等。
电镀基础知识
2.电解液中导电盐的影响
初级职能培训
增强溶液导电性,提高分散能力。
3. 电解液中缓冲剂的影响 增强溶液导电性,提高分散能力。
4.电解液中活化剂的影响
阳极活化剂,能促进阳极溶解,使镀液中镍离 子得到正常补充,氯化物含量过低,阳极易钝化, 过高,阳极溶解过快,镀层结晶粗糙。
电镀基础知识
5.添加剂的影响
实际生产验证故障是否真正解决。
电镀基础知识
电镀设备
初级职能培训
镀槽,电器设备,行车,挂具等。
生产设备的状况关系到产品的品质。生产线 的设备必须在生产的时候是完好的。要求操作 者做好生产线的维护和保养。保证在一个维护 周期内生产线可以正常的运行没有故障和品质 问题。生产线的维护要结合实际情况,制定合 理有效的维护计划和方法,并将维护的情况形 成记录。
电镀基础知识
电镀阶段—电镀原理
电源
O2 + H+ Ni++ OH阳极 阴极 _ H2
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+
O2
Ni
阳极
电镀基础知识
电镀阶段—电镀原理(以镀镍为例)
阴极反应
Ni2+ + 2e2H+ + 2e阳极反应 Ni Ni2+ + 2eNi (金属) H2
电镀基础知识培训
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电镀基础知识培训一、电镀的原理1.1 电镀的基本原理电镀是利用电解作用和电化学还原反应在导电基材表面沉积金属的工艺。
通过外加电流,金属离子在阳极上发生氧化,并通过电解液迁移到阴极上,在阴极上接受电子并还原成金属沉积在基材表面。
这一过程是一个复杂的电化学反应过程,主要包括阳极氧化反应和阴极还原反应两个过程。
1.2 电镀的影响因素电镀工艺的质量受到许多因素的影响,主要包括电流密度、电解液成分、温度、搅拌、阳极和阴极表面的处理等。
这些因素直接影响金属沉积的均匀性、致密性、附着力和成膜速度等性能。
二、电镀的分类按照电解液的成分和金属沉积的方式,电镀可分为多种类型。
常见的电镀包括镀铬、镀镍、镀铜、镀锌等。
2.1 镀铬镀铬是一种常见的电镀工艺,其主要用途是提高金属基材的耐腐蚀性和外观。
镀铬工艺一般采用六价铬盐作为电镀液,通过外加电流将铬沉积在基材表面,形成一层具有镜面效果的金属膜。
2.2 镀镍镀镍是一种通用的电镀工艺,其主要作用是增加基材的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。
镀镍工艺一般采用镍盐作为电镀液,通过外加电流将镍沉积在基材表面,形成一层致密、均匀的金属膜。
2.3 镀铜镀铜是一种常见的电镀工艺,其主要用途是提高基材的导电性和焊接性能。
镀铜工艺一般采用铜盐作为电镀液,通过外加电流将铜沉积在基材表面,形成一层致密、均匀的金属膜。
2.4 镀锌镀锌是一种常见的防腐蚀电镀工艺,其主要作用是提高基材的抗氧化性和耐蚀性。
镀锌工艺一般采用锌盐作为电镀液,通过外加电流将锌沉积在基材表面,形成一层紧密结合的锌铁合金薄膜。
三、电镀工艺的步骤电镀工艺一般包括预处理、电镀和后处理三个步骤。
预处理包括除油、除锈、脱脂、清洗等,旨在保证基材表面的清洁度和光洁度。
电镀是将金属沉积在基材表面的过程,旨在改善基材的性能和外观。
后处理一般包括清洗、烘干、检验、包装等,旨在保证电镀层的质量和稳定性。
四、电镀工艺的质量控制电镀工艺的质量受到许多因素的影响,需要采取一系列措施进行质量控制。
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第二章 镀层与镀液性能测试及仪器
中性盐雾试验(NSS试验) 1)试验溶液
将化学纯的氯化钠溶于蒸馏水或去离子水中,其浓度为50 g/L±5 g/L;溶液的pH值为6.5-7.2,使用前须过滤。
2)试验条件 ①试验温度:35℃±2℃; ②相对湿度:>95%; ③盐水溶液pH值:6.5-7.2; ④降雾量:1.5±0.5mL/(h·80cm2); ⑤喷雾时间:连续喷雾。应按被试覆盖层或产品标准的要求而定。
22
第二章 镀层与镀液性能测试及仪器
6、电镀层硬度试验 (1) 划痕法
划痕法的设备比较简单,锉刀硬度法即是其中的一种。 (2)压痕法
压痕法使用专用的显微硬度计或附有硬度测定装置的金相显微镜。 (3)维氏和努氏显微硬度测定
参考标准:GB/T9790-1988 《金属覆盖层及其他有关覆盖层 维氏和 努氏显微硬度试验》。
21
第二章 镀层与镀液性能测试及仪器
5、电镀层孔隙率测量 应用较广的镀层孔隙率测试方法使用的是铁试剂试验法和潮湿硫
(硫华)试验法。
参考标准: GB/T 17721-1999 《金属覆盖层 孔隙率试验 铁试剂试验》 本方法特别适用于工程用铬覆盖层。
GB/T 18179-2000 《金属覆盖层 孔隙率试验 潮湿硫(硫华)试验》。 本方法特别适用于在还原硫气氛中不明显变色的各种单层或组合覆盖 层,例如:金、镍、锡、锡-铅、钯及其合金。
五金电镀
13
第一章
第一章 电镀基础知识
3、影响质量因素 1)镀前处理
除油、水洗、活化、酸蚀等 2)镀液特性和状况
镀液性质、各组分的含量等 3)基体金属状况
电负性、带电入槽等 4)电镀过程
电流密度、温度、送电方式、搅拌等
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3.0表示符号 3.1基体材料符号
金属材料用化学元素符号表示;合金材料用 其主要成分的化学元素符号表示;非金属 材料用国际通用缩写字母表示。
3.1.1常用基体材料
铁、钢
Fe
铜/铜合金 Cu
铝/铝合金 Al
锌/锌合金 Zn
镁/镁合金 Mg
钛/钛合金 Ti
塑料
Pl
硅酸盐材料(陶瓷、玻璃等) CE
其他非金属 NM
3.2镀覆方法、处理方法符号
电镀 electroplating
Ep
化学镀 autocatalytic plating
Ap
电化学处理 electrochemical treatment Et
化学处理 chemical treatment
Ct
3.3镀覆层表示符号
3.3.1镀覆层名称用化学元素符号表示
磷酸锌盐处理 zinc phosphate treatment
ZnPh
磷酸锰锌盐处理 manganese zinc phosphate treatment MnZnPh
磷酸锌钙盐处理 Zinc calcium phosphate treatment ZnCaPh
3.5.3阳极氧化 硫酸阳极氧化 sulphuric acid anodizing 铬酸阳极氧化 chromic acid anodizing 磷酸阳极氧化 phosphoric acid anodizing 草酸阳极氧化 oxalic acid anodizing
基体材料/处理方法●处理名称 处理特征 ●后处理(颜色)
例1:Al/Et ● A ● Cl (BK) 铝材,电化学处理,阳极氧化,着黑色,阳极氧化方法
无特定要求。
例2: Cu/Ct ● P 铜材,化学处理,钝化。
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导电性(镀铜、银、金)、导磁性(镀镍-钴、镀镍-铁合 金)、焊接性(镀锡、镀铜、银、 铅锡合金)、反光性 (镀银、铑)、防扩散(为防局部渗碳而镀铜、为防局部 渗氮而采用镀锡)
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11
电化学基本知识 (电镀基本知识培训之一)
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1
前言——培训课程安排
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2
精品资料
• 你怎么称呼老师? • 如果老师最后没有总结一节课的重点的难点,你
是否会认为老师的教学方法需要改进? • 你所经历的课堂,是讲座式还是讨论式? • 教师的教鞭 • “不怕太阳晒,也不怕那风雨狂,只怕先生骂我
电镀的类别
按镀层所含金属类别分 单金属镀层 合金镀层
根据金属镀层的电位不同分 阳极性镀层 阴极性镀层
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12
电镀工艺的基本过程
电镀前处理 镀前,对表面状况和表面处理的要求进行预处理,包括除油、除 锈、抛光、打磨等。
电镀 获得符合要求的镀层。
电镀后处理 清洗、除氢、钝化、封闭等。
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线电压和相电压:三相四线制供电线路中,火线与火线之 间的电压称为线电压;火线与中线(零线)之间的电压称 为相电压。
电器设备的保护接中线和保护接地。 在电压低于1000V、电源中性点接地的电力网中,应采用 保护接中线,即把电气设备的金属外壳和中线相接,以确 保:如果有一相因绝缘损坏而碰到外壳时,则该项短路, 立即烧断熔丝,或使其他保护电器动作而切断电源,避免 触电。
电 镀 中 常 用 的 络 离 子 有 : [Zn(CN)6]2- 、 [Ag(CN)2]- 、 [Cu(NH3)4]2- 。
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电镀基本知识培训教材.doc编制赵忠开2003 年 6 月电镀常识培训教材第 2 页共29 页编制赵忠开目录一、电镀的几点常识;(3-4 页)二、影响电镀效果的几个因素;(5-9 页)三、电镀液中各成份的作用及工作条件的影响;(10-17 页)四、前处理的几种工序及其特性说明;(18-19 页)五、各电镀液的配方和工艺条件及维护;(20-24 页)六、各镀种之常见故障和解决方法。
(25-28 页)电镀常识培训教材第3 页共29 页编制赵忠开一、电镀的几点常识1、电镀是电解原理的一种应用,它是通过电解质在外电源的作用下所发生的氧化还原反应,在工件表面沉积一种金属的过程。
因此电镀的进行一样需要外电源、电极、电解质溶液和容器。
所不同的是,电镀的阴极是工作,常用镀层金属作阳极,并参与电极反应,被氧化溶解成镀层金属阳离子,以补充在阴极还原析出所消耗的金属离子。
镀液就是含有镀层金属离子的电解质溶液。
2、电镀的目的电镀的主要作用有1 防护性电镀,如铁件镀锌、镀镉或镉钛合金等;2 装饰性电镀,如铁件镀铜、外层镀金、银;3 修复性电镀,即对破损零件的电镀; 4 特殊功能电镀,如需要耐磨镀铬,耐磨镀铅;减摩擦可镀锡、锡-钴或银-锡;加强反光可镀银、镀铬;为防反光可镀黑镍、黑铬;抗氧化镀铬、铂或铑;增加导电性镀金、银或金-钴。
3、分散能力与覆盖能力1 分散能力是指镀液具有使金属层在表面厚度均匀分布的能力,也叫均镀能力。
分散能力越好,镀层越均匀。
电镀常识培训教材第 4 页共29 页编制赵忠开 2 覆盖能力是指镀液具有的使工件表面深凹处镀上金属的能力,也叫深度能力。
覆盖能力越好,工件深凹处镀得越深。
3 分散能力与覆盖能力含义不同,但两者密切相关,一般是分散能力好的覆盖能力也好,差则都差。
电镀常识培训教材第5 页共29 页编制赵忠开二、影响电镀效果的几个因素电镀过程是容易发生的,得到镀层也很快,但要得到符合各种要求的镀层就不容易,因为镀层质量好坏是受到许多条件制约的,这些因素归纳起来主要有以下几方面。
第一章电镀基础知识
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电镀溶液的组成及其作用
导电盐的含量受到溶解度的限制,而且大量导电盐的存 在还会降低其他盐类的溶解度。对于含有较多表面活性 剂的溶液,过多的导电盐会降低它们的溶解度.使溶液 在较低的温度下发生乳浊现象,严重的会影响镀液的性 能。所以导电盐的含量也应适当。
电镀溶液的组成及其作用
三、络合剂 在溶液中能与金属离子生成络合离子的物质称为络
金在电属镀过的成阳中,极电解钝液化中的与金属自离溶子,解由于在阴极上的还
原,而不断被消耗.一般情况下,是靠金属阳极的溶解来补充 这种消耗以维持电解液组成的稳定。有一些镀种,由于工艺 上的特殊原因,使用不溶性的阳极。在这种情况下,阳极上的 氧化过程,主要是电解液中的金属离子由低价氧化为高价或 者是析出气体。例如在镀铬时采用铅阳极,其阳极过程为溶 液中的三价铬被氧化为六价铬,与此同时析出氧气。当采用 不溶性阳极时,镀液中被消耗的金属离于是靠定期添加试剂 来补充的。
其金原因属是,的由阳于阳极极极钝化化增大与使电自极溶表面解件质发生变化而引起
的,这种现象我们称之为金属的阳极钝化.例如.在镀镍溶液中, 在不含Cl-或 Cl- 浓度较低的情况下,若电镀时维持一定的电流 密度,就很容易出现镍的阳极钝化现象。
金属的阳极钝化与自溶解
金属的阳极钝化与自溶解
的镀镍溶液中未加Cl-时的镍阳极极化曲线。曲线的ab段 是镍阳极的正常溶解。当电极电位超过图中的b点进一步 向正的方向移动时,电流密度急剧下降。在cd段的电位
材 料 与化学工程学院
电化学 –电镀基础知识 本章目录
1.金属在阴极上电沉积的可能性 2.电镀溶液的组成及其作用 3.金属的阳极钝化与自溶解
金属在阴极本上节内电容沉积的可能性
电镀是一种电化学过程,是一种在水溶液中进行的氧化 还原过程。以镀镍为例.将零件浸入含有镍盐(如NiSO4)的 溶液中作为阴极,金届镍板作为阳极,接通直流电源后,就会 在零件上沉积出金属镍镀层。此时在阴极上.发生镍离子得 到电子还原为金属镍的反应,其反应式为:
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硫酸铜 硫酸 氯离子 温度 光亮剂
180-220克/升 68-72克/升 60-100PPM 20-26℃ 适量
• ①在酸铜电镀中,硫酸铜是主盐,一般控制在180-220克/升 之间,含量太低,电流效率降低,上限电流密度值减小;含量太 高,易结晶,结晶粗糙,整平性降低.
• ②硫酸起导电的作用,含量太低容易产生麻点毛刺.含量太 高影响镀层光亮度.
(5) 生产性能 金属件的制作,一般要经过冲压、车、钳、刨、 磨等复杂的机械加工工序.而塑料件只需要成型,其生产 效率比金属件快10倍以上,可节省大量的机械加工工时及 机械加工设备.另外,塑料密度小,比金属件成型省力、方 便.
2 影响金属与塑料结合力力的主要因素
(1)塑料种类 为了保证镀层与塑料基体的结合力,在选择塑料 时应当考虑:塑料的尺寸稳定性好,塑料表面的硬度要适 中,抗拉强度不得小于2000N/CM2,塑料热变形温度越高 越好,选择适当的合成工艺,塑料成型性好,以保证材料的 均匀性,采用具有良好电镀性能的电镀级塑料等等.
• ⑤氯化镍提供镍离子和氯离子,其中氯离子是去极化剂,促进 阳极溶解,以免造成阳极钝化而使溶液中镍离子降低.
• ⑥硼酸是缓冲剂.起到调节溶液中PH作用,如果硼酸含量不 够(低于20)溶液的PH会增加,导致高区烧,起针孔等.
• ⑦光镍光剂在市场上常见的分为主光剂,柔软剂,辅助剂,湿 润剂等.其中主光剂起细化晶粒增加整平增强出光能力等作 用.主光剂含量不足时,容易出现发白发雾,出光缓慢,高电位 烧焦等现象发生.含量偏高则增加镀层应力,使镀层中有机物 含量增加,导致发脆或套铬发白发花发黄等现象发生.柔软剂, 改变低区镀层的光亮度,中和主光剂产生的拉应力.辅助剂是 辅助主光剂以达到更好的出光效果.湿润剂是通过表面活性 剂在阴极表面的吸附,使氢气泡不能在工件表面滞留,而减少 针孔的产生.湿润剂的使用应该适量,如果含量偏高,活性剂 有机物吸附在表面不能洗净,导致套铬出现鱼鳞状发花.封口 镍就是在光镍的基础上加入一定量的微孔剂.半光镍控制时, 一控制电位差,光剂含量不能偏高,否则电位差达不到要求. 太低高位容易发雾.
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四. 電流密度與陰陽極距離﹕ 由于端子外表結構不一定規則狀﹐在共同的電流下端子離陽極距 離較近的部位看為局部高電流區(b)﹐離陽極距離較遠的部位稱為 局部低電流區(a)。
第二章
A區 B區
電流密度
遠
近 (陰極) (陽極) 五. 電流密度與哈式槽試驗﹕ 每一種電鍍藥水都有一定的電流密度操作范圍﹐大致上可以從 哈式槽試驗結果看出﹐因為哈式槽的陽極面與陰極面之間并非平行 面﹐離陽極面較近之陰極端其電流密度小﹐離陽極面遠者大﹐因此 可以比較高電流密度部分與低電流密度部分之電鍍狀態。 Hi 陽 極 陰 極 哈式槽 Lo 哈式片 左 Hi Lo 右
第二章
電鍍計算
金量為多少g﹖ 換算PGC為多少g﹖ 3﹑每個鎳﹑金﹑錫鉛槽電流密度 各為多少﹖ 4﹑每個鎳﹑金﹑錫鉛電鍍效率為多少﹖ 解答﹕ 1. 20萬支端子總長度 = 200000 / 6 = 1200000mm = 1200M 20萬支端子耗時 = 1200 / 20 = 60 min = 1 hr 2. 20萬支端子總面積 = 200000 * 20 = 4000000mm² = 400 dm² 20萬支端子耗金量 = 0.0049AZ = 0.0049 * 400 * 11.5 = 22.54g 20萬支端子耗PGC量 = 22.54 / 0.681 = 33.1g 3. 每個鎳槽電鍍面積 = 2 * 1000 * 82 / 6 =27333.33mm² = 2.73dm² 每個鎳槽電流密度 = 50 / 2.73 =18.32 ASD 每個金槽電鍍面積 = 2 * 1000 * 20 / 6 = 6666.667 mm² = 0.67dm² 每個金槽電流密度 = 4 / 0.67 =5.97 ASD 每個錫鉛槽電鍍面積 = 2 * 1000 * 46 / 6 = 15333.33mm² = 1.53dm² 每個錫鉛槽電流密度 = 40 / 1.53 = 26.14ASD 4. 鎳電鍍時間 = 3 * 2 / 20 = 0.3min 鎳理論厚度 = 8.07CT = 80.7 * 18.32 * 0.3 =44.35 鎳電鍍效率 = 43 / 44.35 = 97%
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一、电镀层的基本要求
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1、与基本金属结合牢固,附着力好。 2、镀层完整、结晶细致紧密、孔隙率小。 3、具有良好的物理、化学及机械性能。 4、具有符合标准规定的镀层厚度,而且镀 层分布要均匀。
⑧、烘干老化:钝化膜经烘干后才具有好抗蚀性。
⑨、除氢处理:零件在酸洗阴极电解除油及电镀过 程中都可能在镀层和基体金属的晶格中渗氢,造成晶格 扭歪,内应力增大产生脆性(称为氢脆)。除氢通常镀 好4 h内放入烘箱温度为200℃-250℃,时间2-3h。
⑩、目前我司还有黑色钝化和军绿色钝化等新工艺。
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四、浸药
1、开机工作时要将药桶内温度调到25—30℃,粘 度在55-85秒要搅拌均匀,产品浸泡时间在10—20秒, 因在生产中会有少量的砂粒带入桶中,所以,浸药桶内 药液需每周过滤一次,做螺帽时则须多过滤,以防砂粒 沉积在牙纹当中,生产过程中要随时测量药液的温度、 粘度。
钝化膜的封闭:在钝化后经清洗再在含铬酸酐0.20.3 g/l的热水中浸渍(80℃-100℃),可提高盐 雾。
钝化液的老化:钝化液在使用后锌含量不断提高, 当含量达到15 g/l时,就达到容许的极限需冲淡或 重新更换。
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⑦、硝酸活化:硝酸起化学抛光作用。含量高加速 镀层的溶解,含量低则光亮度差。
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1、氧化锌 (电流效率); 2、氢氧化钠(络合导电作用); 3、DE.DPE添加剂。
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电镀基本知识培训教材电镀是通过电化学方法,在金属表面沉积一层金属或金属合金的一种加工工艺。
它不仅可以提高金属表面的抗腐蚀性能,还可以增加其外观美观度、硬度和耐磨性等特点。
随着工业化进程的不断推进,电镀技术日益被广泛应用于各个领域,包括汽车制造、电子工业、航空航天、家具制造等等。
下面我们将介绍电镀基本知识培训教材。
一、电镀的基本原理电镀通常是通过电化学反应的方法,在金属表面沉积一层金属或金属合金。
它是以金属成分为阳极,以纯金属或其他金属合金成分为阴极,在电解质中通以电流,将阳极金属溶解到电解质中,而在阴极上沉积金属的一种加工方法。
电镀的总反应方程式为:Mn+ + ne- → M其中,M表示金属成分,n表示对应金属的价数,e-表示电子。
二、电镀的分类电镀按其工艺分类主要分为四类:1、化学镀:是电镀过程中只用化学方法控制离子还原,不涉及电流。
化学矿物电沉积除镀铬为主要工艺外,钴、锗、硒钌、铁,锰、铜离子、钴铁离子、铁镍离子、钴束钯离子等离子也都可以通过化学镀的工艺得到沉积.2、电沉积法:是利用电流将金属阳极溶解到溶液中,然后在金属阴极上沉积形成膜层。
电沉积可分为直流电沉积和交流电沉积两种。
3、离子镀:离子镀是利用化学反应的方法将金属离子还原成金属,然后在金属阴极上进行沉积,通过保护膜镀层来保护金属表面。
4、喷涂法:是将和油漆粘土一样的混合物放置在高压气体喷枪中,通过喷枪内细小的喷嘴将混合物粉末喷出,凝固后形成均匀的金属镀层。
喷涂法最常用于现场维修或对大型工件进行需要的表面涂层。
三、电镀的工艺流程1、表面处理:电镀前的表面处理是影响电镀质量的关键环节,如去污、去油、去锈、去氧化皮及进行钝化等。
2、防腐:在表面处理后,往往需要使用化学方法,如镀铜、镀镍等来增加金属表面的耐腐蚀性。
3、电解质配置:需要选用合适的电解质,如浓度、PH值和温度等,以保证金属表面的加工质量。
4、电镀:经过以上准备工作,可以开始进行电镀加工,首先将阳极、阴极和电解质放置在电解槽中,通过电解质的传导,电流就可以穿过阳极和阴极,进行电化学反应,然后金属离子就会在阴极上沉积,形成金属薄膜。
电镀基础(全面)
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二、電鍍基礎與實務
2.9.4. 鍍錫或錫合金
1. 镀錫(霧純錫、亮純錫、錫銅錫鉛合金):
一般除不易氧化的底材可不必进行镍打底外,通 常需先镀镍后再镀锡铅。而金镀层与锡铅镀层是 不能重叠互镀,原因一是在高温下锡铅会扩散到 金层之上,使金层外观变暗,加速腐蚀。现一般 镀的锡铅合金是90%锡,10%铅,一般客户可允许 锡铅比为90±5%,主要是考虑到后加工焊接熔点 的问题。
二、電鍍基礎與實務
2.9.電鍍說明:
2.9.1、電鍍制程之選擇: 根據產品之電鍍規格和功能之要求, 選擇相應之電鍍制程:如鍍銅、鍍鎳、 鍍鈀鎳、鍍銀、鍍金、鍍錫鉛、鍍錫、 鍍錫銅等之一種或幾種、各種不同之 制程之電鍍藥水需依實際情況作選用。
二、電鍍基礎與實務
2.9.2. 鍍鎳 1、電鍍鎳:常用作打底鍍層,分無光澤鎳,
二、電鍍基礎與實務
2.8.電鍍素材材質: 材质有铜合金(黄铜,磷青铜,铍铜,钛铜,银 铜,铁铜等)及铁合金(spcc,42合金、SUS等), 而一般最常用的材料为黄铜(brass)、磷青铜 (phos—bronze)、冷軋鋼(一般用於鈇殼)、SUS。 1. 黄铜是铜和锌的合金,一般锌含量在30-40%之 间,黄铜的颜色随锌含量的增加从暗红色--红黄 色、--淡橙黄色--黄色。其机械性质优良; 2. 磷青铜(phosphor—bronze):磷青铜为铜, 锡,磷的合金。一般锡含量在4~11%之间,磷含量 在0.03~0.35之间,在青铜中加磷是为了除去内部 的氧化物,而改良其弹性及耐蚀性,磷青铜的耐 蚀性远比黄铜优良
二、電鍍基礎與實務
2.9.3. 鍍金:
1. 镀金:一般為选擇性電镀,若金只镀FLASH, 可镀纯金流程,連接器端子一般為Au-Co合金 。 2.镀金方法:浸镀法,刷镀法,遮镀法,點鍍、 噴鍍、輪鍍等,须视端子形状,电镀规格作 選擇。 3.作用:硬度大--耐插拔; 導電良—降低接觸阻抗; 物理和化學性能穩定—耐蝕性好。
电镀基本知识-课件
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总结:在注塑工艺中,射胶速度过高,会造成剪切速率过 高,使得橡胶粒子径向迁移速率增大,不利于橡胶相的分 布。材料温度和模具温度过底,造成模壁附近形成高剪切 场,使得橡胶粒子取向,变形严重,分布不均匀。因此, 射胶速度过高,材料温度和模具温度过底都有可能造成橡 胶相分散不均匀,影响ABS材料与电镀层的结合力。从而 在冷热循环测试时出现起泡,起皱,开裂,剥落等现象。 冷热循环测试不过与表面应力有关系 冷热冲击测试不过于结构应力有关系
水洗 水洗 敏化 水洗 活化 水洗 全光镍 微孔镍 水洗 水洗
水洗 水洗
水洗 还原 水洗 化学镍 活化 水洗 水洗 铬前活化 水洗 下挂
通过化学腐蚀,在塑胶表面形 成微观粗糙,以确保化学镀时 所需要的“锁扣效应”;以此 提高塑胶与镀层的结合力
通过吸附作用在塑胶表面吸附一 层含有催化活性的胶体钯颗粒
通过电化学方法在化学镍 上镀一层铜或镍,提高镀 层的导电性
水洗 下机 烘干
SC1无半光镍,微孔镍
四、电镀产品的结构设计
1) 电镀用的ABS塑料,其成份比例应控制在一定范围内,否 则将影响镀层和塑料的结合 (1)丁二烯含量控制在18-23%; (2)含水量不高于0.1%; (3)SC0、SC1等级,注塑次料(指水口料、不良毛坯) <40%;SC2等级,100%原料 2)产品拐角处要尽量倒R角,外R角应≥1mm,内R≥0.5 3)深孔处深度不超过其直径的1/2~1/3,对于深孔可增加电 镀塞子,公司现有类型见 电镀塞子汇总 4)辅助挂点: ①产品壁厚要达到2.5mm,太薄产品会变形,可带浇口电镀 ②产品异形无挂点位置,需增加辅助筋条;
要提高两者间的结合力,就必须增加两者间的接触面积或 增加着力机构。
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2014年8月目录一、电镀的几点常识;二、影响电镀效果的几个因素;三、电镀液中各成份的作用及工作条件的影响;四、前处理的几种工序及其特性说明;五、各电镀液的配方和工艺条件及维护;六、各镀种之常见故障和解决方法。
一、电镀的几点常识:1、电镀是电解原理的一种应用,它是通过电解质在外电源的作用下所发生的氧化还原反应,在工件表面沉积一种金属的过程。
因此电镀的进行一样需要外电源、电极、电解质溶液和容器。
所不同的是,电镀的阴极是工作,常用镀层金属作阳极,并参与电极反应,被氧化溶解成镀层金属阳离子,以补充在阴极还原析出所消耗的金属离子。
镀液就是含有镀层金属离子的电解质溶液。
2、电镀的目的:电镀的主要作用有:(1)防护性电镀,如铁件镀锌、镀镉或镉钛合金等;(2)装饰性电镀,如铁件镀铜、外层镀金、银;(3)修复性电镀,即对破损零件的电镀;(4)特殊功能电镀,如需要耐磨镀铬,耐磨镀铅;减摩擦可镀锡、锡-钴或银-锡;加强反光可镀银、镀铬;为防反光可镀黑镍、黑铬;抗氧化镀铬、铂或铑;增加导电性镀金、银或金-钴。
3、分散能力与覆盖能力:(1)分散能力是指镀液具有使金属层在表面厚度均匀分布的能力,也叫均镀能力。
分散能力越好,镀层越均匀。
(2)覆盖能力是指镀液具有的使工件表面深凹处镀上金属的能力,也叫深度能力。
覆盖能力越好,工件深凹处镀得越深。
(3)分散能力与覆盖能力含义不同,但两者密切相关,一般是分散能力好的覆盖能力也好,差则都差。
二、影响电镀效果的几个因素:电镀过程是容易发生的,得到镀层也很快,但要得到符合各种要求的镀层就不容易,因为镀层质量好坏是受到许多条件制约的,这些因素归纳起来主要有以下几方面。
1、基本金属的影响首先,基本金属的化学性质是影响镀层质量的重要因素,如果基体金属比镀层金属活泼,即其电位较负,则在进入镀液的未通电时将发生置换反应产生置换层,使随后的镀层发生粗糙松脱。
还有些基体金属表面容易发生钝化,将极大损害结合力。
此外,镀件的表面状态影响也很大,在前加工过程中所沾染的油迹,若洗涤不干净,则危害性极大,表面的平整光滑都直接影响镀层质量。
2、镀液的影响各镀种各配方所配成的镀液都有不同的性质。
它们对镀层质量的影响,在某些方面的作用是决定性的,如简单离子镀液,由于它的极化作用较小,镀层晶体较粗,分散能力与覆盖能力较低。
但成分简单,成本较低,镀液稳定易控制,而且可用较高密度,较高电流密度而提高沉积速度。
其电流效率也较高,适合简单工件的速度、厚度。
另一类结合物镀液则有较好的极化作用,分散能力与覆盖能力较高,镀层晶体较细。
但稳定性较差,电流效率较低。
以氰化物做络合剂的镀液剧毒,需配以良好的通风设备和废水处理设施。
3、主盐浓度的影响对各种金属来说,镀液中的主盐浓度都有一个较为合适的范围。
当工艺条件一定时,随着镀液中主盐浓度的增加,镀液的极化作用变小,镀层结晶较细,分散能力与覆盖能力也比浓镀液好。
但用降低主盐浓度以改善结晶是不可取的。
因采用高浓度时,可采用高电流密度,提高生产效率和阴极电流效率。
而且高浓度对镀层的光亮度和整平性都有利,不过带出损失也较大。
4、附加“盐”的影响在镀液中经常加入相当数量的其他金属盐,主要是碱金属盐或碱土金属盐。
这些盐有的是为增强镀液的导电性,称之为导电盐。
这些盐有的还能提高阴极极化作用(也有些起相反作用);如镀镍液中加入硫酸钠、硫酸镁。
有的附加盐能促进阳极正常溶解,称之为阳极活化剂,如镀镍中的氯化镍。
有的附加“盐”对镀液能起稳定作用,如酸铜中的硫酸、碱铜中的氢氧化钠。
有的附加“盐”能保持镀液的PH值不变,称之为缓冲剂,如镀镍液中的硼酸。
5、络合剂在络合物镀液中,络合剂的含量高低对镀液的极化能力、对镀液的稳定性、对镀层的质量,对阳极的溶解都有直接的关系。
一般说来,络合剂对金属的络合力越强,则对镀液的极化能力影响越大。
当络合剂含量高时,镀液的极化能力强,镀层结晶较细,分散能力与覆盖能力好,镀液稳定,阳极溶解正常。
但若含量过多,则影响电流效率,严重时大量析氢,甚至无镀层。
当络合剂含量低时,极化作用小,镀层变粗,分散能力变低,但阴极电流效率提高。
若含量过低则阳极容易钝化,因此络合剂应控制适当含量,一般以游离态络合剂含量衡量。
6、添加剂镀液中经常加入少量某些物质,这少量物质不会明显改变镀液的电性,但能明显改善镀层的性能,这种物质称之为添加剂。
常用的添加剂有无机物和有机物。
根据它们所起的作用不同,可分为光亮剂、整平剂、湿润剂,还有应力削减剂、镀层细化剂等。
光亮剂即能使镀层光亮的添加剂,有时还将光亮剂分成初级光剂、次级光剂与载体光剂及辅助光剂,如镀镍的糖精和丁烩二醇。
整平剂即能使工件表面微谷镀上比微峰处厚,从而填平微谷,达到表面平滑光洁的添加剂。
如镀镍的香豆素。
不少光剂和整平剂要配合使用才能发挥其应有的作用,单独使用效果不好。
湿润剂是能降低不同相间的界面张力,使镀液易于在电极表面铺开而气泡不易在电极停留的添加剂。
因而可减少或避免产生针孔等故障,所以又称防针孔剂,如:镀镍中的十二烷基硫酸钠。
添加剂的作用机理,说法不一,主要有以下两种:一种叫胶体络合理论,一种叫吸附理论,它们各能解释一些现象。
至今尚无完善的理论可指导添加剂的选用,目前都只能靠实验加以改善。
添加剂的用量应有一定范围,若太少将不起作用,太多将起反作用,有的需要一定条件下才有活性,有的消耗较快,这些都需注意细节。
7、电流密度各种镀液都有其相应的电流密度范围。
在生产中一般都尽量采用接近其上限的电流密度,因为较高的电流密度有较高的沉积速度和电流效率,而且能提高镀液的极化能力使镀层晶体细致。
但过高的电流密度将引致镀层色泽不正常,镀层疏松,甚至烧焦、发黑等现象。
若电流密度过低,则镀液极化作用小镀层晶粗,沉积速度慢,影响生产效率,所以在条件许可情况下,都用较高的电流密度。
8、温度镀液所用的温度是各成份配成的镀液性质所决定的。
在其他条件不变的情况下,升高温度会降低镀液的极化能力,使镀层变粗,但升高温度可提高电流密度上限,可配置高浓度镀液,因而可使用高电流密度,这样,镀液的极化作用增强,可弥补温度升高的影响,而且可提高沉积速度,提高生产效率。
升高温度还有增强导电性,减少针孔,促进阳极溶解,降低镀层内层力和提高电流效率的作用。
9、PH值各镀液各有最合适的PH范围,PH的升高或降低不仅关系到氢气的析出情况,也直接影响镀液中沉淀的生成,络合物的稳定性,阳极的溶解及添加剂的活性,因此也直接影响镀层的外观和质量。
10、搅拌电镀时常采用机械搅拌(即阴极移动及镀液强制循环)和净化的压缩空气搅拌,以达到提高阴极电流密度上限,提高沉积速度,提高生产效率的目的。
搅拌还可提高光亮度,减少氢气停留产生针孔的机会。
但搅拌会降低阴极极化作用,使镀层变粗。
故须配合适当的电流密度加以改善。
应用搅拌时需与连续过滤相结合,以免沉渣泛起,污染镀层而产生毛刺、孔隙、斑点及粗糙等毛病。
采用空气搅拌的镀液必须是与空气、二氧化碳不作用的,因此,碱性的,还原性成份的,低价金属离子的镀种不适用。
11、阳极电镀所用阳极有可溶性阳极和不溶性阳极,它们都起传导电流的作用,可溶性阳极还可补充阴极沉积所消耗的金属离子,因此对镀层质量影响很大。
它必须不带有害杂质,能正常溶解生成镀液所含的金属离子(包括价态)。
所以对阳极材料的纯度、结构、形状以及溶解性都有严格的要求。
一般需采用高纯度金属,但可加入少量有益无害的元素,如含磷铜、含硫镍等。
阳极溶解过程常产生阳极泥渣,因此常用阳极袋加以收集,以免对镀层产生有害影响。
为避免阳极钝化,除注意维护镀液成份外,尚须注意阳极面积是否足够,阳极电流是否过大,并经常观察阳极表面状态,以便及时进行调整。
此外,电流波形对电镀层质量也有很大关系,应根据镀种及时对镀层的要求加以选择。
三、电镀液中各成份的作用及工作条件的影响:1、氰化镀铜(1)氰化亚铜:氰化亚铜是镀液中的主要成分,是提供铜离子的主盐。
在阴极放电过程中,不是由铜离子直接放电的,它是由氰化亚铜溶解于氰化钠溶液中,形成稳定的铜氰络合物,然后由铜氰络离子在阴极上放电还原成金属铜。
铜氰络离子是分级电离的,但难于离解为单独的铜离子。
当镀液中氰化物含量及温度不变时,降低氰化铜的含量,可以提高镀液的分散能力和覆盖能力,增强阴极极化作用,使镀层结晶细致。
此时适合于预镀用。
但因阳极电流效率降低,可用的电流密度范围缩小,而不适于高速镀铜之用。
(2)氰化钠:氰化钠是一种络合剂,氰化亚铜必需与之络合方能溶解于溶液中,一般而言,一摩尔氰化亚铜与二摩尔氰化钠进行络合反应,方能溶解良好,即89.5g的CuCN,需要98g NaCN 络合。
相当于1g CuCN需要1.1g NaCN进行络合。
若超过此数,则超过部分称为游离的NaCN。
即游离的NaCN(g/L)=总NaCN(g/L)-CuCN(g/L)×1.1 电镀液中,游离的氰化钠一般在7-20g/L之间,提高NaCN的比值,有利于镀液的分散能力,覆盖能力,使镀层结晶细致,但降低电流效率,不恰当地提高NaCN的比值,会使镀层起泡甚至阴极上得不到镀层。
氰化钠的多少,阴阳极上的一些现象可以作为参考。
(3)酒石酸钾钠和硫氰化钾,它们是辅助络合物,当游离的NaCN含量偏低时,阳极上会产生二价铜离子,形成难溶的氢氧化铜薄膜覆盖阳极表面,此时酒石酸钾钠及硫氰化钾与二价铜离子作用,络合,从而促进阳极溶解,所以它们可称为阳极的去极化剂。
(4)氢氧化钠:氢氧化钠可防止氰化钠水解,提高镀液的导电性。
有利于镀液的稳定。
若氢氧化钠不够数量,电路接通时,电流会逐渐降低至某一数字。
(5)电流密度和温度:氰化镀铜液使用的电流密度及操作温度,应根据镀液中主盐成份高低决定,在预镀液中,由于主盐浓度较低,应用较低的温度及较低的电流密度。
在主盐浓度较高的情况下,为防止产生浓差极化,提高分散能力,应采用较高的温度,此时提高阴极电流密度可以同时提高电流效率,加快沉积速度。
(6)铜阳极:氰化物镀铜液中使用的阳极为电解铜和压延电解铜。
阳极面积与阴极面积比例应控制为2:1。
若电流密度太大则易使阳极钝化。
而采用电流密度太小则阳极溶解差。
若要提高阳极的电流密度,可以采取:(1)提高游离氰化钠的浓度;(2)提高镀液温差;(3)加入阳极去极化剂;(4)采用周期换向电流。
2、镀镍:(1)硫酸镍(NiSO4`6H2O或NiSO4`7H2O)是镀镍液中提供镍离子的主盐,其含量在100g-350g/L之间,一般情况下,硫酸镍的含量低,镀液的分散能力较好,镀层结晶细致,易抛光。
但可使用的阴极电流密度较小,电流效率低,沉积速度慢。
硫酸镍含量高的镀液可使用较高的阴极电流密度,加快沉积速度,且镀层色泽均匀。
但因浓度大,阴极极化作用小,镀液的分散能力降低,镀层结晶较粗,而且无光泽。