《工业催化原》PPT课件

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工业催化原理
Catalysis in industrial processes
厦门大学化学化工
a
学院化工系
1
过渡金属半导体氧化物催化剂
金属氧化物中缺陷和半导体性质 ➢ 满带:凡是能被子电子完全充满的能带叫满带。 ➢ 导带:凡是能带没有完全被电子充满的。 ➢ 空带:根本没有填充电子的能带。 ➢ 禁带:在导带(空带)和满带之间没有能级不能
a
空带 EA
导带
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EF能级在过渡金属和半导体中的区 别
• 对于过渡金属而言
• 电子的EF能级处在导带之内,反映金属地带量子 态的填充水平。但对于的半导体情况的EF位置会
发生变化。一般都处于禁带。反映地不是电子的
一格允许能级但同样代表着半导体中电子表的平
均能量,物力意义是一致的电子在该能级出现的
几率为
导带
• F(Ej)=1/2
禁带
F
满带
a
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N型半导体掺杂
掺杂的两种方式 • 施主型掺杂 • 提高供电子的物质浓度。如ZnO中加入Al3+
由于费米能级升高而使逸出功降低。导电 率升高。 • 受主型掺杂 • 它减少了可提供电子的物质浓度。如在ZnO 中添加Li+会使Zn+浓度下降,造成ZnO逸出 功升高和导电率降低。


↗↘ ↗↗ ↘↗ ↘↘
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P型半导体和它的EF能级
• 当过渡技术 形成低价氧化物如NiO,Cu2O,CoO 等,常形成金属阳离子缺位的非计量化合物。如 NiO其中Ni2+缺位,以各缺位相当于两个单位的正 电荷“2+”,由于晶体保持电中性,必然引起缺位 附近两个Ni2+离子价态的变化,即 2Ni2++“2+”→2Ni3+,这里Ni3+=Ni2+,Ni2+可以接受
电子称为受主原子,当温度升高时空穴可以成为 自由空穴。
• 在外电场作用下,满带电子可以定向地向受主能
级跃进迁,这种主要靠准自由空穴导电的半导体
称之主P型半导体。P半导体的EF能级应处于满带
项处EV和受主能级EA之a 间的中间位置。
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E
Ec
Eg
EA
EF
禁带
EV
f(Ej)
P型半导体能带 (EA为受主能级)
➢ B)氧缺位
➢ C)高价离子取代晶格中的正离子
➢ D)引入电负性小的原子。
P型半导体生成条件
A)非化学计量比氧化物中出现正离子缺位。
B)用低价正电离子取代晶格中正离子。
C)向晶格掺入电负性在的a 间隙原子。
7
半导体导电性影响因素
➢ 温度升高,提高施主能级位置,增加施主杂质浓 度可提高n型半导体的导电性。
a
16
p型半导体掺杂
掺杂的两种方式 • 施主型掺杂 • 准使得自逸由出空功穴变浓小度和的导降电低率。下这降是。导致EF能级的升高,
• 受主型掺杂(情况类似)
a
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如何判断参杂杂质类型
掺杂杂质类型可以从杂质对半导体的逸出功和导电 率影响来判断。
• 1、用逸出功来判断 • 如果引入某种杂质后,半导体的逸出功变小,那
B)对于施电子气体吸附(以H2为例) ➢ 对于H2来说,不论在n型还是p型氧化物上以正离
子(H+)吸附于表面,在表面形成正电荷,起施主 作用。
a
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吸附气 体
半导体类 型
吸附物种
吸附剂
吸附位
EF
受电子 气体 (O2)
N型 V2O5)
P型 Cu2O
O2→O2O-,O2wenku.baidu.com-,O2-
O2→O2O-,O22-,O2-
• 如果出现的杂质能级靠近满带上部称为受主能级。
在受主能级上有空穴存在。很容易接受满带中的
跃迁的电子使满带产生正电空穴关进行空穴导电,
这种半导体称为p型半导体。
a
5
半导体费米能级与逸出功的关系
φ
φ
EF
φ
EF
施主
受主
EF
本征
n
a
p
6
n型半导体与p型半导体的生成
n型半导体生成条件
➢ A)非化学计量比化合物中含有过量的金属原子 或低价离子可生成n型半导体。
N型半导体和p型半导体的形成

当金属氧化物是非化学计量,或引入杂质离子或 原子可产生n型、p型半导体。
➢ 杂质是以原子、离子或集团分布在金属氧化物晶 体中,存在于晶格表面或晶格交界处。这些杂质 可引起半导体禁带中出现杂质能级。
➢ 如果能级出现在靠近半导体导带下部称为施主能 级。施主能的电子容易激发到导带中产生自由电 子导电。这种半导体称为n型半导体。
填充电子这个区间叫禁带。半导体的禁带宽度一 般在0.2-3eV。
a
2
E ( a)
E
5eV ~10eV ( b)
E ( c)
0 .2 e V ~ 0 .3 e V
导体
E
( d)
绝缘体
E
( e)
本征半导体
施主能线
受主能线
a
3
N型 半 导 体
P型 半 导 体
Ef
Ef a
Ef 4
本征半导体、n型半导体、P型半导 体
V4+ →V5+
Cu+→ Cu2+
负离子吸附
在高价金属


负离子吸附 在高价金属


施电子 N型 气 体 ZnO (H2)
P型 NiO
1/2H2→H+ 1/2H2→H+
Zn2+ →Zn+
↗ 正 离 子 气 体
吸附在低价 金属离子上
Ni3+→ Ni2+
a
↗ 正 离 子 气 体
吸附在低价 金属离子上
φ

➢ 温度升高,降低受主能级位置或增加受主杂质浓 度都可以提高p型半导体的导电能力。
➢ 催化剂制备上措施:晶体缺陷,掺杂,通过杂质 能级来改善催化性能。
a
8
杂质对半导体催化剂的影响
➢ 1、对n型半导体 A)加入施主型杂质,EF↗Φ↘导电率↗ B)加入受主杂质, EF ↘ Φ ↗导电率↘ ➢ 2、对p型半导体 A)加入施主型杂质EF↗Φ↘导电率↘ B)加入受主型杂质EF ↘ Φ ↗导电率↗
么这种杂质是施主型的,相反则为受主型杂质。 • 2、用导电率来判断 • 对于n型,凡是使导电率增加的物质为施主型杂质,
相反则为受主型杂质。 • 对于P型,凡是使导电率下降的物质为施主型杂
质,相反则为受主型杂质。
a
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n型半导体生成条件
• A)非化学计量比化合物中含有过量的金属原子或 低价离子可生成N型半导体。
a
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半导体催化剂化学吸附与催化作用
1、化学吸附 A)受电子气体吸附(以O2为例) (1)在n型半导体上吸附
O2电负性大,容易夺导带电子,随氧压增大而使 导带中自由电子减少,导电率下降。另一方面在 表面形成的负电层不利于电子进一步转移,结果 是氧在表面吸附是有限的。
a
10
(2)p型半导体上吸附
O2相当于受主杂质,可接受满带的电子增加满带 空穴量,随氧压的增加导电率增大,由于满带中 有大量电子,因此吸附可一直进行,表面吸附氧 浓度较高。
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