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这些信号被相应的接收器接收,经放大后送到显像 管的栅极上,调制显像管的亮度。由于经过扫描线 圈上的电流是与显像管相应的亮度一一对应,电子 束打到样品上一点时,在显像管荧光屏上就出现一 个亮点。扫描电镜采用逐点成像的方法,把样品表 面不同的特征,按顺序,成比例地转换为视频信号, 完成一帧图像,从而在荧光屏上观察到样品表面的 各种特征图像。
x
x0
2
y
y0
2
D
1
2
x y
x0 y0
M
cr be
h2
k2Leabharlann l21 2h
k
D
l
式中, Mcr→be是衍射放大矩阵,-1/2是对 长度归一化处理。通过屏幕上3已知的晶 带轴晶向指数和他们在屏幕上的3组坐标 求出Mcr→be。最终取向矩阵是以上两个的 乘积:g M besa • M crbe
2) 选区电子通道花样: 微区范围 10 -15 um 产生花样的区域1-3mm
电子通道花样的标定
L—末级透镜至晶体表面的距离 M—花样放大倍数 W—荧光屏上某衬度带的宽度
EBSD技术
EBSD技术
EBSD技术相关原理 EBSD应用及数据处理
电子背散射衍射分析技术
基于扫描电镜(SEM)中电子束在倾斜 样品表面激发出并形成的衍射菊池带的 分析从而确定晶体结构、取向及相关信 息的方法。
[u1v1w1][u2v2w2][u3v3w3]
量出3晶带轴与屏幕中心的距离并算出对应的 角度,在计算它们与投影面法线的夹角关系, 从而求出样品法向指数[hkl]
cos1
u1h v1k +w1l u12 v12 w12 • h2 k 2 l 2
cos2
u2h v2k +w2l u22 v22 w22 • h2 k 2 l 2
cos3
u3h v3k +w3l u32 v32 w32 • h2 k 2 l 2
量出3条过花样中心的菊池带(h1k1l1) ( h2k2l2 )( h3k3l3 )与投影面上轧向RD夹角 ß1ß2ß3,列出3个方程,解出3个未知量[uvw].这 样该菊池花样的对应晶体学取向(hkl)[uvw] 就确定了
e3sa cos 70e2be sin 70e3be
电子束坐标系下的一个矢量转变为样品坐标系
r 下矢量的关系为:sa M besarbe
Mbe→sa是上面对应的旋转矩阵。电子束坐标系原 子到EBSD探头屏幕上任一点的矢量可表达为:
R (x x0, y y0, D),(x0y0)是屏幕中心坐标,R 是反射电子束与屏幕交点。屏幕上任一晶带轴 在晶体学坐标系下可表示为[hkl],在电子束坐 标系下经衍射放大后存在关系:
q = qB,激发产生的两支布洛赫波 的振幅是一样的;
q > qB,强烈激发第一支布洛赫波; 入射电子受晶体原子的散射机会少, 背散射电子信号弱;
q < qB,强烈激发第二支布洛赫波; 入射电子受晶体原子的散射机会多, 背散射电子信号强;
入射电子束在晶体表面扫描过程中,
电子探测器收到的背散射电子信号
菊池带的自动识别原理
手工:繁重 自动识别问题:有效的定出程度较弱的菊池带
→burns变换、Hough变换 H按ou(gh)变 X换i c:os原始Yi s菊in池变花成样H上ou的gh一空个间点的(一X条iYi正)
选弦曲线,原始图中同一条直线上的不同点在 Hough空间相交于同一点,原始图上的一条直 线对应Hough空间一个点,菊池带的强度大幅 度提高。一条菊池带变换后为一对最亮和最暗 的点,间距为菊池带的宽度p。计算机按前5条 最强的菊池带位置,夹角定出晶面指数和晶带 轴指数并计算出取向。
合布拉格定律:n 2d sin产 生衍射,在(-h-k-l)也
会发生上述衍射,在三维空间中形成两个与反射面法
线成半角 90的圆锥。带入典型的电子波长算出 很小,
两个圆锥可以看为两个圆盘,屏幕与两个圆盘交截时 形成一对平行线,称kikuchi line(菊池带)。整个菊池花 样就是由不同的菊池线对组成。
如果使用的是两条不过花样中心的菊池带,按一 下一般方法确定取向矩阵
设两条菊池带(h1k1l1)( h2k2l2 )和其交点
晶轴[uvw]已标出,以[uvw]为Zp轴,以
(h1k1l1)面得法线[h1k1l1]为Xp轴组成的旋转
矩阵为:
h1 r u
P
k1
s
v
l1 t w
式中,[rst]是Zp、Xp叉乘定出Yp轴。该矩阵不是 真正的样品坐标系(X-Y-Z)想对于晶体坐标系 的关系,所以还要将该坐标系( Xp-Yp-Zp )转 到与样品坐标系(X-Y-Z)重合,即要分别绕Xp, Yp,Zp转αßγ角。对应旋转矩阵为:
背反射电子能量高,它们以直线轨迹逸出样品表 面,对于背向检测器的样品表面,因检测器无法收 集到被反射电子,而掩盖了许多有用的细节。因此, BE形貌分析效果远不及SE,故一般不用BE信号 。
2、成分衬度—成分分析:
成分衬度是由试样微区的原 子序数或化学成分的差异所 形成的。背散射电子大部分 是受原子反射回来的入射电 子,受核效应的影响较大。
SEM的工作原理示意图
电子枪发射出电子束,经栅极 聚焦,在加速电压作用下,经 过二至三个电磁透镜所组成的 电子光学系统,电子束会聚成 一个细的电子束聚焦在样品表 面。 在末级透镜上装有扫描线圈, 在它的作用下使电子束在样品 表面扫描。
高能电子束与样品物质的交互作用,产生了各种信 息:二次电子、背反射电子、吸收电子、X射线、 俄歇电子、阴极发光和透射电子等。
BE进行成分分析时,为避 免形貌衬度对原子序数衬 度的干扰,被分析的样品 只进行抛光,而不必腐蚀。
3、通道花样衬度—晶体结构分析
电子通道效应 若扫描角幅值2γ聚焦电子束在样品表面扫描时, 入射角>2θB, 则扫描过程中θ的变化出现三种情 况:
根据电子衍射动力学 原理,入射电子波与 晶体内周期性电位分 布(位能场)的相互 作用的结果,激发出 两支布洛赫波。
确定各菊池带的晶面指数类型,由确定的3个 晶面指数(h1k1l1)( h2k2l2 )( h3k3l3)依次 算出3个菊池带相交的晶带轴的晶向指数
[u1v1w1][u2v2w2][u3v3w3]
通过量出3个菊池极间距离结合已知的相机长 度L算出相应的夹角122313,通过自洽原则定 出具体的、唯一的晶带轴
1
A
0
0
0
cos sin
0
sin
cos
cos
B
0
sin
0 1 0
sin cos
0
cos
C
sin
0
sin cos
0
0
0
1
最终取向矩阵为: g A • B• C • P
在底板上确定αßγ时,要通过测量距离求角
度(AB、OB),因此要使用相机常数数据。
SEM下三种坐标系变换及取向确定原理
探头屏幕与电子束平行(此时与70°倾 转样品表面成20°)情况下,倾转的样 品坐标系CSsa与电子束坐标系CSbe的关系:
e1sa e2sa
0 1
e3sa 0
sin 70 0
cos 70
cos 70 0

e1be e2be
sin 70 e3be
即 e1sa sin 70e2be cos 70e3be e2sa e1be
EBSD分辨率
EBSD空间分辨率低于扫描电镜图像的分 辨率(3nm),为200~500nm。角分辨 率精度为1°。样品倾斜,电子在样品表 面作用区不对称,造成电子束在水平和 垂直方向分辨率有差异。
影响因素:样品材料、样品在电镜试样 室的几何位置、加速电压、灯丝电流和 花样的清晰度。
菊池带宽度对应2 正比于衍射晶面面间距
不同菊池带夹角代表晶面间夹角 所以可以由此确定晶体结构以及空间位置
与TEM 下的菊池带相比,主要有两个差异:
EBSD 图捕获的角度范围比TEM下大的多,可超过 70°(TEM下约20°),这是实验设计所致,便于标定或 鉴别对称元素;
EBSD中的菊池带不如TEM下的清晰,这是电子传输 函数不同所致.带的亮度高;带的边线强度低.TEM下 从菊池带测量的数据精度高。
形貌分析
扫描线圈 使电子束偏转,并在样品 表面作有规则的扫动,电 子束在样品上的扫描动作 和显像管上的扫描动作严 格同步,由同一扫描发生 器控制。
电子通道花样分析
样品室 功 能:放置样品,安装信号探测器 样品台能进行平移、倾斜和转动等运动。
新式电镜的样品室带有各种附件,可使样品在样品台 上加热、冷却和进行机械性能试验。
强度分布见图,因此,一组晶面将
产生一条具有暗边缘的亮带,其方
位就是相应衍射晶面的方位,其宽 度取决于衍射晶面的布拉格角qB的 大小。
晶体中不同的晶面有不同的qB和方 位,相应亮带具有不同宽度和方位,
在荧光屏或照相底片上形成不同宽 度和方位亮带组成的电子通道花样。
电子通道花样的获得
1) 扫描电子通道花样: 入射电子束在样品表面 大角度光栅扫描 扫描角幅值7—70 扫描振幅 5mm
信号收集处理系统
二次电子,背散射电子,透镜电子等信号都可用闪 烁计数器检测。
信号电子进入闪烁体即引起电离,当离子和自由电子 复合后产生可见光。可见光信号通过光导管送入光电 倍增器,光信号放大,又转化成电流信号输出,电流 信号经视频放大后成为调制信号。
真空系统
为保证电子光学系统的正常工作,对真空度有一定要 求。 真空度 > 1.33×10-2~1.33×10-3Pa 冷场发射真空度一般要达到:10-7 Pa
取向标定原理
确定样品表面在某一晶粒内的晶体取向 步骤:
确定菊池带或晶带轴的晶体学指数; 确定这些带或极轴相对于样品坐标系的相
对取向。 TEM标定 SEM标定
TEM下取向确定原理
菊池花样就是各晶面放大后被屏幕截出 的图案,知道菊池花样上3条不平行的菊 池带间夹角或菊池轴间距离,菊池花样 汇中心距衍射试样表面距离,对比晶体 学库中的理论夹角等,吻合的话,可以 确定晶面指数、晶带轴指数,并根据菊 池带相对于样品坐标系的方向算出晶粒 取向。
SEM下标定晶粒取向相对麻烦,因为样品被倾 转,样品表面与投影屏不再平行,需要坐标变 换。
样品台(电子束)坐标系CSm;倾转70°后坐标 系CS1;EBSD探头磷屏坐标系CS3;探头距离 DD表示探头与样品表面分析点的屏间距;菊池 花样中心坐标PC(不是屏幕中心)是倾斜表面 菊池花样分析点到屏幕的最近点。
背散射电子
BE(背散射电子)衬度原理
背散射电子像既可以用来显示形貌衬度,也可以用 来显示成分衬度等。
背射电子(BE):被试样反弹回 来的入射电子,能量较高> 50eV,来自表层几微米深。
1.形貌衬度—形貌分析:
轻元素,电子束与样品作用产生一“滴状”作用体 积。BE在较深的扩展体积内弹出,分辨率大为降低。 重元素,作用体积为“半球状”,因此分辨率较低, BE和SE(二次电子)分辨率差明显变小。
扫描电镜
SEM构造及原理:
构造:电子光学系统 信号收集处理系统 真空系统 供电系统
电子光学系统: 包括电子枪、电磁透镜、扫描线圈和样品室。
电子枪 SEM 中的电子枪与TEM 中的相似,但加速电压更低。 热阴极电子枪 ,束斑可达6nm 。六硼化镧和场发射 电子枪,束斑更小。
电磁透镜(3个) 功 能: 聚焦电子枪束斑,50mm→nm级斑点。 前二者:强透镜,缩小电子束光斑 第三个:弱透镜,习惯称物镜,有较长的焦距, 使样品和透镜之间留有一定空间以装入 各种信号探测器。 SEM中束斑越小,成像单元越小,分辨率就愈高。
• 数据处理与分析应用软件,仪器工作时,样品 表面相对于入射电子束需要大角度倾斜(约70°)
背散射电子衍射数据获取的主要原理
不论是在TEM 下还是SEM 下,获取结构取向信息的基 本过程都是通过电子衍射得到与不同晶面直接对应的菊 池带衍射花样(或衍射斑花样)。
菊池带产生原理
菊池带产生原理图
当电子束撞击试样时会产生背散射电子,某些背散射 电子方向刚好与该晶体某特定晶格平面(hkl)夹角符
EBSD改变了以往织构分析的方法(X-ray 衍射仪法),并形成了全新的科学领域,称 为“显微织构”———将显微组织和晶 体学分析相结合。
EBSD实验条件与工作原理
背散射电子衍射仪是SEM的附件,基本组成包括:
• 高灵敏度CCD相机 • 数据采集软件,用于电子束外部扫描控制、信 号采集、衍射花样自动识别标定
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