2.1 二极管的开关特性

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图2‘ 本征半导体内部结构图
N型半导体
电子技术基础之数字电路
++++++++++ ++++++++++ ++++++++++ ++++++++++
图3 N型半导体电结构示意图 在N型半导体中自由电子是多数载流子,空穴是少数 载流子。同时还存在大量不能自由移动的正离子。
P型半导体
电子技术基础之数字电路
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图4 P型半导体电结构示意图
在P型半导体中空穴是多数载流子,自由电子是少数载流 子。同时还存在大量不能自由移动的负离子。
PN结的形成
扩散尚未进行时(图5)
P
N
-------+ + + + + + +
------------- + + + + + + +
-------+ + + + + + + -------------+ + + + + + +
已形成的PN结(图6)
电子技术基础之数字电路
-------+ + + + + + +
-------
P
------- + + + + + + +
N
-------+ + + + + + +
-------
-------+ + + + + + +
电子技术基础之数字电路
2.1.2 二极管的开关特性
1. 静态特性及开关等效电路
正向导通时,UD(ON)≈0.7(硅) 、 0.3V(锗)
RD≈几Ω ~几十Ω 相当于开关闭合
二极管的伏安特性曲线
电子技术基础之数字电路
开启电压
二极管的伏安特性曲线
理想化 伏安特 性曲线
二极管的开关等效电路 (a) 导通时 (b) 截止时
RL
–VR
i

IF
O
–IR
ts称为存储时间 tt称为渡越时间 tre=ts+tt称为反向恢复时间
t1
t
tS tt
t
0.1IR
二极管的实际开关特性
电子技术基础之数字电路
加正向电压时的电荷存储效应(图9)
P
N
E
I F VF
RL
当外加正向电压时,PN结很窄,且在N区具有空穴的浓 度梯度,在P区具有自由电子的浓度梯度,正向电流越 大,浓度梯度也越大。即在P区和N区中有大量的载流 子存储。
电子技术基础之数字电路
加反向电压时的反向恢复时间(图10)
P
N
E VD
VR I R RL
反向恢复时间由存储时间和渡越时间组成,存储时间 对应于存储电荷消散的时间,渡越时间对应于阻挡层 变宽的时间。
2.1.1半导体二极管的工作原理
电子技术基础之数字电路
半导体二极管(Diode)结构示意图(图1)
正极
PN
负极 正极
D
负极
引线 外壳
PN结
(a)内部结构示意图
引线
(b)电路符号
图1-0-1 晶体二极管内部结构示意图及相应的电路符号
电子技术基础之数字电路
图2 本征半导体内部结构图
电子技术基础之数字电路
反向截止时 反向饱和电流极小 反向电阻很大(约几百kΩ) 相当于开关断开
电子技术基础之数字电路
二极管的伏安特性曲线
二极管的开关特性
vi
VF
D
O
+ vi
+ VD –
RL
–VR i

IF
O
–IR
电子技术基础之数字电路
t1
t
t
二极管的理想开关特性
电子技术基础之数字电路
vi
VF
D
O
+ vi
+ VD –
第2章 逻辑门电路
2.1 二极管的开关特性 2.2 三极管的开关特性 2.3 基本逻辑门电路 2.4 TTL逻辑门电路 2.6 CMOS逻辑门电路
电子技术基础之数字电路
电子技术基础之数字电路
2.1 二极管及其开关特性
2.1.1 二极管的工作原理 2.1.2 二极管的开关特性
要求:理解二极管的基本工作原理和主要开关参数
内电场E i
外加电压的正极接P区,负极接N区,此时阻挡层变窄,正 向电流较大。管子处于导通状态。
给二极管加反向电压(图8)
电子技术基础之数字电路
P
N
-------+ + + + + + +
-------------+ + + + + + +
-------+ + + + + + + -------------+ + + + + + +
内电场E i
外加电压的正极接N区,负极接P区,此时阻挡层变宽,反向电流极小。 管子处于截止状态。
电子技术基础之数字电路
二极管加正向电压时,具有较大的正向扩散电流,
呈现低电阻。
D
+ vi
+ VD –
RL

加反向电压时,具有很小的反向漂移电流,呈现高电阻。
D
+ +–
vi
RL

这就是二极管(PN结)的单向导电性。也就是二极 管的开关特性。
内电场E
PN结又叫做耗尽区(Depletion Region)、阻挡层、势垒区(Barrir Region).
给二极管加正向电压(图7) P
电子技术基础之数字电路
N
-------+ +++++ +
-------------++++++ +
------ -+ + + + + + + -------------+ + + + + + +
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