凹印制版技术的发展现状和特点

书山有路勤为径；学海无涯苦作舟

凹印制版技术的发展现状和特点

凹印制版的发展历程

1962年HELL公司涉足凹印印前领域，生产山第一台采用了模拟电

子技术的凹印电子雕刻机。

70年代中期，数字式的电子雕刻技术面世。

80年代初，凹印制版采用了电子计算机控制模式。

90年代初，凹印制版实现了计算机直接制版技术。

1995年，出现激光刻膜腐蚀制版技术。

1997年，凹印实现了开放式的工作流程。

1998年，凹印制版实现了高速雕刻-8000Hz。

2001年，激光直接雕刻锌滚筒面世。

2003年，超精屯子雕刻技术面世。

2004年，12800Hz的超高速雕刻技术面世。

2005年，激光直接雕刻铜滚筒技术面世。

凹印制版的方式

世界凹印制版方式大体分为三种：手工腐蚀制版，包括碳素质腐蚀

制版法和布兰腐蚀制版法。电子雕刻制版法。激光制版法，包括激光曝光腐蚀法、激光刻膜腐蚀和激光直接雕刻制版法。

凹印主要的应用领域

从世界范围看，凹印主要应用于四大领域：出版领域、包装领域、

纺织领域和装饰领域。

出版领域是电雕机发明的原因.该领域要求制版速度快、滚筒幅面

大（可达到4.8米）处理的信息大，多通道（最多16个通道）同时雕刻；

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