【课件】TEM(清华大学)
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• 在这种情况下,样品减薄技术具有许多特点,特别是金 属薄膜样品 • 也适合薄膜样品的制备; • 对于薄膜样品还可以采用薄膜与基底材料剥离的方法制 备样品;如在NaCl基底上沉积样品等;
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表面与材料实验室
22
减薄的特点
1. 可以最有效地发挥电镜的高分辨率本领;
2. 能够观察金属及其合金的内部结构和晶体缺陷, 并能对同一微区进行衍衬成像及电子衍射研究, 把性貌信息于结构信息联系起来; 3. 能够进行动态观察,研究在变温情况下相变的 生核长大过程,以及位错等晶体缺陷在引力下 的运动与交互作用。
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3
透射电镜的基本原理
• 阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。不 仅可以在物镜的像平面获得放大的电子像,还可以在物镜的后 焦面处获得晶体的电子衍射谱,其成像原理图见图
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4
阿贝光栅成像原理
• 成像系统光路图如图所示。 • 当来自照明系统的平行电子束投射 到晶体样品上后,除产生透射束外 还会产生各级衍射束,经物镜聚焦 后在物镜背焦面上产生各级衍射振 幅的极大值。
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19
碳萃取复型技术
• 按一般金相样品要求对样品进行磨削和抛光;
• 选择适当溶剂进行腐蚀,要求这种腐蚀剂既能溶 去基体,又不会腐蚀第二相颗粒;
• 清洗腐蚀产物;
• 将样品表面镀碳;
• 通过电解脱膜,并将碳膜清洗,用铜网捞起。
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20
典型复型的应用
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26
电子Biblioteka Baidu射特点
• • • 电子衍射可与物像的形貌观察结合起来,使人们能在高 倍下选择微区进行晶体结构分析,弄清微区的物象组成; 电子波长短,使单晶电子衍射斑点大都分布在一二维倒 易截面内,这对分析晶体结构和位向关系带来很大方便; 电子衍射强度大,所需曝光时间短,摄取衍射花样时仅 需几秒钟。
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29
电子衍射原理
• 图是电子衍射示意图。
• Rd=Lλ 。其中R为衍射斑点 与透射斑点的距离。d为晶 面的晶面间距, λ 为入射 电子波的波长,L为样品到 底片的距离。 • 可以用于相机常数的测定, 一般用金来进行标定。
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30
多晶金的电子衍射图
• 对于透射电镜常用的加速电压100KV,如果样品是金 属其平均原子序数在Cr的原子附近,因此适宜的样品 厚度约200纳米。
清华大学化学系 表面与材料实验室 13
样品制备
• 对于块体样品表面复型技术和样品减薄技术是制 备的主要方法。 • 对于粉体样品,可以采用超声波分散的方法制备 样品。 • 对于液体样品或分散样品可以直接滴加在Cu网上;
复型的典型应用 a)珠光体组织 b) 准解理断口 c)断口萃取复型
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21
减薄样品
• 复型技术只能对样品表面性貌进行复制,不能揭示晶体 内部组织结构信息,受复型材料本身尺寸的限制,电镜 的高分辨率本领不能得到充分发挥,萃取复型虽然能对 萃取物相作结构分析,但对基体组织仍是表面性貌的复 制。
• 随着纳米材料的研究,TEM研究重点转向粉体材料;
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15
制备复型的材料特点
• 本身必须是“无结构”的(或“非晶体”的),也 就是说,为了不干扰对复制表面形貌的观察,要求 复型材料即使在高倍(如十万倍)成像时,也不显 示其本身的任何结构细节。 必须对电子束足够透明(物质原子序数低); 必须具有足够的强度和刚度,在复制过程中不致破 裂或畸变;
• •
•
•
必须具有良好的导电性,耐电子束轰击;
最好是分子尺寸较小的物质---分辨率较高。
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16
塑料-碳二级复型技术
• 是复型制备中最稳定和应用最广泛的一种技术。 • 特点是:在样品制备过程中不损坏样品表面,重 复性好,导热性好。
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17
具体制备方法
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25
电子衍射
• 所用的电子束能量在102~106eV的范围内。 • 电子衍射与X射线一样,也遵循布拉格方程。
• 电子束衍射的角度小,测量精度差。测量晶体 结构不如XRD。
• 电子束很细,适合作微区分析 • 因此,主要用于确定物相以及它们与基体的取 向关系以及材料中的结构缺陷等。
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23
薄膜的制备
• 要求对电子束透明,样品制备过程不影响其原有 的结构,样品不能太厚,应该尽量减少非弹性散 射所造成的影响。如色差,衬度的降低等。 • 一般可采用线切割到0.20-0.30mm,然后机械研磨 到100微米,再经化学抛光到100微米,最后可用 离子束减薄到合适厚度。
• 每一振幅极大值都可看作是次级相 干波源,由它们发出的波在像平面 上相干成像,这就是阿贝光栅成像 原理。
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5
与光学显微镜的比较
• 光学显微镜的分辨率不可能高于200nm,限制因素是光波 的波长。 • 加速电压为100 KV的电子束的波长是0.0037nm。最小分 辨率可达0.002nm左右,因此,电子波的波长不是分辨率 的限制因素。球差和色差是分辨率的主要限制因素。 • 透射电镜可以获得很高的放大倍数150万倍。可以获得原 子象。
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31
选区电子衍射
1. 通过在物镜像平面处插入一个孔径可变化的选区 光阑,让光阑的孔只套住我们感兴趣的那个微区, 那么光阑以后的成像电子束将被挡住,只有该微 区的成像电子束才能通过光阑进入中间镜和投影 镜参与成像。
2. 当把成像操作变换为衍射操作后,就可以获得选 区的电子衍射花样。在选区衍射中还应该注意选 区与衍射的不对应性。
清华大学化学系 表面与材料实验室 18
萃取复型技术
• 其目的是如实地复制样品表面的形貌,同时又把细小的第 二相颗粒(如金属间化合物,碳化物和非金属夹杂物等) 从腐蚀的金属表面萃取出来,被萃取出的细小颗粒的分布 与它们原来在样品中的分布完全相同,因而复型材料就提 供了一个与基本结构一样的复制品。 • 萃取出来的颗粒具有相当好的衬度,还可以在电镜下做电 子衍射分析。萃取复型的方法很多,最常用的是碳萃取复 型和火棉胶-碳二次萃取复型方法。
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24
电子衍射
• 利用透射电镜进行物相形貌观察,仅是一种较为 直接的应用。
• 透射电镜还可得到另外一类图像---电子衍射图。 图中每一斑点都分别代表一个晶面族,不同的电 子衍射谱图又反映出不同的物质结构。 • 电子衍射主要研究金属,非金属以及有机固体的 内部结构和表面结构
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27
电子衍射原理
• 当波长为l 的单色平面电子波以入射角q照射到晶 面间距为d的平行晶面组时,各个晶面的散射波干 涉加强的条件是满足布拉格关系: 2dsinq =nl • 入射电子束照射到晶体上,一部分透射出去,一 部分使晶面间距为d的晶面发生衍射,产生衍射束。
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表面与材料实验室
32
选区电子衍射
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33
单晶衍射花样
由于单晶电子衍射谱直接反映晶体的倒易陈点配置, 衍射花样简单,可以通过计算获得晶体对称性,点
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6
放大原理
• 透射电子显微镜中,物镜、中间镜,透镜是以 积木方式成像,即上一透镜的像就是下一透镜 成像时的物,也就是说,上一透镜的像平面就 是下一透镜的物平面,这样才能保证经过连续 放大的最终像是一个清晰的像。 • 在这种成像方式中,如果电子显微镜是三级成 像,那么总的放大倍数就是各个透镜倍率的乘 积。
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14
表面复型技术
• 所谓复型技术就是把金相样品表面经浸蚀后产生的显微组 织浮雕复制到一种很薄的膜上,然后把复制膜(叫做“复 型”)放到透射电镜中去观察分析,这样才使透射电镜应 用于显示金属材料的显微组织有了实际的可能。
• 常见的复型: 塑料一级复型,碳一级复型,塑料碳二级 复型,萃取复型。
表面与材料实验室
28
电子衍射原理
• 当一电子束照射在单晶体薄膜上时,透射束穿过薄膜到 达感光相纸上形成中间亮斑;衍射束则偏离透射束形成 有规则的衍射斑点 • 对于多晶体而言,由于晶粒数目极大且晶面位向在空间 任意分布,多晶体的倒易点阵将变成倒易球。倒易球与 爱瓦尔德球相交后在相纸上的投影将成为一个个同心圆。 • 电子衍射结果实际上是得到了被测晶体的倒易点阵花样, 对它们进行倒易反变换从理论上讲就可知道其正点阵的 情况――电子衍射花样的标定。
清华大学化学系 表面与材料实验室 11
真空部分
• 为了保证电子运动,减少与空气分子的碰撞,因此所有 装置必须在真空系统中,一般真空度为10-2~10-4Pa。
• 利用场发射电子枪时,其真空度应在10-6-10-8Pa左右。
• 可采用机械泵,油扩散泵,分子泵等来实现。
• 目的:延长电子枪的寿命,增加电子的自由程,减少电 子与残余气体分子碰撞所引起的散射以及减少样品污染。
• 新型电镜均采用机械泵,分子泵系统
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12
样品制备
• 透射电子显微镜利用穿透样品的电子束成像,这就要 求被观察的样品对入射电子束是“透明”的。
• 电子束穿透固体样品的能力主要取决于加速电压和样 品的物质原子序数。 • 一般来说,加速电压越高,样品原子序数越低,电子 束可以穿透样品的厚度就越大。
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10
成像部分
• 样品室位于照明部分和物镜之间,一般还可以配置加 热,冷却和形变装置。 • 物镜是最关键部分,透射电镜分辩本领的好坏在很大 程度上取决于物镜的优劣。物镜的最短焦距可达1mm, 放大倍率~ 300 倍,最佳理论分辨率可达 0.1nm ,实际 分辨率可达0.2nm。 • 加在物镜前的光阑称为物镜光阑,主要是为了缩小物 镜孔径角的作用。 • 加在物镜后的光阑称为衬度光阑,可以提高振幅衬度 作用。此外在物镜极X附近还装备有消象散器和防污染 装置。 • 中间镜和投影镜和物镜相似,但焦距较长。主要是将 来自物镜的电子象继续放大。 • 目前可以采用CCD成像,不再需要照相系统了
透射电镜分析
透射电子显微镜在形貌分析上的应用
• • • • • • •
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基本知识 透射电镜原理 透射电镜的结构 电子衍射原理 高分辨透射电镜 样品制备 材料应用
表面与材料实验室 2
基础知识
• 1924年,de Broglie提出波粒二象性 假说 • 1926年,Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束 • 1933年,柏林大学研制出第一台电镜(点分辨率达到 50nm) • 1939年,德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜 (点分辨率10nm) • 1950年 ,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm, 晶格条纹分辨率由于0.14nm) • 1956年 ,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开 创了高分辨电子显微术, 获得原子象。
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表面与材料实验室
7
透射电镜的放大倍数
• • • • 总放大倍数M总=M物×M中×M投 物镜成像是分辨率的决定因素 物镜放大倍率,在50-100范围; 中间镜放大倍率,数值在0-20范 围; • 投影镜放大倍率,数值在100150范围 • 总放大倍率在1000-200,000倍内
清华大学化学系
• 在样品表面滴上一滴丙酮,然后用AC纸贴在样品表面, 不留气泡,待干后取下。反复多次清除样品表面的腐 蚀物以及污染物。最后一张AC纸就是需要的塑料一级 复型。 • 把复型纸的复型面朝上固定在衬纸上。利用真空镀膜 的方法蒸镀上重金属,最后再蒸镀上一层碳,获得复 合复型。
• 将复合复型剪成直径3mm的小片,放置到丙酮溶液中, 待醋酸纤维素溶解后,用铜网将碳膜捞起。经干燥后, 样品就可以进行分析了。详细过程见图。
表面与材料实验室
8
透射电镜的结构
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表面与材料实验室
9
TEM的结构
• 主要由照明系统,样品室,成像系统,图像观察 和记录系统组成。
• 其中照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。
• 成像部分主要由样品室,物镜,中间镜和投影镜 等装置组成。
• 图像观察和记录系统:主要由荧光屏,照相机, 数据显示等部件组成。
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22
减薄的特点
1. 可以最有效地发挥电镜的高分辨率本领;
2. 能够观察金属及其合金的内部结构和晶体缺陷, 并能对同一微区进行衍衬成像及电子衍射研究, 把性貌信息于结构信息联系起来; 3. 能够进行动态观察,研究在变温情况下相变的 生核长大过程,以及位错等晶体缺陷在引力下 的运动与交互作用。
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3
透射电镜的基本原理
• 阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。不 仅可以在物镜的像平面获得放大的电子像,还可以在物镜的后 焦面处获得晶体的电子衍射谱,其成像原理图见图
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4
阿贝光栅成像原理
• 成像系统光路图如图所示。 • 当来自照明系统的平行电子束投射 到晶体样品上后,除产生透射束外 还会产生各级衍射束,经物镜聚焦 后在物镜背焦面上产生各级衍射振 幅的极大值。
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19
碳萃取复型技术
• 按一般金相样品要求对样品进行磨削和抛光;
• 选择适当溶剂进行腐蚀,要求这种腐蚀剂既能溶 去基体,又不会腐蚀第二相颗粒;
• 清洗腐蚀产物;
• 将样品表面镀碳;
• 通过电解脱膜,并将碳膜清洗,用铜网捞起。
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典型复型的应用
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电子Biblioteka Baidu射特点
• • • 电子衍射可与物像的形貌观察结合起来,使人们能在高 倍下选择微区进行晶体结构分析,弄清微区的物象组成; 电子波长短,使单晶电子衍射斑点大都分布在一二维倒 易截面内,这对分析晶体结构和位向关系带来很大方便; 电子衍射强度大,所需曝光时间短,摄取衍射花样时仅 需几秒钟。
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29
电子衍射原理
• 图是电子衍射示意图。
• Rd=Lλ 。其中R为衍射斑点 与透射斑点的距离。d为晶 面的晶面间距, λ 为入射 电子波的波长,L为样品到 底片的距离。 • 可以用于相机常数的测定, 一般用金来进行标定。
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30
多晶金的电子衍射图
• 对于透射电镜常用的加速电压100KV,如果样品是金 属其平均原子序数在Cr的原子附近,因此适宜的样品 厚度约200纳米。
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样品制备
• 对于块体样品表面复型技术和样品减薄技术是制 备的主要方法。 • 对于粉体样品,可以采用超声波分散的方法制备 样品。 • 对于液体样品或分散样品可以直接滴加在Cu网上;
复型的典型应用 a)珠光体组织 b) 准解理断口 c)断口萃取复型
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21
减薄样品
• 复型技术只能对样品表面性貌进行复制,不能揭示晶体 内部组织结构信息,受复型材料本身尺寸的限制,电镜 的高分辨率本领不能得到充分发挥,萃取复型虽然能对 萃取物相作结构分析,但对基体组织仍是表面性貌的复 制。
• 随着纳米材料的研究,TEM研究重点转向粉体材料;
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15
制备复型的材料特点
• 本身必须是“无结构”的(或“非晶体”的),也 就是说,为了不干扰对复制表面形貌的观察,要求 复型材料即使在高倍(如十万倍)成像时,也不显 示其本身的任何结构细节。 必须对电子束足够透明(物质原子序数低); 必须具有足够的强度和刚度,在复制过程中不致破 裂或畸变;
• •
•
•
必须具有良好的导电性,耐电子束轰击;
最好是分子尺寸较小的物质---分辨率较高。
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塑料-碳二级复型技术
• 是复型制备中最稳定和应用最广泛的一种技术。 • 特点是:在样品制备过程中不损坏样品表面,重 复性好,导热性好。
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17
具体制备方法
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25
电子衍射
• 所用的电子束能量在102~106eV的范围内。 • 电子衍射与X射线一样,也遵循布拉格方程。
• 电子束衍射的角度小,测量精度差。测量晶体 结构不如XRD。
• 电子束很细,适合作微区分析 • 因此,主要用于确定物相以及它们与基体的取 向关系以及材料中的结构缺陷等。
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薄膜的制备
• 要求对电子束透明,样品制备过程不影响其原有 的结构,样品不能太厚,应该尽量减少非弹性散 射所造成的影响。如色差,衬度的降低等。 • 一般可采用线切割到0.20-0.30mm,然后机械研磨 到100微米,再经化学抛光到100微米,最后可用 离子束减薄到合适厚度。
• 每一振幅极大值都可看作是次级相 干波源,由它们发出的波在像平面 上相干成像,这就是阿贝光栅成像 原理。
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与光学显微镜的比较
• 光学显微镜的分辨率不可能高于200nm,限制因素是光波 的波长。 • 加速电压为100 KV的电子束的波长是0.0037nm。最小分 辨率可达0.002nm左右,因此,电子波的波长不是分辨率 的限制因素。球差和色差是分辨率的主要限制因素。 • 透射电镜可以获得很高的放大倍数150万倍。可以获得原 子象。
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选区电子衍射
1. 通过在物镜像平面处插入一个孔径可变化的选区 光阑,让光阑的孔只套住我们感兴趣的那个微区, 那么光阑以后的成像电子束将被挡住,只有该微 区的成像电子束才能通过光阑进入中间镜和投影 镜参与成像。
2. 当把成像操作变换为衍射操作后,就可以获得选 区的电子衍射花样。在选区衍射中还应该注意选 区与衍射的不对应性。
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萃取复型技术
• 其目的是如实地复制样品表面的形貌,同时又把细小的第 二相颗粒(如金属间化合物,碳化物和非金属夹杂物等) 从腐蚀的金属表面萃取出来,被萃取出的细小颗粒的分布 与它们原来在样品中的分布完全相同,因而复型材料就提 供了一个与基本结构一样的复制品。 • 萃取出来的颗粒具有相当好的衬度,还可以在电镜下做电 子衍射分析。萃取复型的方法很多,最常用的是碳萃取复 型和火棉胶-碳二次萃取复型方法。
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电子衍射
• 利用透射电镜进行物相形貌观察,仅是一种较为 直接的应用。
• 透射电镜还可得到另外一类图像---电子衍射图。 图中每一斑点都分别代表一个晶面族,不同的电 子衍射谱图又反映出不同的物质结构。 • 电子衍射主要研究金属,非金属以及有机固体的 内部结构和表面结构
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电子衍射原理
• 当波长为l 的单色平面电子波以入射角q照射到晶 面间距为d的平行晶面组时,各个晶面的散射波干 涉加强的条件是满足布拉格关系: 2dsinq =nl • 入射电子束照射到晶体上,一部分透射出去,一 部分使晶面间距为d的晶面发生衍射,产生衍射束。
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选区电子衍射
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单晶衍射花样
由于单晶电子衍射谱直接反映晶体的倒易陈点配置, 衍射花样简单,可以通过计算获得晶体对称性,点
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6
放大原理
• 透射电子显微镜中,物镜、中间镜,透镜是以 积木方式成像,即上一透镜的像就是下一透镜 成像时的物,也就是说,上一透镜的像平面就 是下一透镜的物平面,这样才能保证经过连续 放大的最终像是一个清晰的像。 • 在这种成像方式中,如果电子显微镜是三级成 像,那么总的放大倍数就是各个透镜倍率的乘 积。
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14
表面复型技术
• 所谓复型技术就是把金相样品表面经浸蚀后产生的显微组 织浮雕复制到一种很薄的膜上,然后把复制膜(叫做“复 型”)放到透射电镜中去观察分析,这样才使透射电镜应 用于显示金属材料的显微组织有了实际的可能。
• 常见的复型: 塑料一级复型,碳一级复型,塑料碳二级 复型,萃取复型。
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电子衍射原理
• 当一电子束照射在单晶体薄膜上时,透射束穿过薄膜到 达感光相纸上形成中间亮斑;衍射束则偏离透射束形成 有规则的衍射斑点 • 对于多晶体而言,由于晶粒数目极大且晶面位向在空间 任意分布,多晶体的倒易点阵将变成倒易球。倒易球与 爱瓦尔德球相交后在相纸上的投影将成为一个个同心圆。 • 电子衍射结果实际上是得到了被测晶体的倒易点阵花样, 对它们进行倒易反变换从理论上讲就可知道其正点阵的 情况――电子衍射花样的标定。
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真空部分
• 为了保证电子运动,减少与空气分子的碰撞,因此所有 装置必须在真空系统中,一般真空度为10-2~10-4Pa。
• 利用场发射电子枪时,其真空度应在10-6-10-8Pa左右。
• 可采用机械泵,油扩散泵,分子泵等来实现。
• 目的:延长电子枪的寿命,增加电子的自由程,减少电 子与残余气体分子碰撞所引起的散射以及减少样品污染。
• 新型电镜均采用机械泵,分子泵系统
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样品制备
• 透射电子显微镜利用穿透样品的电子束成像,这就要 求被观察的样品对入射电子束是“透明”的。
• 电子束穿透固体样品的能力主要取决于加速电压和样 品的物质原子序数。 • 一般来说,加速电压越高,样品原子序数越低,电子 束可以穿透样品的厚度就越大。
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成像部分
• 样品室位于照明部分和物镜之间,一般还可以配置加 热,冷却和形变装置。 • 物镜是最关键部分,透射电镜分辩本领的好坏在很大 程度上取决于物镜的优劣。物镜的最短焦距可达1mm, 放大倍率~ 300 倍,最佳理论分辨率可达 0.1nm ,实际 分辨率可达0.2nm。 • 加在物镜前的光阑称为物镜光阑,主要是为了缩小物 镜孔径角的作用。 • 加在物镜后的光阑称为衬度光阑,可以提高振幅衬度 作用。此外在物镜极X附近还装备有消象散器和防污染 装置。 • 中间镜和投影镜和物镜相似,但焦距较长。主要是将 来自物镜的电子象继续放大。 • 目前可以采用CCD成像,不再需要照相系统了
透射电镜分析
透射电子显微镜在形貌分析上的应用
• • • • • • •
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基本知识 透射电镜原理 透射电镜的结构 电子衍射原理 高分辨透射电镜 样品制备 材料应用
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基础知识
• 1924年,de Broglie提出波粒二象性 假说 • 1926年,Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束 • 1933年,柏林大学研制出第一台电镜(点分辨率达到 50nm) • 1939年,德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜 (点分辨率10nm) • 1950年 ,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm, 晶格条纹分辨率由于0.14nm) • 1956年 ,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开 创了高分辨电子显微术, 获得原子象。
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透射电镜的放大倍数
• • • • 总放大倍数M总=M物×M中×M投 物镜成像是分辨率的决定因素 物镜放大倍率,在50-100范围; 中间镜放大倍率,数值在0-20范 围; • 投影镜放大倍率,数值在100150范围 • 总放大倍率在1000-200,000倍内
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• 在样品表面滴上一滴丙酮,然后用AC纸贴在样品表面, 不留气泡,待干后取下。反复多次清除样品表面的腐 蚀物以及污染物。最后一张AC纸就是需要的塑料一级 复型。 • 把复型纸的复型面朝上固定在衬纸上。利用真空镀膜 的方法蒸镀上重金属,最后再蒸镀上一层碳,获得复 合复型。
• 将复合复型剪成直径3mm的小片,放置到丙酮溶液中, 待醋酸纤维素溶解后,用铜网将碳膜捞起。经干燥后, 样品就可以进行分析了。详细过程见图。
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8
透射电镜的结构
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TEM的结构
• 主要由照明系统,样品室,成像系统,图像观察 和记录系统组成。
• 其中照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。
• 成像部分主要由样品室,物镜,中间镜和投影镜 等装置组成。
• 图像观察和记录系统:主要由荧光屏,照相机, 数据显示等部件组成。