013-精修A,B类错误的技巧

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SHELXTL程序进行晶体结构分析的方法

SHELXTL程序进行晶体结构分析的方法

y
z
占有率 温度因子
C1 1 0.155832 0.182795 0.318988 11.00000 0.00001
温度因子: 原子是否正确 过大: 偏重 过小: 偏轻
B 进一步精修:
主体结构的确定
各向异性: ANIS 针对温度因子
ANIS 温度因子用六个参数表示,原子的热振动为 取向的三轴椭球
进行这步操作,可以大幅降低R1值和goof值
e 点refine菜单,系统会提示有Q 峰没命名,并 选择所有Q 峰,顺序与原来顺序相同
•删除原子或(Q)峰的方法: a 光标指在欲删除位置(原子或键) ,点K 键
b 光标指在欲删除位置,右手键点Bonds and Angles,再在对话框中点“Delete”
c 光标指在欲删除位置,右手键点“Delete” d 先选择,再点Select菜单中的Kill selected e 在ins文件删除
Most Disagreeable Reflections (* if suppressed or used for Rfree)
m 是一或两位数,指定氢的类型: =1 叔-H, =2 仲-H, =3(或13) 伯-H, =4 芳-H, =8(或14) X-O-H, =9 X=CH2或X-NH2, =15 笼状B-H
n 是一位数,指定固定的类型: =1 坐标、占有率、位移因子固定, =2 占有率、位移因子固定, =3(或7) 坐标固定, =4 同3,但允许修正X-H的键长(方向固定)
4.INS文件的建立和更新
结构解析和精修的过程,是ins文件建立和不 断更新的过程,这主要是下列过程实现的:
xprep、xshell—refine、xl、xp、edit、copy

chechcifAB类错误说明要点

chechcifAB类错误说明要点

关于CIF检测中出现的A,B等类错误的说明,共8 份1-3关于CIF检测中出现的A,B等类错误的说明,共8 份-1般分为8 类,分别为:# _0xx - general # _1xx - cell/symmetry # _2xx - adp-related # _3xx - intra geometry # _4xx - inter geometry # _5xx - coordination geometry # _6xx - void tests# 7xx -various test面我们分几次把问题的简要说明翻译成献给大家,希望能对您有所帮助!_201 检测分子结构主体中各向同性的非氢原子,各向同性在通常的精修中并不常用,只是在处理无序是才用到。

202 检测溶剂分子或阴离子中各向同性的非氢原子211检测主体分子的NPD ADP's 。

检测主体分子中各相异性参数中负值部分212检测溶剂或阴离子分子的NPD ADP's 。

检测溶剂或阴离子分子中各相异性参数中负值部213主体分子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。

_214 溶剂或阴离子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。

_220 检测主体结构非氢原子Ueq(max)/Ueq(Min) 范围。

对比平常之大的比值发出警报。

太高或太低的值表明原子可能定错(i.e. Br versusAg)_221 检测非主体结构非氢原子Ueq(max)/Ueq(Min) 范围。

对比平常之大的比值发出警报_222 检测主体结构氢原子Ueq(max)/Ueq(Min) 范围。

对比平常之大的比值发出警报_223 检测非主体结构氢原子Ueq(max)/Ueq(Min) 范围。

对比平常之大的比值发出警报_230, _233 : Hirschfield 刚性键检查。

相近化学特征的原子应具有相同程度的各相异性参数,无序或过度精修可能会导致大小不一。

利用Photoshop修复照片中的动态范围和色彩平衡

利用Photoshop修复照片中的动态范围和色彩平衡

利用Photoshop修复照片中的动态范围和色彩平衡修复照片中的动态范围和色彩平衡照片中的动态范围和色彩平衡是影响照片质量的重要因素。

在拍摄或者后期处理中,我们常常会遇到照片中有过暗或过亮的局部,或是色彩饱和度不足的情况。

这时候,利用Photoshop来修复照片中的动态范围和色彩平衡将成为一个很好的解决方案。

1. 动态范围修复动态范围指的是一个图像中亮度从最暗到最亮的范围。

在照片拍摄时,由于光线环境的限制,造成照片中某些部分过暗或过亮,失去了细节。

利用Photoshop修复照片的动态范围可以使照片中的暗部和亮部细节都得到保留。

a) 打开照片:在Photoshop中打开需要修复的照片。

b) 调整亮度和对比度:在“图像”菜单中选择“亮度/对比度”选项。

通过调整亮度和对比度来优化照片的整体亮度。

同时,可以通过增加或减少亮度来还原暗部和亮部的细节。

c) 使用曲线工具:在“图像”菜单中选择“调整”选项,然后点击“曲线”选项。

通过调整曲线,可以进一步细致地控制照片的动态范围。

在曲线中拖动点,使得暗部和亮部的细节得到恢复。

d) 调整阴影和高光:在“图像”菜单中选择“调整”选项,然后点击“阴影/高光”选项。

通过调整阴影和高光的参数,可以提高照片中暗部和亮部的细节呈现效果。

2. 色彩平衡修复色彩平衡是指图像中各个颜色通道之间的平衡状态。

在某些情况下,照片中可能会出现色偏或者整体色彩不平衡的问题。

利用Photoshop修复照片的色彩平衡可以使照片中的各种颜色更加真实和饱满。

a) 打开照片:在Photoshop中打开需要修复的照片。

b) 调整色温和色调:在“图像”菜单中选择“调整”选项,然后点击“色温/色调”选项。

通过调整色温和色调的参数,可以更改照片中的整体色彩。

比如增加色温可以使照片呈现暖色调,而减少色温则可以使照片呈现冷色调。

通过调整色调,可以改变照片的整体颜色偏向。

c) 使用色阶工具:在“图像”菜单中选择“调整”选项,然后点击“色阶”选项。

CIF检测中出现的A,B等类错误的说明

CIF检测中出现的A,B等类错误的说明

_211 检测主体分子的NPD ADP's 。检测主体分子中各相异性参数中负值部分
_212 检测溶剂或阴离子分子的NPD ADP's 。检测溶剂或阴离子分子中各相异性参数中负值部
_213 主体分子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。
_214 溶剂或阴离子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。
_023 : Check θmax。检测分辨率。当sin (θ)/λ <0.6时,发布警告。
_024 : 检测优化的平均Friedel 对。对于含有比硅轻的原子的MoKa 数据,平均Friedel 对是优先的。SHELXL97 精修中采用MERG 4。
_025 : 检查 h,k,l范围
_026 : 检查弱点,检查2σ以上的独立数据的衍射是否充分
_021 : 检查 观测衍射数目/期望数目的比值 期待数目对应于劳埃群的不对称单元中的数目。对于中心对称的结构,期望币值为小于或等于1.0;对于非中心对称结构则小于2。超过这些数据可能是:对称性消光没有从观测数据中消除或采用过多的数据进行精修
_022 :检测完整度,检测报道的独立衍射点与期望的给定的分辨率
_070 检测原子标签的重复情况Test for duplicate atom labels
_071 检测是否有无法解释的标签
_080 检测最大的漂移/误差 比值 maximum shift/error
_081 检测给出的漂移/误差 比值Test for maximum shift/error given
当氢原子按照理想位置参与计算时
_412 & _413报告CH3 H-atoms的相互作用,这些氢最好采用理论计算方法获取。

单晶结构解析 作业

单晶结构解析 作业

1.叙述你所了解的晶体生长的方法,适用范围及其优缺点。

答:我现在接触到的有溶液法、界面扩散法、气相扩散发、凝胶扩散法、水热法、溶剂热法、升华法、冷却法、提拉法等(1)溶液法:从溶液中将化合物结晶出来是单晶生长的最常用形式,通过冷却或蒸发化合物的饱和溶液,让化合物结晶出来。

要注意所用容器壁的光滑度、缓慢蒸发、过程要在非振动的环境中,适合互溶体系,接触不会立即产生沉淀的体系。

(2)界面扩散法:适用于化合物有两种反应物反应生成,而两种反应物可以分别溶于不同的(尤其是不太互溶的)溶剂中,可以用溶液界面这种方法。

如果在界面处产生沉淀则可以适量加入中间缓冲层进一步降低扩散速率。

(3)蒸汽扩散法:操作比较简单,选择两种对目标化合物溶解度不同的溶剂A和B,且A 和B有一定的互溶性。

把要结晶的化合物溶解在小容器中的溶解度大的溶剂中,将溶解度小的溶剂B放在较大的容器中。

盖上盖子,大容器中的溶剂B就会扩散到小容器中,A、B 相互扩散,将小容器中的溶剂变为A和B的混合溶剂,从而降低化合物的溶解度,迫使它不断结晶出来。

(4)凝胶扩散法:适用于反应物L和M快速反应,并生成难容产物的情况,可以使用普通试管或U型管作为反应容器。

(5)水热法:如果要获得在溶剂中十分难容的化合物的晶体可以尝试水热法和溶剂热法。

具体做法是将这些难溶的化合物与水溶液或有机溶剂一起放在密闭的耐高压容器中,将混合物加热到高温,容器中压力也可达到几百个大气压,导致很多化合物在超临界溶液中溶解并在慢慢降温过程中结晶。

(6)升华法:升华法能长出好的晶体。

理论上,任何在分解温度以下的温度区间具有较大蒸汽压的固体物质均可采用这种非溶剂结晶方式来培养单晶。

但是因为符合升华条件要求的物质不是很多以及其他因素,该方法比较少用。

(6)提拉法2.SHELXTL主要子程序XPREP,XS,XLS,XP,XCIF的功能是什么?简述结构解析流程。

答:XPREP程序主要用于利用经过还原的衍射数据,确定晶体的空间群、转换晶胞参数和晶系、对衍射数据进行吸收校正、合并不同科晶体的衍射数据、对衍射数据进行统计分析、画出倒易空间图和帕特森截面图、输出其他程序所需的文件等。

013-精修A,B类错误的技巧

013-精修A,B类错误的技巧

013晶体解析心得精修AB类错误的技巧PLAT412_ALERT_2_C Short Intra XH3 .. XHn H9 .. H13C ..1.87 Ang.对策:在Ins文件中添加Dfix 2.45 0.01 h9 h13c 指令,XL→ XL.(尝试调整比1.87大的数)范例:wq-5-36-2PLAT413_ALERT_2_B Short Inter XH3 .. XHn H2D .. H2D ..2.06 Ang.对策:在Ins文件中添加Dfix 2.52 0.01 h2d h2d 指令,XL→ XL.(尝试调整比2.06大的数)范例:Wq1-5PLAT430_ALERT_2_B Short Inter D...A Contact O2 .. N1 ..2.66 Ang.dfix 2.80 0.01 o2 n1PLAT230_ALERT_2_B Hirshfeld Test Diff for O2 -- C10 .. 7.15 suPLAT431_ALERT_2_C Short Inter HL..A Contact Cl1 .. N3 .. 3.11 Ang.dfix 2.90 0.01 o2 n1无B类错误,但是Cl1 .. N3 .. 3.11 Ang.dfix 3.00 0.01 o2 n1无B类错误,但是PLAT431_ALERT_2_C Short Inter HL..A Contact Cl1 .. N3 .. 3.11 Ang.---OKdfix 3.10 0.01 o2 n1无B类错误,但是PLAT430_ALERT_2_C Short Inter D...A Contact O2 .. N1 .. 2.90 Ang.---OK范例:p16-9PLAT230_ALERT_2_B Hirshfeld Test Diff for O9 -- C29 .. 7.97 su对策:在Ins文件中添加Delu 0.02 0.01 o9 c29指令,XL→ XL.(0.02 0.01必需成倍数关系)范例:f10, f15-2, e75PLAT232_ALERT_2_B Hirshfeld Test Diff (M-X) Cu1 -- Cl1 .. 13.26 sudelu 0.01 0.005 cu1 cl1PLAT220_ALERT_2_B Large Non-Solvent C Ueq(max)/Ueq(min) ... 4.07 Ratio对策:在Ins文件中添加simu 0.005 0.01 3.8 $c 指令,XL→ XL(0.005 0.01必需成倍数关系)范例:e75PLAT029_ALERT_3_B _diffrn_measured_fraction_theta_full Low ....... 0.94对策:在Ins文件中添加omit -3.00 50.02 指令,XL→ XL.范例:f15-2,e11, ye-12--00PLAT057_ALERT_3_B Correction for Absorption Required RT(exp) ...1.22对策:在Ins文件中添加size 0.21 0.19 0.18指令,XL→ XL.(调整a,b,c紧凑些, 亦即三者之间的差值小一些)范例:wq1-2PLAT148_ALERT_3_B su on the c - Axis is Too Large (x 1000) . 20 Ang.对策:尝试调小ins文件中c - Axis的数据, XL→ XL.范例:f15-4ZERR 6.00 0.0143 0.0143 0.02220.000 0.000 0.000ZERR 6.00 0.0143 0.0143 0.01820.000 0.000 0.000PLAT148_ALERT_3_B su on the c - Axis is Too Large (x 1000) . 18 Ang.ZERR 6.00 0.0143 0.0143 0.01520.000 0.000 0.000PLAT242_ALERT_2_C Check Low Ueq as Compared to Neighbors for Cu2对策:在Ins文件中添加simu 0.01 0.02 3.8 cu2 o9 o10 o11 o12 n3指令,XL→ XL.(尝试0.01 0.02或0.02 0.04) 包含cu2的周围的原子范例:f9-34PLAT241_ALERT_2_C Check High Ueq as Compared to Neighbors for C11范例:p4-2PLAT035_ALERT_1_A No _chemical_absolute_configuration info given . ?对策:在Cif文件中添加_chemical_absolute_configuration s_refine_ls_structure_factor_coef Fsqd_refine_ls_matrix_type full_refine_ls_weighting_scheme calc_refine_ls_structure_factor_coef Fsqd_chemical_absolute_configuration s_refine_ls_matrix_type full_refine_ls_weighting_scheme calc范例:p16-9PLAT055_ALERT_1_A Maximum Crystal Dimension Missing (or Error) ... ? 对策:在Ins文件中添加size a b c指令,XL→ XL(a,b,c的值见Pcf文件)范例:e11PLAT060_ALERT_4_A Ratio Tmax/Tmin (Exp-to-Rep) (too) Large ..3.49对策:在Ins文件中添加size a b c指令,调整a b c 的相应比例,XL→ XL. 范例:e11PLAT762_ALERT_1_A CIF Contains no X-Y-H or H-Y-H Angles .......... ?对策:在Ins文件中添加bond $h指令,XL→ XL.范例:e11Diffractometer make and type. Replaces _diffrn_measurement_type.Mode of intensity measurement and scan.Number of standards used in measurement._diffrn_standards_interval_time are missing. Number of measurementsbetween standards or time (min) between standards.Percentage decrease in standards intensity.对策:用Pcf文件中的内容,代替Cif文件中的的?_diffrn_radiation_source 'fine-focus sealed tube'_diffrn_radiation_monochromator graphite_diffrn_measurement_device_type ?_diffrn_measurement_method ?_diffrn_radiation_source 'fine-focus sealed tube'_diffrn_radiation_monochromator graphite_diffrn_measurement_device_type 'CCD area detector'_diffrn_measurement_method 'phi and omega scans'----P1-4PLAT420_ALERT_2_B D-H Without Acceptor O3 -H3B ... ?以下错误均为晶体本身所引起,不可修复PLAT026_ALERT_3_B Ratio Observed / Unique Reflections too Low ....31 Perc.PLAT022_ALERT_3_B Ratio Unique / Expected Reflections too Low ....0.89RINTA01_ALERT_3_B The value of Rint is greater than 0.15Rint given 0.152PLAT020_ALERT_3_B The value of Rint is greater than 0.10 ......... 0.15PLAT341_ALERT_3_B Low Bond Precision on C-C Bonds (x 1000) Ang ...19PLAT601_ALERT_2_B Structure Contains Solvent Accessible VOIDS of . 189.00 A**3调整GooF(S)值Refine时,适当改变Weights Suggested的值,Weights值越大,GooF值越小。

chech cifA B 类错误说明

chech cifA B 类错误说明

关于CIF检测中出现的A,B等类错误的说明,共8份----1-3关于CIF检测中出现的A,B等类错误的说明,共8份-1一般分为8类,分别为:# _0xx - general# _1xx - cell/symmetry# _2xx - adp-related# _3xx - intra geometry# _4xx - inter geometry# _5xx - coordination geometry# _6xx - void tests# _7xx –various test下面我们分几次把问题的简要说明翻译成献给大家,希望能对您有所帮助!_201 检测分子结构主体中各向同性的非氢原子,各向同性在通常的精修中并不常用,只是在处理无序是才用到。

_202 检测溶剂分子或阴离子中各向同性的非氢原子检测主体分子中各相异性参数中。

NPD ADP's 检测主体分子的_211 负值部分_212 检测溶剂或阴离子分子的NPD ADP's 。

检测溶剂或阴离子分子中各相异性参数中负值部_213 主体分子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。

_214 溶剂或阴离子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。

_220 检测主体结构非氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报。

太高或太低的值表明原子可能定错(i.e. Br versus Ag)_221 检测非主体结构非氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报_222 检测主体结构氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报范围。

对比平常之Ueq(max)/Ueq(Min)检测非主体结构氢原子_223 大的比值发出警报_230, _233 : Hirschfield 刚性键检查。

相近化学特征的原子应具有相同程度的各相异性参数,无序或过度精修可能会导致大小不一。

Photoshop中常用的图像修复技巧

Photoshop中常用的图像修复技巧

Photoshop中常用的图像修复技巧第一章:介绍图像修复的重要性和基本原则图像修复是一种在数字图像处理中常见的技术,它可以用来修复老照片、修复破损的图像或者删除不需要的元素。

图像修复的目的是恢复图像的原貌并提高图像质量,使其更加清晰、美观。

在使用Photoshop进行图像修复时,以下是一些常用的技巧和方法。

第二章:使用克隆工具修复破损区域克隆工具是Photoshop中最常用的一种修复工具之一。

可以通过选取目标点并将其复制到需要修复的区域来修复破损的图像部分。

使用克隆工具前,需要选择合适的笔刷大小和硬度来确保修复效果更加自然。

例如,当修复破损的皮肤区域时,可以选择一个较小且硬度较高的笔刷,以便更精确地进行修复。

第三章:使用修复画笔工具恢复细节修复画笔工具是一种可以修复细节的工具。

它能够根据图片的纹理、色彩和亮度等特征,智能地修复图像中的瑕疵并恢复丢失的细节。

当修复图像中的眼睛、嘴巴等细节部分时,可以使用修复画笔工具来进行精细的修复。

第四章:使用修复画笔工具修复景深模糊景深模糊是一种常见的摄影错误,它会导致图像的前景或背景失去焦点。

在Photoshop中,可以使用修复画笔工具来修复这些景深模糊。

选择修复画笔工具,选取附近焦点清晰的区域进行修复,然后使用画笔工具调整透明度和流量,慢慢修复并恢复图像的清晰度。

第五章:使用修复画笔工具去除皱纹和痘痕修复画笔工具也可用于去除皮肤上的皱纹和痘痕。

首先,选择适当的笔刷大小和硬度,然后选取需要修复的皱纹或痘痕。

接下来,使用修复画笔工具在选取的区域上轻轻涂抹,并逐渐调整透明度和流量,直到皱纹或痘痕消失并且皮肤看起来更加平滑。

第六章:使用修复画笔工具去除尘点和划痕尘点和划痕是老照片中常见的问题。

在修复这些问题时,修复画笔工具同样是一个有效的选择。

首先,选择适当大小和硬度的笔刷,然后选取需要修复的尘点或划痕。

使用修复画笔工具在选取的区域上轻轻涂抹,直到尘点或划痕被修复。

晶体结构分析讲义(上)

晶体结构分析讲义(上)

晶体结构分析主讲人:吴文源2010.51.Shelxtl 使用流程※解析原始文件有hkl文件(或raw文件),包含衍射数据;p4p文件,包含晶胞参数※为一个晶体的数据建立project,该项目下所有文件具有相同的文件名;一旦在XPREP 中发生hkl文件的矩阵转换,则需要输出新文件名的hkl等文件,因此要建立新的project。

※首先运行XPREP,寻找晶体的空间群※然后运行XS,根据XPREP设定的空间群,寻找结构初解※在Xshell中观察初解是否合理,如不合理,需重回XPREP中设定其他的空间群2.Xshell 使用流程※找出重原子或者确定性大的原子※找出其余非氢原子※精修原子坐标※精修各项异性参数※找到氢原子(理论加氢或差值傅里叶图加氢)※反复精修,直到wR2等指标收敛。

最后的R1<0.06(0.08) wR2<0.16(0.18)※通过HTAB指令寻找氢键,判定氢的位置是否合理,并且将相关氢键信息通过HTAB和EQIV指令写进ins文件中※将原子排序(sort)3.cif 文件生成和检测错误流程※在步骤1、2完成后,在ins文件中加入以下三条命令bond $Hconfacta※此时生成了cif和fcf文件,将cif文件拷贝到planton所在文件夹中检测错误,也可以通过如下在线检测网址:/services/cif/checkcif.html※根据错误提示信息,修改或重新精修,将A、B类错误务必全部消灭,C类错误尽量消灭。

4.Acta E 投稿准备流程投稿前,请务必切实做好如下工作:※按步骤1、2、3解析晶体并生成相应cif和fcf文件。

※准备结构式图(Chemical structural diagram)、分子椭球图(Molecular ellipsoid diagram)和晶胞堆积图(Packing diagram),最好是pdf格式。

※按要求撰写文章的文字部分,填写cif中相应段落,注意格式要求!_publ_section_title 题目_publ_section_abstract 摘要_publ_section_related_literature 相关文献_publ_section_comment 评论_publ_section_exptl_prep 制备方法_publ_section_exptl_refinement 精修说明_publ_section_references 参考文献_publ_section_figure_captions 插图说明_publ_section_table_legends 表格说明_publ_section_acknow ledgements 致谢※将cif中需要填写的其他部分(在cif的标准空白样本中以!标注)全部完成,并再次检查整个cif文件格式和内容。

nmon打开nmon文件出现运行时错误13类型不匹配问题解决

nmon打开nmon文件出现运行时错误13类型不匹配问题解决

nmon打开nmon⽂件出现运⾏时错误13类型不匹配问题解决根据⽂中,⽤nmon_analyse去打开监控到的nmon⽂件,出⼏个报错。

1 ⽤WPS提⽰没有“宏”,使⽤宏需要会员。

千万不要某度上哪些乱七⼋糟的⽅法,随便下个“WPS的vba模块”,病毒特别多。

我随便下⼀个,修了⼀晚上电脑才修好。

2 使⽤Microsoft excel。

安装好Microsoft excel号后,⼀打开,还是报错
笔记本的⽇期格式错误。

⽇期格式设置⾥⾯⽇期格式改成yyyy/M/d格式即可。

因为微软产品都是收费的,⽹上下载的不安全,所以把我的⾃⼰的 office和激活⼯具绿⾊版本放在这⾥。

3 安装office。

下载KMS。

运⾏⼀下exe即可激活
4 最后调试成功后是这样的界⾯。

具体指标解释参照。

chech cifA B 类错误说明.

chech cifA B 类错误说明.

关于CIF检测中出现的A,B等类错误的说明,共8份----1-3关于CIF检测中出现的A,B等类错误的说明,共8份-1一般分为8类,分别为:# _0xx - general# _1xx - cell/symmetry# _2xx - adp-related# _3xx - intra geometry# _4xx - inter geometry# _5xx - coordination geometry# _6xx - void tests# _7xx – various test下面我们分几次把问题的简要说明翻译成献给大家,希望能对您有所帮助!_201 检测分子结构主体中各向同性的非氢原子,各向同性在通常的精修中并不常用,只是在处理无序是才用到。

_202 检测溶剂分子或阴离子中各向同性的非氢原子_211 检测主体分子的NPD ADP's 。

检测主体分子中各相异性参数中负值部分_212 检测溶剂或阴离子分子的NPD ADP's 。

检测溶剂或阴离子分子中各相异性参数中负值部_213 主体分子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。

_214 溶剂或阴离子中ADP maximum/minimum 比例检测,较大的值意味着无序没有处理。

_220 检测主体结构非氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报。

太高或太低的值表明原子可能定错(i.e. Br versus Ag)_221 检测非主体结构非氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报_222 检测主体结构氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报_223 检测非主体结构氢原子Ueq(max)/Ueq(Min)范围。

对比平常之大的比值发出警报_230, _233 : Hirschfield 刚性键检查。

相近化学特征的原子应具有相同程度的各相异性参数,无序或过度精修可能会导致大小不一。

单晶的结构分析若干问题

单晶的结构分析若干问题

有问题的结构: 难解结构是极少数
P-1以及某些没有平移对称性的空间群,往往会出现固定原点的困难。一
个诀窍是用一比较小的起始套以消除一些特别强的衍射点。 另一办法:认为降低对称性,解出结构后,在转回正确的空间群。 如何转回正确的空间群: 简单例子:P1 中,原子成对出现,M1坐标为(x1, y1, z1), M2坐标为(x2, y2, z2), ■对称中心在[(x1-x2)/2, (y1-y2)/2, (z1-z2)/2] = (x0, y0, z0)
Lattice type P chosen
Volume:
------------------------------------------------------------------------------Tolerances changed: Maximum deviation (deg.) in higher symmetry cell search = Threshold (deg.) for terminating search = 0.050 R(int) maximum for terminating cell search = 0.050 R(int) maximum for space group determination = 0.100 Minimum number of data in group for syst. absence test = Maximum mean I/sigma(I) for systematic absences = 4.000 Minimum I/sigma gap between absences and rest = 4.000 1.000
a , b , c , ,空 间 群 系 列 h k l, |F o |, (F o )

参数错误怎么解决方法

参数错误怎么解决方法

参数错误怎么解决方法参数错误是指程序在运行过程中,传入的参数不符合预期的要求,导致程序无法正常执行或出现意外行为的情况。

参数错误通常是由于以下几个方面引起的:参数类型错误、参数值错误、参数缺失以及参数顺序错误。

针对不同的参数错误,可以采取相应的解决方法。

一、参数类型错误参数类型错误是指传入的参数类型与函数或方法定义的参数类型不一致,导致参数无法正确解析或匹配。

解决方法如下:1. 仔细检查函数或方法的参数类型,确保传入的参数类型与之匹配;2. 针对函数或方法参数类型灵活的情况,可以进行参数类型转换,将传入的参数转换为函数或方法所需的类型;3. 对于不确定参数类型的情况,可以使用类型检查函数或条件语句进行判断,避免传入错误类型的参数。

二、参数值错误参数值错误是指传入的参数虽然类型正确,但其值不在可接受的范围或条件之内,导致程序无法正常执行。

解决方法如下:1. 仔细检查参数值的范围或条件限制,确保传入的参数值满足要求;2. 对于不确定的参数值,可以使用条件语句或异常处理机制进行判断和处理,避免参数值错误导致程序崩溃或异常;3. 在函数或方法中,可以使用默认参数值来处理可能出现的参数值错误的情况,或者在调用函数或方法之前进行参数值的预处理。

三、参数缺失参数缺失是指传入的参数数量少于定义的函数或方法所需的参数数量,导致程序无法正常执行。

解决方法如下:1. 仔细检查函数或方法的参数列表,确保传入的参数数量与之匹配;2. 对于可能缺失某些参数的情况,可以使用默认参数值或可选参数来处理,确保即使参数缺失,程序也能正常执行;3. 在调用函数或方法时,可以使用关键字参数来指定参数的名称和值,避免参数位置错误导致的参数缺失问题。

四、参数顺序错误参数顺序错误是指传入的参数顺序与函数或方法定义的参数顺序不一致,导致参数解析错误或函数调用失败。

解决方法如下:1. 仔细检查函数或方法的参数顺序,确保传入的参数顺序与之一致;2. 在调用函数或方法时,可以使用关键字参数来指定参数的名称和值,避免参数顺序错误导致的问题;3. 如果程序中存在大量的参数顺序错误的情况,可以考虑对函数或方法进行重构,使用更直观和易懂的参数命名来避免参数顺序错误的问题。

晶体结构分析讲义(下)

晶体结构分析讲义(下)

1.Shelxtl 使用流程※解析原始文件有hkl文件(或raw文件),包含衍射数据;p4p文件,包含晶胞参数※为一个晶体的数据建立project,该项目下所有文件具有相同的文件名;一旦在XPREP 中发生hkl文件的矩阵转换,则需要输出新文件名的hkl等文件,因此要建立新的project。

※首先运行XPREP,寻找晶体的空间群※然后运行XS,根据XPREP设定的空间群,寻找结构初解※在Xshell中观察初解是否合理,如不合理,需重回XPREP中设定其他的空间群2.Xshell 使用流程※找出重原子或者确定性大的原子※找出其余非氢原子※精修原子坐标※精修各项异性参数※找到氢原子(理论加氢或差值傅里叶图加氢)※反复精修,直到wR2等指标收敛。

最后的R1<0.06(0.08) wR2<0.16(0.18)※通过HTAB指令寻找氢键,判定氢的位置是否合理,并且将相关氢键信息通过HTAB和EQIV指令写进ins文件中※将原子排序(sort)3.cif 文件生成和检测错误流程※在步骤1、2完成后,在ins文件中加入以下三条命令bond $Hconfacta※此时生成了cif和fcf文件,将cif文件拷贝到planton所在文件夹中检测错误,也可以通过如下在线检测网址:/services/cif/checkcif.html※根据错误提示信息,修改或重新精修,将A、B类错误务必全部消灭,C类错误尽量消灭。

4.Acta E 投稿准备流程投稿前,请务必切实做好如下工作:※按步骤1、2、3解析晶体并生成相应cif和fcf文件。

※准备结构式图(Chemical structural diagram)、分子椭球图(Molecular ellipsoid diagram)和晶胞堆积图(Packing diagram),最好是pdf格式。

※按要求撰写文章的文字部分,填写cif中相应段落,注意格式要求!_publ_section_title 题目_publ_section_abstract 摘要_publ_section_related_literature 相关文献_publ_section_comment 评论_publ_section_exptl_prep 制备方法_publ_section_exptl_refinement 精修说明_publ_section_references 参考文献_publ_section_figure_captions 插图说明_publ_section_table_legends 表格说明_publ_section_acknowledgements 致谢※将cif中需要填写的其他部分(在cif的标准空白样本中以!标注)全部完成,并再次检查整个cif文件格式和内容。

不完全数据的处理与修复

不完全数据的处理与修复

不完全数据的处理与修复在数据分析和机器学习的领域中,数据的质量对结果的准确性和可靠性具有至关重要的影响。

然而,现实情况中,我们常常会遇到不完全的、存在缺失值的数据。

这些缺失值可能是由于数据收集过程中的疏漏或误操作引起的,也可能是因为数据本身的特性所导致的。

针对这些不完全数据,我们需要使用合适的方法进行处理和修复,以获得更准确和可靠的结果。

一、缺失值的类型在处理和修复缺失值之前,我们需要先了解缺失值的类型和原因。

一般来说,缺失值主要有以下几种类型:1. 完全随机缺失(MCAR):缺失值的出现与其他变量无关,完全是随机发生的。

2. 非完全随机缺失(MNAR):缺失值的出现与变量之间的关系有关,缺失值可能以某种方式与数据集中的另一个变量相关联。

3. 随机缺失(MAR):缺失值的出现与其他观测变量有关,但不直接与缺失变量有关。

了解缺失值的类型可以帮助我们选择合适的方法进行数据处理和修复。

二、处理缺失值对于MCAR的缺失值,我们可以使用完全数据进行分析或使用简单的插补方法进行填充。

插补方法一般有三种,即均值插补、中位数插补和众数插补。

这些方法简单易行,但对数据整体分布的影响较大。

对于MAR的缺失值,我们可以使用多重插补方法进行修复。

多重插补方法会考虑变量之间的关系,通过随机模拟产生多个缺失值的可能值,然后对这些完整数据集进行分析,得出汇总结果。

这种方法的优点是可以保留数据集的其他特征,但缺点是计算量较大,且可能存在不稳定性。

对于MNAR的缺失值,由于缺失数据本身的特性导致难以通过简单方法进行处理和修复。

这种情况下,需要对数据进行特殊处理,如加权最小二乘法或利用EM算法。

三、修复缺失值修复缺失值的过程是将缺失的数据值填充到原始数据中,以使数据完整和准确。

修复缺失值的目的是使数据在保持原始分布的同时,尽可能地还原缺失值的真实情况。

修复缺失值的方法包括基于模型和基于数据的方法。

基于模型的方法是通过建立模型来预测缺失值的值。

B-64305CM_01维修

B-64305CM_01维修

与参数有关的警告和注意
警告 注意
1. 在改变参数后第一次实际加工工件时,应在盖上机床盖板的状态下运转机 床。不要一上来就自动运转机床,要充分确认机床的动作状态;确认项目包 括:使用单程序段、进给速度倍率、机床锁住等功能或没有安装刀具和工件 时的空载运转。如果不能肯定机床运转正常,会因为机床预想不到的运转而 损坏工件或者机床,或导致操作者受伤。
警告 注释
警告 注释
警告
1. 存储器备份电池的更换
本项作业只有那些已经接受过维修培训和安全培训的人员才能胜任。
在打开机柜更换电池时,小心不要接触高压电路部分(标有
标记并配
有绝缘盖)。
触摸不加盖板的高压电路,会导致触电。
由于 CNC 即使在无外部电源供应的情况下也必须保存诸如程序、偏置量、参数 等数据,故使用电池作为后备。 当电池的电压下降时,机床操作面板上或画面上会显示电池电压下降报警。 当电池电压下降的报警显示后,应在一周内更换电池。若不更换电池,CNC 存 储器中的数据将会丢失。 电池的更换步骤,请参阅各自的“电池的更换方法”。
s-1
为了安全维修
警告、注意和注释
B-64305CM/01
为保证操作者人身安全,预防机床损坏,“为了安全维修”中根据有关安全的注 意事项的重要程度,在正文中以“警告”和“注意”来描述。 有关的补充说明以“注释”来描述。 用户在使用之前,必须熟读这些“警告”、“注意”和“注释”中所叙述的事项。
警告 适用于:如果错误操作,则有可能导致操作者死亡或受重伤。
3. 更换重物时,必须有 2 名以上的作业人员配合进行。 如果仅由 1 名作业人员进行,有时会由于更换单元的落下而导致作业人员受 伤。
4. 伺服放大器和主轴放大器上,即使在断开电源稍过一会之后仍然有残余电 压,触摸这类设备会导致触电。 请在断开电源经过 20 分后再更换放大器。

解决数据处理和清洗中的异常和错误

解决数据处理和清洗中的异常和错误

解决数据处理和清洗中的异常和错误在数据处理和清洗过程中,异常和错误是常见的问题。

解决这些问题是确保数据质量和准确性的重要一环。

下面我将介绍一些常见的异常和错误,并提供一些解决方案。

1.缺失值:缺失值是指数据中某些字段或变量缺少数值。

解决缺失值的常见方法有:-删除缺失值:如果缺失的数据量非常小,可以选择删除缺失值的行,但要注意确认删除对分析结果的影响。

-填充缺失值:可以选择对缺失值进行插补,常见的方法有使用均值、中位数、众数等来填充缺失值。

2.异常值:异常值是指数据中与其他观测值显著不同的值。

解决异常值的常见方法有:-删除异常值:如果异常值是由于数据记录错误或者测量错误导致的,可以选择删除异常值。

但需要谨慎处理,确保删除的值是确实存在错误的数据。

-替换异常值:可以选择将异常值替换为合理的值,可以使用均值、中位数、众数等来替换异常值。

3.数据类型错误:数据类型错误是指将不同类型的数据误认为是同一类型的错误。

解决数据类型错误的常见方法有:-转换数据类型:可以通过将数据类型转换为正确的类型,来解决数据类型错误。

例如,将字符串类型转换为数值类型。

-校正数据类型:可以根据实际情况,对数据进行校正,以使其符合正确的数据类型。

例如,删除包含非法字符的数据。

4.重复值:重复值是指数据集中存在多行或多列内容完全相同的数据。

解决重复值的常见方法有:-删除重复值:可以直接删除重复的行或列,保留一条记录即可。

但需要谨慎处理,确保删除的重复值是确实无效的。

-标记重复值:可以通过添加一个标记列,将重复值标记出来,以便后续处理。

5.错误的数据格式:错误的数据格式是指数据中的格式与预期不符。

解决错误的数据格式的常见方法有:-校验数据格式:可以通过正则表达式等方式,对数据进行格式校验,将符合格式的数据提取出来。

-修复数据格式:可以通过编程或者手动处理,修复数据中格式错误的内容。

综上所述,解决数据处理和清洗中的异常和错误需要根据具体情况选择合适的方法。

Bruker_晶体解析攻略-by J.H.Wang

Bruker_晶体解析攻略-by J.H.Wang

晶体解析全攻略By J.H. Wang数据下载:ftp:210.34.15.31,用户名:ccd,密码:ccd攻略一重新定单胞(如果单胞认为比较好,可直接进入数据还原)一般情况下,不用重新定单胞,但是有时候后几组数据不符合所用单胞,就要重新定了。

或者空间群有变化,比如你在解析的过程中一下子出来好几个一样的分子,这样你可能要考虑用更高对称的空间群了,这时候要考虑重定单胞。

使用BrukerAXS Programs\Smart off-line,用smart程序收集衍射数据得到大约一千张倒易空间的衍射图像,300M大小。

其中matrix图像60张,分成三组,每组20张,用以判定晶体能否解析。

Crystal\Config.to project,找到存放晶体数据文件夹下的smart.ini,双击打开,出现一提示框,一直点“确定”,最后看晶胞误差是否在小数点后三位。

可查看数据好坏的步骤:Crystal\Redtn cellAnalyze\Display看照片,然后同时点击Ctrl+方向键(向右或者向左)点击crystal,在下拉菜单中按顺序操作:Crystal\clear,一般默认Crystal\Threshold 出现一对话框。

First input frame name: 修改路径为ylid1.001, ylid2.001, ylid3.001(分别对应第一,二,三列数据的第一张照片);# frames to process: 可修改照片张数20-600不等,一般总共相加为1200。

点“OK”后,显示可用衍射点,一般可用衍射点数要大于总衍射点数的1/3,最好1/2-2/3之间。

Crystal\Index,一般默认,指标结果在10%前数据越大越好,之后最好没有。

Crystal\Bravais,一般默认。

关注Number of solutions,可供选择。

Crystal\LS,Out P4P file:Constraint:Max RLV error:LS 修改为P4P文件类型,1 triclinic 0.01-1 triclinic 0.005(提高定单胞的精度)点击“是”,“OK”出现结果,在10%前数据越大越好,之后最好没有。

Netfabb模型修复

Netfabb模型修复

数字模型错误修复下载的模型往往出现各种问题,比如模型不封闭、无壁厚、法线错误、模型自相交等,需要修复。

其实,一般的3D软件中也能将模型修复,比如3ds Max、ZBrush等软件。

有兴趣的同学请自行研究。

不过,当模型过于复杂,错误过多的时候,我们没很大的耐心去一一修复。

这时一款专注于模型网格修复的3D软件就是解决方法了。

Netfabb 是一款为增材制造、快速成型和3D打印所量身定制的应用程序。

为了将立体对象打印出来,3D 文件必须转换为 2.5D 的切片文件,后者包含了2D 切片的列表。

为了帮助用户做好这一系列准备工作,Netfabb 具有观察、编辑、修复、分析三维STL文件和切片文件的功能。

Netfabb分为三个版本:基础版(Basic)、个人版(Private)、专业版(Pro),基础版是免费的,很多功能只有在个人版和专业版才能使用。

我们使用基础版使用Netfabb的自动修复功能进行简单修复。

图7-14 Netfabb软件界面Step 1:导入模型点击【Project(项目)】-【Open(打开)】,或者点击工具栏上的导入待修复的模型。

也可直接将模型拖入软件视图。

导入之后,看到视图区右下角一个大大的警告图标,说明该模型存在错误。

右侧面板下方显示模型的信息:Length(长)、宽(Width)、Height(高)、V olume(体积)、Area(面积)、Triangles(三角形面数),发现体积没有数据。

可能原因是该模型不封闭。

如果导入模型后,界面中不出现图标,那么恭喜你,这个模型没有问题。

图7-15 导入模型Step 2:分析模型选中模型,点击菜单栏【Extras(附加)】-【New analysis(新分析)】-【Standard analysis(标准分析)】,也可点击工具栏的选择标准分析。

此时见图7-16,右侧面板【Context area(文字区域)】的【Parts(部件)】中多了【Part analysis(部件分析)】层级。

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013晶体解析心得精修AB类错误的技巧
PLAT412_ALERT_2_C Short Intra XH3 .. XHn H9 .. H13C ..
1.87 Ang.
对策:在Ins文件中添加Dfix 2.45 0.01 h9 h13c 指令,XL→ XL.
(尝试调整比1.87大的数)
范例:wq-5-36-2
PLAT413_ALERT_2_B Short Inter XH3 .. XHn H2D .. H2D ..
2.06 Ang.
对策:在Ins文件中添加Dfix 2.52 0.01 h2d h2d 指令,XL→ XL.
(尝试调整比2.06大的数)
范例:Wq1-5
PLAT430_ALERT_2_B Short Inter D...A Contact O2 .. N1 ..
2.66 Ang.
dfix 2.80 0.01 o2 n1
PLAT230_ALERT_2_B Hirshfeld Test Diff for O2 -- C10 .. 7.15 su
PLAT431_ALERT_2_C Short Inter HL..A Contact Cl1 .. N3 .. 3.11 Ang.
dfix 2.90 0.01 o2 n1
无B类错误,但是
Cl1 .. N3 .. 3.11 Ang.
dfix 3.00 0.01 o2 n1
无B类错误,但是
PLAT431_ALERT_2_C Short Inter HL..A Contact Cl1 .. N3 .. 3.11 Ang.
---OK
dfix 3.10 0.01 o2 n1
无B类错误,但是
PLAT430_ALERT_2_C Short Inter D...A Contact O2 .. N1 .. 2.90 Ang.
---OK
范例:p16-9
PLAT230_ALERT_2_B Hirshfeld Test Diff for O9 -- C29 .. 7.97 su
对策:在Ins文件中添加
Delu 0.02 0.01 o9 c29
指令,XL→ XL.
(0.02 0.01必需成倍数关系)
范例:f10, f15-2, e75
PLAT232_ALERT_2_B Hirshfeld Test Diff (M-X) Cu1 -- Cl1 .. 13.26 su
delu 0.01 0.005 cu1 cl1
PLAT220_ALERT_2_B Large Non-Solvent C Ueq(max)/Ueq(min) ... 4.07 Ratio
对策:在Ins文件中添加simu 0.005 0.01 3.8 $c 指令,XL→ XL
(0.005 0.01必需成倍数关系)
范例:e75
PLAT029_ALERT_3_B _diffrn_measured_fraction_theta_full Low ....... 0.94
对策:在Ins文件中添加omit -3.00 50.02 指令,XL→ XL.
范例:f15-2,e11, ye-12--00
PLAT057_ALERT_3_B Correction for Absorption Required RT(exp) ...
1.22
对策:在Ins文件中添加size 0.21 0.19 0.18指令,XL→ XL.
(调整a,b,c紧凑些, 亦即三者之间的差值小一些)
范例:wq1-2
PLAT148_ALERT_3_B su on the c - Axis is Too Large (x 1000) . 20 Ang.
对策:尝试调小ins文件中c - Axis的数据, XL→ XL.
范例:f15-4
ZERR 6.00 0.0143 0.0143 0.02220.000 0.000 0.000
ZERR 6.00 0.0143 0.0143 0.01820.000 0.000 0.000
PLAT148_ALERT_3_B su on the c - Axis is Too Large (x 1000) . 18 Ang.
ZERR 6.00 0.0143 0.0143 0.01520.000 0.000 0.000
PLAT242_ALERT_2_C Check Low Ueq as Compared to Neighbors for Cu2
对策:在Ins文件中添加simu 0.01 0.02 3.8 cu2 o9 o10 o11 o12 n3
指令,XL→ XL.
(尝试0.01 0.02或0.02 0.04) 包含cu2的周围的原子
范例:f9-34
PLAT241_ALERT_2_C Check High Ueq as Compared to Neighbors for C11
范例:p4-2
PLAT035_ALERT_1_A No _chemical_absolute_configuration info given . ?
对策:在Cif文件中添加_chemical_absolute_configuration s
_refine_ls_structure_factor_coef Fsqd
_refine_ls_matrix_type full
_refine_ls_weighting_scheme calc
_refine_ls_structure_factor_coef Fsqd
_chemical_absolute_configuration s
_refine_ls_matrix_type full
_refine_ls_weighting_scheme calc
范例:p16-9
PLAT055_ALERT_1_A Maximum Crystal Dimension Missing (or Error) ... ? 对策:在Ins文件中添加size a b c指令,XL→ XL(a,b,c的值见Pcf文件)范例:e11
PLAT060_ALERT_4_A Ratio Tmax/Tmin (Exp-to-Rep) (too) Large ..3.49
对策:在Ins文件中添加size a b c指令,调整a b c 的相应比例,XL→ XL. 范例:e11
PLAT762_ALERT_1_A CIF Contains no X-Y-H or H-Y-H Angles .......... ?
对策:在Ins文件中添加bond $h指令,XL→ XL.
范例:e11
Diffractometer make and type. Replaces _diffrn_measurement_type.
Mode of intensity measurement and scan.
Number of standards used in measurement.
_diffrn_standards_interval_time are missing. Number of measurements
between standards or time (min) between standards.
Percentage decrease in standards intensity.
对策:
用Pcf文件中的内容,代替Cif文件中的的?
_diffrn_radiation_source 'fine-focus sealed tube'
_diffrn_radiation_monochromator graphite
_diffrn_measurement_device_type ?
_diffrn_measurement_method ?
_diffrn_radiation_source 'fine-focus sealed tube'
_diffrn_radiation_monochromator graphite
_diffrn_measurement_device_type 'CCD area detector'
_diffrn_measurement_method 'phi and omega scans'
----P1-4
PLAT420_ALERT_2_B D-H Without Acceptor O3 -
H3B ... ?
以下错误均为晶体本身所引起,不可修复
PLAT026_ALERT_3_B Ratio Observed / Unique Reflections too Low ....
31 Perc.
PLAT022_ALERT_3_B Ratio Unique / Expected Reflections too Low ....
0.89
RINTA01_ALERT_3_B The value of Rint is greater than 0.15
Rint given 0.152
PLAT020_ALERT_3_B The value of Rint is greater than 0.10 ......... 0.15
PLAT341_ALERT_3_B Low Bond Precision on C-C Bonds (x 1000) Ang ...
19
PLAT601_ALERT_2_B Structure Contains Solvent Accessible VOIDS of . 189.00 A**3
调整GooF(S)值
Refine时,适当改变Weights Suggested的值,Weights值越大,GooF值越小。

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