半导体行业用水标准
晶圆减划纯水电阻率标准
晶圆减划纯水电阻率标准
晶圆减划是指在半导体工艺制造过程中，对光刻胶覆盖的晶圆表面进
行划痕处理，以便进行精密刻蚀、金属蒸镀等后续加工。
而在晶圆减
划过程中使用的纯水电阻率标准则是评估加工水质的重要指标。
晶圆减划过程中，划痕料和划痕量是决定划痕效果的重要因素。
同时，在晶圆表面产生的任何微观缺陷都会严重威胁芯片器件质量和可靠性。
因此，半导体制造过程中需要对纯水电阻率标准进行细致测量和控制，以确保水质达到要求，并避免环境污染。
纯水电阻率（Resistivity）是指水中对直流电流的电阻作用，通常以Ω·cm为单位表示。
水的电阻率与其离子含量、杂质含量、温度及压强等因素密切相关。
纯水的电阻率约为18.2MΩ·cm，在半导体制造过程中要求更高，可以达到18MΩ·cm以上。
为控制纯水的电阻率，工厂通常会装备纯水制备设备，采用多级纯化
和离子交换等工艺将水中的杂质和离子去除。
同时，对制水过程中的
水质进行定期分析和检测，确保纯水的质量稳定可靠，以达到半导体
制造的要求。
在晶圆减划过程中，纯水质量过差往往会导致晶圆表面粗糙度增高、
划痕效果不佳等问题，对后续工艺产生不良影响。
因此，在半导体制造过程中，对纯水电阻率标准的测量和控制是非常重要的环节。
通过严格控制水质，可以提高产品质量、降低制造成本，同时也有利于企业推进绿色制造、保护环境。
总之，纯水电阻率标准是半导体制造过程中的重要指标之一，对晶圆减划等工艺有重要影响。
通过采用纯水制备设备，控制水质并定期检测水质是否稳定，可以确保生产高质量、可靠的半导体产品，提高企业核心竞争力。
半导体用水设备的详细说明
半导体用水设备的详细说明一、简介生产半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统。
水质可达最高可达18.3兆欧，符合电子行业生产所需超纯水水质要求。
水质：水质符合美国ASTM标准，电子超纯水水质标准(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)材质：钢衬胶不锈钢有机玻璃等流量(m3/h)：0.1-500应用范围：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;超纯材料和超纯化学试剂;实验室和中试车间;汽车家电表面抛光处理医药行业用水;其他高科技精微产品二、工艺1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象2、预处理-一级反渗透-加药机( PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μm精密过滤器-用水对象3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μm精密过滤器-用水对象三、为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统等。
1、介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质设备由优质不锈钢材料制作而成。
体内装有布水帽、精制石英砂等，亦可装其它填料。
合理的石英砂装填比例及良好的布水系统，使系统的产水水质更加稳定。
另外设备还设有气体冲刷功能，能最大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。
2、活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用,能最大程度的去除水中的游离余氯，保证反渗透膜的进水水质，设备由优质不锈钢材料制成。
半导体纯水规格
半导体纯水规格半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体纯水规格通常包括以下方面：1. 电导率（或电阻率）：电导率是衡量水中离子导电能力的一个重要指标，电阻率则是电导率的倒数。
半导体工业中，超纯水的电导率通常要求在0.1μS/cm以下，甚至更低。
2. 总有机碳（TOC）：有机物是微生物和化学物质的来源，可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求总有机碳含量极低，一般在10ppb 以下。
3. 颗粒物：水中颗粒物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用过滤器等设备来去除水中的颗粒物。
一般要求超纯水中的颗粒物含量在1ppb 以下。
4. 金属离子：金属离子如铜、铁、锌等可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求金属离子含量极低，一般在1ppt以下。
5. 酸碱度：酸碱度是衡量水溶液酸碱性的指标。
半导体工业中，超纯水的酸碱度通常要求在pH 5-8之间。
6. 微生物：水中微生物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用紫外线消毒等设备来灭菌。
一般要求超纯水中的微生物含量在1个/ml以下。
7. 其他指标：除了上述主要指标外，半导体纯水规格还包括硅、氯离子、硫酸根等其他指标的要求。
具体指标可能会因不同的生产工艺和产品类型而有所不同。
总的来说，半导体纯水需要具备极高的纯度和洁净度，以保障半导体制造过程中的质量和稳定性。
实验室一级水二级水三级水标准
实验室一级水二级水三级水标准摘要：一、一级水标准概述二、二级水标准概述三、三级水标准概述四、实验室用水应用场景及选择方法五、水质量对实验结果的影响六、提高实验室用水质量的策略正文：实验室一级水、二级水和三级水标准是对实验室用水质量的不同要求。
了解这些标准对于保证实验结果的准确性和可靠性至关重要。
本文将介绍一级、二级和三级水标准，并探讨如何在实验室中正确选择和使用合适的水质。
一、一级水标准概述一级水，又称超纯水，是指水中杂质含量极低的水。
一级水主要用于高度敏感的实验，如蛋白质纯化、高精度分析仪器和半导体制造等。
一级水的制备方法主要有反渗透、离子交换和蒸馏等。
二、二级水标准概述二级水，又称纯水，是指水中杂质含量较低的水。
二级水适用于一般实验室的常规实验，如普通化学分析、生物学实验和药品生产等。
二级水的制备方法主要有反渗透和蒸馏等。
三、三级水标准概述三级水，又称去离子水，是指水中主要离子含量较低的水。
三级水适用于一般实验室的实验，如水质分析、电化学实验和实验室清洁等。
三级水的制备方法主要有离子交换和反渗透等。
四、实验室用水应用场景及选择方法在实验室中，根据实验需求和水质要求，选择合适的水质至关重要。
一级水适用于高精度分析和高度敏感实验；二级水适用于一般实验室的常规实验；三级水适用于一般实验室的实验和清洁。
在选择实验室用水时，应根据实验要求、设备性能和水资源成本等因素进行综合考虑。
五、水质量对实验结果的影响水质量对实验结果具有重要影响。
低质量的水可能导致实验误差增大、仪器损坏和实验失败等问题。
因此，实验室应重视用水质量的控制，确保实验结果的准确性和可靠性。
六、提高实验室用水质量的策略提高实验室用水质量的方法有以下几点：1.选择合适的净水设备，如反渗透装置、离子交换器和蒸馏器等。
2.定期对水质进行检测，确保水质达标。
3.建立实验室用水管理体系，加强用水管理和监督。
4.培训实验室人员，提高用水知识和技能。
5.选择正规的水源供应商，确保水质稳定。
去离子水等级
去离子水等级
饮用水中的去离子水，是经过一系列化学处理的，以去除其中所有
离子和微生物的水。
这种水的主要用途是在科学、工业和制药领域中
使用。
以下是去离子水等级的详细描述：
一、纯化水
这是最基本的去离子水等级，适用于一些不太严格的实验和清洗工作。
纯化水可能仍包含微量溶解物质，例如各种离子、有机物和微生物等。
二、去离子水
去离子水不但去除了纯化水中的离子物质，同时还使用了离子交换树
脂进一步处理。
因此，去离子水是更为纯净的水，已经足够满足许多
实验中的需求。
然而，在一些更为苛刻的实验中，去离子水可能仍然
不够纯。
三、高纯水
高纯水是最接近完整去除所有离子的水，其电导率通常小于
0.055μS/cm。
为了达到这一水平，需要对原始水进行进一步处理，例如对离子交换树脂进行更密集的再生。
高纯水通常用于电子、半导体和
光学行业，要求非常严格的纯水质量。
四、超纯水
超纯水是目前纯净度最高的水之一，其电导率甚至小于0.055μS/cm。
它是通过多种技术处理而来，包括反渗透、电析和光化学氧化等。
超纯水用于最苛刻的应用，例如制造半导体和电子元器件等。
五、超超纯水（18.2MΩcm水）
超超纯水，也称为18.2MΩcm水，是指电导率小于1x10-8 S/cm的水，也就是其电阻率很高。
这种水被认为是最为纯净的水之一，适用于绝大多数科学实验和制造行业，特别是需要最高纯度水的实验和工艺。
半导体工业超纯水的技术指标及其制备概述
半导体工业超纯水来自自来水，但由于我国自来水规定 无 TOC 标 准 ，所 代 表 的 有 机 物 含 量 指 标 为 CODmn，限 值 为 3ppm。而且，自来水常规 TOC 多在 1ppm~3ppm 之间。因此， 处理 TOC 过程需多级工艺来达到目标水质。目前，可供选择 的工艺包括：UF、ACF、EDI 以及 RO 等。采用这些工艺进行前 端处理后，就可将 TOC 值降低至 10ppb~30ppb 以内。此后，经 TOC-UV 灯的处理就可将 TOC 值控制在 1ppb 以下，进而达到 半导体工业使用超纯水的水质要求，最终助力超导体芯片的 生产制造。
3 半导体工业超纯水的技术指标要求
半导体工业中的超纯水（Ultrapure water），又名 UP 水，其 除了水分子外，几乎没有其他杂质。这就意味着超纯水没有 病毒、细菌以及含氯二噁英等有机物质，是电阻率为 18（MΩ× cm）的水。在生产制造半导体工业时，电子元器件对超纯水使 用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度 上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。然而，超 纯水生产过程，只要微粒子、电阻率、TOC 以及气泡其中一个 指标出现略微差异，就会使半导体元器件生产的合格率下降。 为此，制备技术人员应严格按照 ITRS 浸没式超纯水制备要求 进行生产控制。然而，掌握这一制备技术的生产厂家多是国 外企业，自主研发还有很长一段路要走。相关建设者应从现 有研究成果基础上，对制备技术进行不断优化，进而落实现代 化经济建设背景下全面发展进程[1]。
关键词：半导体工业；超纯水；技术指标；制备技术
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ1 引言
半导体工业，作为全世界范围内综合国力的体现形式之 一，其具有研发成本高、技术要求高等特点。想要以最低成本 获取最高价值，在借鉴先进技术的同时，需从技术指标要求入 手来对超纯水制备技术运用效果进行优化调整，进而达到高 精度使用控制预期。
纯化水电导率标准
纯化水电导率标准纯净水的电导率是一个重要的指标，用来评估其纯净程度。
电导率是指水中溶解的电解质的浓度，单位是S/cm。
电导率越低，水越纯净。
纯净水的电导率标准是根据不同应用领域的需求而确定的。
以下是一些常见的纯净水电导率标准：1. 实验室应用：在实验室中，需要非常纯净的水来进行化学实验和分析。
通常要求电导率低于0.1 μS/cm，以确保水质的纯净度，以及实验结果的准确性。
2. 医疗应用：在医疗领域，尤其是手术室和洁净室中，使用纯净水进行消毒和灭菌。
电导率要求低于1 μS/cm，以确保水质的卫生安全。
3. 电子工业：电子产品的制造过程对水质要求非常高，尤其是半导体芯片的制造。
电导率要求低于10 μS/cm，以避免对电子元件的腐蚀和影响。
4. 制药工业：在制药过程中，水用作制剂、溶剂和清洗剂。
纯净水的电导率要求低于5 μS/cm，以确保药品质量和生产效率。
5. 食品工业：在食品和饮料加工过程中，需要使用纯净水。
电导率要求低于20 μS/cm，防止水中的杂质对食品品质的影响。
为了保证纯净水的电导率达到标准，有几个常用的纯化方法：1.原水净化：采用过滤、活性炭吸附等方法，去除水中的悬浮物、胶体、有机物等杂质。
2.离子交换：通过离子交换树脂去除水中的阳离子和阴离子，以降低水的电导率。
3.反渗透：使用反渗透膜过滤，去除水中的溶解性盐类和有机物质，有效降低电导率。
4.电离交换：采用电解过程，通过离子产生、组合等方法，去除水中的离子杂质，使纯净度达到要求。
5.纯化柱：使用特殊的纯化柱，通过多级纯净化处理，达到更高的纯净度和更低的电导率。
总的来说，纯化水电导率标准的制定是为了保证水质的纯净度，确保应用领域的需求得到满足。
不同领域对纯净水的电导率要求不同，因此纯净水的纯化过程需要根据具体需求进行调整和优化。
随着科技的不断进步，纯净水技术将会更加完善，纯净水的电导率标准也将随之提高。
3747-2020半导体行业污染物排放标准
半导体行业污染物排放标准1 范围本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准限值、监测要求、达标判定、实施与监督。
本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理，以及半导体企业排污许可管理、建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。
半导体企业与污水集中处理设施采用协商方式确定企业水污染物间接排放限值时，污水集中处理设施的水污染物排放管理也适用于本标准。
2 规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。
凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。
凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB 3095 环境空气质量标准GB 3838 地表水环境质量标准GB/T 6920 水质pH值的测定玻璃电极法GB/T 7466 水质总铬的测定GB/T 7467 水质六价铬的测定二苯碳酰二肼分光光度法GB/T 7470 水质铅的测定双硫腙分光光度法GB/T 7471 水质镉的测定双硫腙分光光度法GB/T 7475 水质铜、锌、铅、镉的测定原子吸收分光光度法GB/T 7484 水质氟化物的测定离子选择电极法GB/T 7485 水质总砷的测定二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法GB/T 7494 水质阴离子表面活性剂的测定亚甲蓝分光光度法GB 8978 污水综合排放标准GB/T 11893 水质总磷的测定钼酸铵分光光度法GB/T 11901 水质悬浮物的测定重量法GB/T 11907 水质银的测定火焰原子吸收分光光度法GB/T 11910 水质镍的测定丁二酮肟分光光度法GB/T 11912 水质镍的测定火焰原子吸收分光光度法GB 13271 锅炉大气污染物排放标准GB/T 15432 环境空气总悬浮颗粒物的测定重量法GB/T 15516 空气质量甲醛的测定乙酰丙酮分光光度法GB/T 16157 固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法GB/T 16489 水质硫化物的测定亚甲基蓝分光光度法HJ/T 27 固定污染源排气中氯化氢的测定硫氰酸汞分光光度法HJ/T 28 固定污染源排气中氰化氢的测定异烟酸-吡唑啉酮分光光度法HJ/T 30 固定污染源排气中氯气的测定甲基橙分光光度法HJ 38 固定污染源废气总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定气相色谱法HJ/T 42 固定污染源排气中氮氧化物的测定紫外分光光度法HJ/T 43 固定污染源排气中氮氧化物的测定盐酸萘乙二胺分光光度法HJ/T 55 大气污染物无组织排放监测技术导则HJ/T 60 水质硫化物的测定碘量法HJ/T 65 大气固定污染源锡的测定石墨炉原子吸收分光光度法HJ/T 67 大气固定污染源氟化物的测定离子选择电极法HJ 75 固定污染源烟气（SO2、NO x、颗粒物）排放连续监测技术规范HJ 76 固定污染源烟气（SO2、NO x、颗粒物）排放连续监测系统技术要求及检测方法HJ 84 水质无机阴离子的测定离子色谱法HJ/T 91 地表水和污水监测技术规范HJ/T 195 水质氨氮的测定气相分子吸收光谱法HJ/T 199 水质总氮的测定气相分子吸收光谱法HJ/T 200 水质硫化物的测定气相分子吸收光谱法HJ/T 397 固定源废气监测技术规范HJ/T 399 水质化学需氧量的测定快速消解分光光度法HJ 484 水质氰化物的测定容量法和分光光度法HJ 485 水质铜的测定二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法HJ 486 水质铜的测定2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法HJ 487 水质氟化物的测定茜素磺酸锆目视比色法HJ 488 水质氟化物的测定氟试剂分光光度法HJ 489 水质银的测定3,5-Br2-PADAP分光光度HJ 490 水质银的测定镉试剂2B分光光度法HJ 493 水质采样样品的保存和管理技术规定HJ 494 水质采样技术指导HJ 495 水质采样方案设计技术指导HJ 501 水质总有机碳的测定燃烧氧化-非分散红外吸收法HJ 533 环境空气和废气氨的测定纳氏试剂分光光度法HJ 534 环境空气氨的测定次氯酸钠-水杨酸分光光度法HJ 535 水质氨氮的测定纳氏试剂分光光度法HJ 536 水质氨氮的测定水杨酸分光光度法HJ 537 水质氨氮的测定蒸馏-中和滴定法HJ 544 固定污染源废气硫酸雾的测定离子色谱法HJ 548 固定污染源废气氯化氢的测定硝酸银容量法HJ 549 环境空气和废气氯化氢的测定离子色谱法HJ 604 环境空气总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定直接进样-气相色谱法HJ 636 水质总氮的测定碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法HJ 637 水质石油类和动植物油的测定红外分光光度法HJ 644 环境空气挥发性有机物的测定吸附管采样-热脱附/气相色谱-质谱法HJ 657 空气和废气颗粒物中铅等金属元素的测定电感耦合等离子体质谱HJ 659 水质氰化物等的测定真空检测管-电子比色法HJ 665 水质氨氮的测定连续流动-水杨酸分光光度法HJ 666 水质氨氮的测定流动注射-水杨酸分光光度法HJ 667 水质总氮的测定连续流动-盐酸萘乙二胺分光光度法HJ 668 水质总氮的测定流动注射-盐酸萘乙二胺分光光度法HJ 670 水质磷酸盐和总磷的测定连续流动-钼酸铵分光光度法HJ 671 水质总磷的测定流动注射-钼酸铵分光光度法HJ 683 环境空气醛、酮类化合物的测定高效液相色谱法HJ 692 固定污染源废气氮氧化物的测定非分散红外吸收法HJ 693 固定污染源废气氮氧化物的测定定电位电解法HJ 694 水质汞、砷、硒、铋和锑的测定原子荧光法HJ 700 水质65 种元素的测定电感耦合等离子体质谱法HJ 732 固定污染源废弃挥发性有机物的采样气袋法HJ 734 固定污染物源废气挥发性有机物的测定固相吸附-热脱附/气相色谱-质谱法HJ 759 环境空气挥发性有机物的测定罐采样/气相色谱-质谱法HJ 776 水质32种元素的测定电感耦合等离子体发射光谱法HJ 777 空气和废气颗粒物中金属元素的测定电感耦合等离子体发射光谱法HJ 828 水质化学需氧量的测定重铬酸盐法HJ 836 固定污染源废气低浓度颗粒物的测定重量法HJ 908 水质六价铬的测定流动注射-二苯碳酰二肼光度法HJ 955 环境空气氟化物的测定滤膜采样/氟离子选择电极法HJ 970 水质石油类的测定紫外分光光度法《污染源自动监控管理办法》（国家环境保护总局令第28号）《环境监测管理办法》（国家环境保护总局令第39号）3 术语和定义下列术语和定义适用于本标准。
半导体行业用水标准
电子行业水质标准1.电子工业与超纯水在半导体制作工艺中,80％以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水;在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ。
cm （25℃），已极其接近理论纯水水质18。
3 MΩ.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达0。
1 微米，要保证这一指标，超纯水中颗粒径就得≤0。
05μm，而且≥0.05μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定.2。
1 电子级水国家标准:详见表2.13、超纯水中杂质的污染源3。
1 制备超纯水的水源由于水是一种溶解能力很强的溶剂，因此天然水中含有各种盐类和化合物，溶有CO2, 还有胶体（包括硅胶和腐殖质胶体），天然水中还存在大量的非溶解性质，包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
3。
2 材料的影响:制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的，金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染.材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表3。
2 分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表3。
2 各种材料的污染值(TOC 的溶出值）4水的电阻值在测定水的导电性能时,与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差,电阻值小，导电性能就良好.根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R 大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小,与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关.因此,纯净的水电阻率很大，超纯水电阻率就更大.水越纯,电阻率越大。
半导体行业用水标准
半导体行业用水标准随着科技的发展和社会的进步，半导体行业成为了现代信息技术的核心产业之一。
在半导体制造的过程中，水被广泛使用，起到冷却设备和设施、清洗材料和设备、供应纯净环境等重要作用。
因此，在半导体行业中，设定并遵守严格的用水标准显得尤为重要。
本文将介绍半导体行业用水标准的背景、重要性以及如何确保和遵守这些标准的相关措施。
一、半导体行业用水标准的背景半导体制造涉及到多个工序，包括化学处理、湿法制程、干法制程、电镀、清洗、蚀刻、抛光等。
净化水是半导体工艺中使用最广泛的水类，质量的提升对半导体芯片的性能和可靠性有着重要的影响。
而半导体行业用水标准的制定就是为了确保水质符合制造半导体设备和器件的要求，保证半导体芯片的质量和性能。
二、半导体行业用水标准的重要性1. 产品质量保证：半导体芯片是电子产品的重要组成部分，其质量直接关系到电子产品的性能和可靠性。
严格的用水标准可以保证生产过程中水的纯净度，从而确保半导体芯片产品的质量。
2. 设备保护：在半导体制造过程中，许多设备对入水质量有严格的要求。
合格的用水标准可以减少设备的损坏和维护成本，延长设备的使用寿命。
3. 节能减排：半导体行业用水量较大，严格的用水标准可以通过提高水的再利用率和减少废水排放，达到节约用水、减少污染物排放的目的，符合可持续发展的要求。
三、半导体行业用水标准的具体要求1. 纯度要求：用水标准中对水的纯度有严格的要求，包括总溶解固体（TDS）、电导率、有机物、微生物等指标。
通常要求水质达到纯净水或超纯水的级别，确保半导体制造过程中不会引入杂质和污染物。
2. 温度要求：用水的温度对一些半导体工艺有严格要求，需要在一定的温度范围内进行操作，以保证工艺的稳定性和一致性。
3. 压力要求：用水的压力对一些设备和工艺也有重要影响，需要符合特定的压力范围，以确保系统正常运行和工艺的准确性。
4. 微生物控制：半导体行业对水中的微生物有严格的要求，包括细菌、菌落总数、大肠菌群等。
半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理
半导体行业用超纯水设备工艺及工作原理2019年9月19日半导体行业的生产对水质要求非常严格，半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合行业用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺预处理→UF系统→一级反渗透→PH调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM)半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。
它的用水要求必须是超纯水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用，已经得到广泛认可。
下面莱特莱德小编来为大家分享半导体生产用超纯水设备工艺流程：原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点半导体生产用超纯水设备工作原理超纯水装置供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。
半导体生产用超纯水备工艺1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm 精密过滤器-用水对象4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)半导体生产用超纯水备特点1、选用高性能离子交换树脂，工作交换容量大，能耗低，使用寿命长。
3562 半导体器件专用设备 用水定额
3562 半导体器件专用设备用水定额在文章中，如果涉及到半导体器件专用设备用水定额的话，建议先从解释半导体器件专用设备和用水定额的基本概念开始，然后深入探讨半导体制造过程中对水资源的需求、用水定额的重要性以及相关政策和措施等内容。
结合个人观点和理解进行分析和总结。
文章整体结构建议分为导言、正文和结尾三部分。
1. 导言介绍文章要探讨的主题，简要说明半导体器件专用设备和用水定额的重要性，引出本文要讨论的重点。
2. 正文2.1 半导体器件专用设备的概念和重要性首先要介绍半导体器件专用设备的定义、种类和作用，以及在半导体制造过程中的重要性和必要性。
2.2 用水定额的意义和作用解释用水定额的概念，以及在工业生产中的意义和作用，特别是在半导体器件制造过程中对水资源的需求，以及用水定额对保护水资源和可持续发展的重要性。
2.3 半导体器件制造过程中的用水需求深入探讨半导体器件制造过程中对水资源的需求情况，包括用水量、用水质量等方面的需求，以及对水资源的重要性和敏感性。
2.4 用水定额的相关政策和措施介绍相关政策和措施，包括政府对用水定额的监管和管理，以及企业的用水定额管理措施，以及在实践中的效果和问题等方面进行详细解释和讨论。
2.5 个人观点和理解结合以上内容，分享个人对半导体器件专用设备用水定额的理解和观点，包括对政策和措施的评价，以及未来发展方向和建议等。
3. 结尾回顾全文内容，总结半导体器件专用设备用水定额的重要性和必要性，强调水资源的保护和可持续利用的重要性，为读者留下深刻印象。
根据以上提纲，可以进行深度和广度兼具的分析和撰写。
文章需要结构清晰，逻辑严谨，用词准确，语言生动，既满足知识传授的要求，又能激发读者的兴趣，使读者能更深入地理解和思考所讨论的主题。
半导体器件专用设备用水定额的重要性正逐渐受到人们的重视。
半导体器件专用设备是指专门用于半导体器件生产加工的设备，包括晶圆设备、光刻设备、清洗设备等。
这些设备在半导体制造过程中起着至关重要的作用，对水资源的需求也非常大。
电子行业废水研究
注：电子行业包含很多行业，半导体行业、电子元件行业（其中包括电容器、电阻器、电感器、电位器、电路板、电子变压器、磁性材料和电子敏感元件等）、平板显示器行业（其中包括TFT-LCD和PDP等）。
半导体行业废水研究一、废水来源在制备晶圆时，需要使用超纯水冲洗，无机药剂需要用到盐酸、氨水、硫酸和氢氟酸，有机药剂需要用到光阻剂：乙酸丙二醇单甲基醚酯PGMEA（C6H12O3）和乳酸乙酯EL（C5H10O3）；显影剂：氢氧化四甲基铵TMAH（C4H13NO）；去光阻剂：一甲基-2-比喀NMP（C5H9NO）；光阻制程用药：酚（C6H6O）；晶片干燥过程用药：异丙醇IPA（C3H8O）。
在使用药剂的过程中就会产生废水。
二、废水水质1、含氟废水常见水质：2、酸碱废水酸碱废水中，常含有SS，所以在处理时需要注意是否另行添加去除颗粒度的设备，或是和研磨废水合流处理。
3、有机废水4、研磨废水5、氨氮废水6、含铜废水具体水质可参看上海华立项目和大连英特尔项目三、出水水质1、国家标准污水综合排放标准2、行业标准3、企业标准有些企业考虑到最终排放水质要与生活污水合流排放，或是响应国家号召，会出现与国家标准和行业标准不相同的标准。
四、工艺流程参考上海华立项目和大连英特尔项目。
电子元件行业废水研究一、废水来源电子元件，以印制电路板行业为主要介绍对象。
在上述印制电路板的过程中，会产生有机废水、酸性废水、碱性废水、含氰废水、络合废水、含铜废水和研磨废水。
二、废水水质废水水质：序号废水种类比例(%)pH COD Cu Ni CN NH3-N 说明1 磨板废水15~30 5~7 <30 <32 络合废水3~8 10 200~300 <50 化学镀铜等清洗水，含EDTA等络合物3 高浓度有机废水3~6 >10 5000~15000 2~10 显影、剥膜、除胶废液和显影首级清洗水4一般有机废水10~15 <10 200~600 脱膜、显影工序的二级后清洗水；贴膜、氧化后、镀锡后以及保养清洗水5 电镀废水15~20 3~5 <60 10~506 综合废水20~30 3~5 80~300 20~35 一般清洗水7 含氰废水0.1~1.0 8~10 30~50 <200 挠性板含氰废水较多8 含镍废水0.1~1.0 2~5 <80 <100 镀镍清洗水9 含氨废水1~5 8~10 60~200 碱性蚀刻清洗水废液成分序号废液种类pH COD 总Cu 废液成分1 油墨废液≥125000~20000 冲板机显影阻焊油墨渣2 褪膜废液≥125000~20000 (3~8)％NaOH，溶解性干膜或湿膜3 化学镀铜废液≥123000~20000 2000~10000 CaSO4，NaOH，EDTA，甲醛4 挂架褪镀废液~5M酸50~100 ~80000 硝酸铜，浓硝酸5 碱性蚀刻废液9 50~100 130000~150000 Cu(NH3)2Cl26 酸性蚀刻废液~2M酸50~100 150000 CuCl2，HCl三、出水水质1、国家标准污水综合排放标准2、行业标准4、企业标准有些企业考虑到最终排放水质要与生活污水合流排放，或是响应国家号召，会出现与国家标准和行业标准不相同的标准。
工业蒸馏水的分类标准
工业蒸馏水的分类标准工业蒸馏水是指通过蒸馏技术处理而得到的水，其主要用途是用于工业生产中的各种用水需求。
根据不同的分类标准，工业蒸馏水可以分为以下几种。
一、按照水质等级分类1. 一级蒸馏水：也称为超纯水，其纯度高达99.999%以上，主要用于半导体、电子、光学等高科技领域。
2. 二级蒸馏水：也称为纯水，其纯度在99.9%以上，主要用于制药、化工、电镀等行业。
3. 三级蒸馏水：也称为去离子水，其纯度在99%以上，主要用于电力、冶金、纺织等行业。
4. 四级蒸馏水：也称为普通蒸馏水，其纯度在95%以上，主要用于一般工业生产中的用水需求。
二、按照蒸馏方式分类1. 热力蒸馏水：是指通过加热水使其蒸发，再通过冷凝器将蒸汽冷凝成水的蒸馏方式。
这种方式适用于处理大量水的情况。
2. 蒸发蒸馏水：是指将水加热至沸点，使其蒸发，再通过冷凝器将蒸汽冷凝成水的蒸馏方式。
这种方式适用于处理浓度较高的水。
3. 气体蒸馏水：是指通过将水蒸气与其他气体混合，再通过分离器将水蒸气分离出来的蒸馏方式。
这种方式适用于处理含有易挥发物质的水。
三、按照用途分类1. 锅炉给水：是指用于锅炉的补给水，要求水质纯净，不含杂质和溶解气体。
2. 冷却水：是指用于冷却设备的水，要求水质清洁，不含杂质和微生物。
3. 洗涤水：是指用于清洗设备和工件的水，要求水质清洁，不含杂质和沉淀物。
4. 制药水：是指用于制药工业的水，要求水质纯净，不含杂质和微生物。
工业蒸馏水的分类标准有很多，不同的分类标准适用于不同的场合和用途。
在实际应用中，需要根据具体情况选择合适的蒸馏方式和水质等级，以满足工业生产中的用水需求。
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半导体行业用水标准集团标准化工作小组 #Q8QGGQT-GX8G08Q8-GNQGJ8-MHHGN#
电子行业水质标准
1.电子工业与超纯水
在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水；在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。
电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm (25℃),已极其接近理论纯水水质 M Ω.cm(25℃)。
对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。
如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达微米,要保证这一指标,超纯水中颗粒径就得≤μm,而且≥μm 不得超过500 个/升超纯水。
2、水质标准
超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。
电子级水国家标准:详见表
3、超纯水中杂质的污染源
制备超纯水的水源
由于水是一种溶解能力很强的溶剂,因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2, 还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体),天然水中还存在大量的非溶解性质,包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。
材料的影响:
制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的,金属在水中会有痕量溶解,造成金属离子污染。
一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂紫外吸光剂着色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。
材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。
表分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。
表各种材料的污染值(TOC 的溶出值)
4水的电阻值
在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。
根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值R大小与电极的垂直截面积F成反比，与电极之间的距离L成正比。
水的电阻率的大小，与水中含盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。
因此，纯净的水电阻率很大，超纯水电阻率就更大。
水越纯，电阻率越大。
水的电导率
由于水中含有各种溶解盐类，并以离子的形态存在，当水中插入一对电极时，通电之后，在电场的作用下，带电的离子就产生一定方向的移动，水中的阴离子移向阳极，阳离子移向阴极，使水溶液起导电作用。
水的导电能力的强弱程度，就称为电导度S （或称电导）。
电导度反映了水中含盐量的多少，是水的纯净程度的一个重要指标。
水越纯净，含盐量越少，电阻越大，电导度越小。
超纯水几乎不能导电。
电导的大小等于电阻值的倒数。
即S=1/R，S=(1/ρ)·(F/L)。
1/ρ就称为电导率，其国际制单位为西·米-1(S·m-1)
理论上,水中由于水本身的电解作用而只存在两种离子即 H+和OH-, 其浓度如下[H+] = [OH-] = 10-7 eq/l (or 10-10 eq/ml)
这些浓度的离子经计算而得到理论的电导率为:
=S/cm 在 25°C
电阻率为电导率的倒数,所以
R=18. 2MΩ.CM在25°C
电阻率的检测:电阻率在线测试仪(中科院半导体所参加起草制定)
电阻率是指在一定的温度下,边长1cm 的立方体水,其相对的两侧面之间的电阻,其单位是欧姆.厘米(Ω.cm)。
水的电导率是电阻率的倒数，单位是西门子/厘米（s/cm）。
4．3水的温度与电导率关系
影响水的电阻率值的因素很多,例如测量方法、电极方向、电容效应、极化效应、水的纯度、测量温度等。
超纯水的测量必须采用带温度补偿的仪器进行在线测试，而且定期到法定机构计量校正。
温度校正是将测量的电阻率值换算到25℃时的电阻率值，以便于比较不同水质。
表4. 1 水的温度(t)、电导率K、电阻率及温度系数K 的关系
纯水的电导率象征水中有导电能力的各种可溶性的电解质的含量,因此,通过测量水的电导率值可以近似的换算成总溶解性固体,此法换算出来的总溶液解性固体值对水处理设计仍然是重要的参考数据。
表4. 2 水的电导率\电阻率与溶解性固体之间的关系
超纯水电阻率与温度的关系
电阻率
(兆欧.厘米) 温度(摄氏度)
01020304050607080900
10 20 30 40 50 60 70 80 90 100
CO2对超纯水的影响pH=
时间(分钟)
电阻率。