光学薄膜理论基础2
《光学薄膜设计理论》课件
总结词
随着光电器件的发展,光学薄膜的应用领域也在不断 扩展。新型光电器件对光学薄膜的要求更高,需要不 断探索新的应用领域和场景。
详细描述
光学薄膜在新型光电器件中具有广泛的应用前景。例 如,在激光器、太阳能电池、光电传感器等领域中, 光学薄膜可以起到增益介质、反射镜、滤光片、保护 膜等作用。此外,随着光电器件的微型化和集成化发 展,光学薄膜的应用场景也在不断扩展,如光子晶体 、微纳光学器件等。这些新型光电器件的发展将进一 步推动光学薄膜技术的进步和应用领域的拓展。
薄膜的均质膜系法
总结词
将多层薄膜视为一个整体,并使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数的方 法。
详细描述
均质膜系法是一种更精确的光学薄膜设计方法。它将多层薄膜视为一个整体,并 使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数。这种方法适用于薄膜层数较多、 折射率变化较大的情况,能够更准确地模拟薄膜的光学性能。
光的波动理论概述
光的波动理论认为光是一种波动现象,具有振动 、传播和干涉等特性。
波动方程的推导
通过麦克斯韦方程组推导出波动方程,描述光波 在介质中的传播规律。
波前的概念
光的波动理论中引入了波前的概念,用于描述光 波的相位和振幅。
光的干涉理论
光的干涉现象
光的干涉是指两束或多束相干光波在空间某一点叠加时,产生明 暗相间的干涉条纹的现象。
按制备方法分类
03
物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶法等。
光学薄膜的应用
光学仪器
照相机、望远镜、显微镜等。
光电子
激光器、光探测器、光放大器等。
通信
光纤、光波导、光放大器等。
摄影
滤镜、镜头镀膜等。
02
光学薄膜设计基础
光学薄膜原理
Maxwell’s equations
D E B mH j E
H j D t
E m H
t
•D
•B 0
波动方程
2E
m
2E 2t
2H
m
2H 2t
折射率:refractive index
N c/v
m
0 m0
N
c os
(k Etian )
p (k Etian )
S-
H
i 0
E
i 0
×
r
×
×
s polarization
Ei tan
Ei
Hi tan
Hi
cos
N (r Ei ) cos
N
cos (k
Ei tan
)
s
(k
Ei tan
)
s N cos p N / cos
1
2
第一章
光学薄膜设计的理论基础
第一节 电磁波及其传播
远红外线 中红外线 近红外线 可见光区 近紫外 远紫外
x射线
γ射线
9~600mm 1.0nm~8mm 0.7~1.0mm 0.4~0.7mm 0.2~0.4mm 0.03~0.2mm 0.1nm~0.03mm
1.0pm~0.1nm
0.15~0.01ev 1.2~0.15ev 1.8~1.2ev 3.1~1.8ev 6.2~3.1ev 41.4~6.2ev 12000~42ev
2.复折射率 N: ---磁场幅值与电场幅值之比
H=N (k×E) 或 N H c n ik (2) kE v
光学薄膜基础理论
n0 cos1 N1 cos0 n0 cos1 N1 cos0
可见rs、rp都是复数,rs rs eis 和rp rp ei p的
辐角是反射的位相变化,反射率由模的平方确定
波长为 546nm的 光入射到金 属Ag和Cu 上的情形
第二种介质为吸收时的情况
不管入射角如何,反射光的位相变化不 再是00或1800而是它们中间的某一角度, 同时s—分量和P—分量之间有一个不为0的 相对位相差, 因而当入射光为线偏振光在吸 收介质上反射后通常成为椭圆偏振光, 正 是基于这种认识,利用反射光的椭圆偏振 测量就可确定吸收介质的光学常数。
η2/Y。由于λ/2和λ/4的光学厚度的膜层组成的膜系比较简
单,所以膜系设计常常用指定波长1/4的倍数来表示,一般
只用两种或三种不同的膜料构造膜系, λ/4光学厚度的常用
缩写符号是H、M、L分别表示高、中、低折射率。
λ/2和λ/4的光学厚度
当膜层的光学厚度为λ/2时
cos
i sin
i
sin cos
sin0
ik1
可 见1为 复 数, 除0 1 0时 ,1不 再 为折 射 角 ;
当0
1
0时 ,rp
rs
n0 n1 ik1 n0 n1 ik
第二种介质为吸收时的情况
当0 0时情况要复杂的多
rs
rs
eis
n0 cos0 n0 cos0
N1 cos1 N1 cos1
rp
rp
ei p
负向行进的波位相因子应乘以ei
单层膜的反射
在膜层内E和H在边界a上的值为:
E1a
E1bei ,即k
E1a
1 2
Hb
1
薄膜光学
N0 N1 cos cos 0 1 当 分 子 为 零 反 射 为 零这 ,一 入 射 角 称 为 布 儒特 斯角 N0 N1 又根据折射定律 N 0 sin 0 N1 sin 1 cos 0 cos1 N1 得 到t an 0 ; 0 布 儒 斯 特 角 N0
对于任何闭合的假想面(叫高斯面),通过假 想面的电场通量与该面所包围的净电荷之间的 关系:
0 E d S q
薄 膜 光 学——基础理论
磁学的高斯定律
对于任何闭合的假想面(叫高斯面),通过假 想面的磁场通量为0:
B d S 0
薄 膜 光 学——基础理论 法拉第电磁感应定律
r H
由麦克斯韦方程: 4 1 D 4 i j E E c c t c c 4 H i N2E E i c c H
薄 膜 光 学——基础理论
平面电磁波理论——E和H的关系
比较可得 ( 1): N E r H; 同 理 E可 得 : H N r E ;这说明 r、 E、 H三 个 量 相 互 垂 直 电磁波是横波 E , 、 H不 但 垂 直 , 而 且 数 值 还 间有
薄 膜 光 学——基础理论
平面电磁波理论
整理后可得: E
2
2 E
c
2
4 E 2 1 2 t c t
设它的解: E E0e
2
i t x
v
2 带入(1)中
c 4 整理得到:2 i v
薄 膜 光 学——基础理论
薄 膜 光 学——基础理论
麦克斯韦方程组
E——电场强度
D——电位移矢量 H——磁场强度 B——磁感应强度 μ——磁导率 D =ε E B =μ H
薄膜光学与薄膜技术_第01篇-01-薄膜光学的理论基础
c r 0r 0n2
(1-5)
式中n表示介质的折射率,均匀介质取常数值。 (2)对于各向同性线性非均匀介质,介质
非导电 s = 0, r 为实函数,则有
r r 0r r 0n2 r (1-6)
非均匀介质折射率n随空间变量变化。
k = w me
(1-25)
则方程(1-22)和方程(1-23)就化为理想介 质中的复矢量波动方程。
薄膜光学与薄膜技术基础
波数 k 也称之为空间角频率。波数 k 与
波速 u 及角频率 w之间的关系为
k = w me = w = wn uc
(1-26)
式中
u= 1 = c me n
(1-27)
为光波在介质中的传播速度,c为真空中的光
界面上的自由电流面密度复振幅矢量。如果
把边界条件写成标量形式,有
ìïïíïïî
E%1t H%1t
= -
E%2t H%2t
=
J%s
(1-18)
式中 E%1t 、E%2t 和 、 H%1t H%2t 分别表示介质1和介质2分 界面上电场和磁场复振幅矢量的切向分量。J%s 为分界面上 p2 2 4 2 2
n
1 2
p2 1 4 2 2
(1-11)
式中 n 称之为导电介质的折射率,a 称之为消
光系数。由式(1-11)可以看出,导电介质
的折射率和消光系数是光波频率的函数,所
以光波在导电介质中传播或在导电介质表面
CsI
KI CsBr
BaF2
KBr
CaF2
KCI
SiO2
NaCI
NaF
0.8 100 200
《光学薄膜膜系设计》课件
,常用的测量方法有光谱椭偏仪法和光谱反射法等。
03
光学薄膜设计方法
膜系设计的基本原则
光学性能原则
薄膜的光学性能应满足设计要求,如 反射、透射、偏振等特性。
物理化学稳定性原则
薄膜应具有优良的物理和化学稳定性 ,能够经受环境因素的影响,如温度 、湿度、紫外线等。
机械强度原则
薄膜应具有足够的机械强度,能够承 受加工和使用过程中的应力。
干涉色散
由于薄膜干涉作用,不同波长的光 波会产生不同的相位差,导致不同 的干涉效果,从而产生色散现象。
薄膜的光学常数
光学常数定义
01
描述介质对光波的折射率、消光系数等光学性质的一组参数。
薄膜的光学常数
02
对于光学薄膜,其光学常数包括折射率、消光系数、热光系数
等。
光学常数测量
03
通过测量光波在薄膜中的传播特性,可以获得薄膜的光学常数
反射膜的应用案例
总结词
反射膜主要用于将特定波段的光反射回原介质,常用于聚光镜、太阳能集热器等领域。
详细描述
反射膜具有高反射率和宽光谱特性,被广泛应用于太阳能利用和照明工程中。通过将反 射膜镀在金属镜面上,可以大大提高光的反射效率,从而实现高效聚光和散热。此外,
反射膜还用于制作装饰性和广告用反射镜面。
干涉现象
当两束或多束相干光波相遇时,会因相位差而产生明暗相间的干 涉条纹。
干涉条件
为了产生稳定的干涉现象,需要满足相干波源、相同频率、相同 方向和相同振动情况等条件。
薄膜的干涉效应
薄膜干涉原理
当光波入射到薄膜表面时,会因 反射和折射而产生干涉现象。
薄膜干涉类型
根据光波在薄膜中传播路径的不同 ,可分为前表面反射干涉和后表面 反射干涉。
第三章 薄膜光学基础理论1
S
D ds d
S
B ds 0
B ds L E dl t S D j ds L H dl t S
波动方程的解
麦克斯韦方程的微分形式:
(1) (2) (3) (4)
对4式两端对时间求导数,则
N 2 H =i E (13) 2 c
(15)
H z H y ( H ) x = y z 2 N 2 N = i s0 y H z i s0 z H y
2 N = i (S0 H ) x
2 N (S0 H ) y
N 2 将(13)式 H =i E 代入(16)式, 2 c
i t 2 nx
说明在导电介质( 0,因而k 0)是一个衰减波, 消光系数k 是介质吸收电磁波能量的度量。 时,振幅衰减到原来的1 e 2 k 【介质内产生的电流将波的能量转换为热能】 当x =
光学导纳
对 E E0 e
2 kx
e
i t 2 nx
S EH
E E0e
H H 0e
i t x
= E eit x E eit
0 0
i t
:电振动的初相;实数部分 E E0 cos(t ) : 磁振动的初相;实数部分 H H 0 cos(t )
坡印廷矢量:
瞬时值忽大忽小 一个周期的平均值是定值 定义坡印廷矢量的平均值为光强度I
1 T I E0 H 0 cos(t ) cos(t ) d t T 0 1 = E0 H 0 cos( ) 2 ( EH * )的实数部分为 Re( EH * )= Re E0 eit H 0 e it E0 H 0 cos( ) I 1 Re( EH * ) 2
薄膜光学技术_第02章 03 中性分光膜
1.68
22
多层分光膜G/ (HL) 8 /G 45度入射
基片折射率1.66, 2.38,1.35
23
例题
在硅基底(折射率3.5)上镀3微米到5微米的 分光膜,角度为45,分光比为1:1,材料为硫 化锌和氟化镁,计算4微米处的反射率?
多层分光膜 G/(HL)82H/G 45度入射 基片折射率3.5, 膜层折射率2.38,1.35 设计波长4600
25
M
p
M HpM Lp
c os H
i Hp sin H cos L
8
i
Hp
sin L
iHp sin H cos H iLp sin L cos L
Ms
M Hs M Ls
c os H
iHs sin H
i Hs
0
1 2 90o
所以有: n1 cos 1 n2 cos 2
又因为: n1 sin 2 n2 sin 1
消去θ2,得Rp=0的入射角θ1=θB
B arctgn2 n1
θB叫布儒斯特角或偏振角。 20
增加S偏振 光的反射率 H,L同时满足布儒斯特角, nH nL 对p分量有效折射率相等: cos H cos L 并符合折射定律: nH sin H nL sin L ns sin s
sin H
c os L
cos H iLs sin L
i Hs
sin
L
8
cosL
Yp
Cp Bp
, Ys
Cs Bs
Rs
光学薄膜及其应用
加大对光学薄膜产业的投入力度,包括资 金、人才、设备等方面的支持,推动产业 快速发展。
加强国际交流与合作
建立光学薄膜的标准体系,制定相关标准 和规范,提高产品质量和市场竞争力。
加强与国际同行之间的交流与合作,引进 国际先进技术和管理经验,提高我国光学 薄膜产业的国际竞争力。
THANKS
在常压环境下,通过化学反应生成薄膜材料并沉积在基片上。反应条件温和,设 备要求相对较低。
等离子体增强化学气相沉积
利用等离子体激活反应气体,促进化学反应并在基片上沉积成膜。具有高沉积速 率和优良薄膜质量的优点。
溶胶凝胶法技术
凝胶化过程:溶胶经陈化,胶粒 间缓慢聚合,形成三维空间网络 结构的凝胶。
热处理:对干凝胶进行高温热处 理,得到最终的光学薄膜。
光学薄膜的分类
根据光学薄膜的特性和应用,可以将其 分为以下几类
滤光片:选择性地透过或反射特定波长 光线的薄膜,用于光学滤波和色彩调节 。
分光膜:将光线按照一定比例分成多束 的薄膜,用于光谱分析和光学仪器。
反射膜:具有高反射率的薄膜,用于光 线的反射和镜面效果。
增透膜:减少光线反射,增加光线透射 率的薄膜,提高光学元件的透过率。
光学薄膜发展历程
01
02
03
04
05
光学薄膜的发展历程经 历了以下几个阶段
初期探索阶段:早期科 学家通过对自然现象的 观察和实验,发现了薄 膜干涉、衍射等光学现 象,为光学薄膜的研究 奠定了基础。
理论研究阶段:随着光 学理论的发展,科学家 们建立了完善的薄膜光 学理论体系,为光学薄 膜的设计和制备提供了 理论指导。
工作原理
利用光的干涉原理,使反射光增强。
应用领域
光学薄膜基础知识PPT教案
波动光学的建立
1845年,法拉第——光的振 动面在强磁场中的旋转
1856年,韦伯——电荷的电 磁单位和静电单位的比值= 光在真空中的速度
第36页/共120页
将光与电磁现象联系起来 37/120
1865年,麦克斯韦——光的电磁理论——麦克斯韦方程组
D
B 0
H
jc
D t
E B t
5/120
事实上,泰勒发展了一种用化学侵蚀产生“失泽” 而制作化学减反膜的方法。
目前制备光学应用的薄膜的主要方法是真空蒸发 法和溅射法,后者在十九世纪中叶就发现了,而 前者可追朔到二十世纪初。
但在1930年以前,它们不能作为实用的镀膜方法, 因为没有获得高真空的真正适用的抽气机,直到 1930年出现了油扩散泵—机械泵抽气系统以后, 制造实用的真空镀膜机才成为可能。
真空中:
2B 1 2B 0 c2 t 2
2E 1 2E 0 c2 t 2
麦克斯韦
c 1 299792458 米/秒 0 0
1832年,法拉第猜想: 电磁作用可能以波
1887年,赫兹发现了电磁波
——电磁光学建立
的形式传播,而且 光可能就是一种电
磁波动
第37页/共120页
38/120
量子论和相对论的建立
对于光学薄膜,在一块基片上淀积五、六十层膜 并非罕见,涂镀工艺是比较成熟的;
而对光学波导,则膜层层数一般不多,通常仅用 一层膜,其镀制工艺仍处在发展初期。
本课程讲的是第一种情况。
第10页/共120页
11/120
Optical thin films:通常意义的光学薄膜;
Optical coatings:一般来讲薄膜敷于光学玻璃、塑
第三章 薄膜光学基础理论2-20160407
r 2 r Y r 32r 12s
2 2 1 3 2 2 2 4 2 2
– r:奇数 – ƞs:基底
对于四分之一波长的光学厚度 (QWOT)情形
•膜层数=偶数时,Y 变成:
Y
其中nH = 2.35,nL = 1.45
cos B 1 C i1 sin 1 i sin 1 cos 2 1 cos 1 i2 sin 2 i sin 2 1 2 cos 2 3
称为该双层膜系的特征矩阵,Y=C/B则反射率为:
薄 膜 光 学——基础理论
薄 膜 光 学——基础理论
复习:
若光波沿 r ,, 所 确 定 的 方 向 传 播 则 : 2N x y z E E0 expi t
N=n-ik
复折射率
H1 N1 S0 E1
H N ,这是N的另一种表达式 S0 E 称为光学导纳
m / 2
m = 1, 3, 5 ……,(QWOT) m = 2, 4, 6 ……,(HWOT)
CONTINUING EVALUATION
m=偶数时(HWOT), cos = ±1和sin = 0, 2x2矩阵变成
1 0 0 1
被称为单位矩阵(unity matrix),换句话来说, 等同于不存在; 在一些特殊应用中非常重要(见后文)
薄 膜 光 学——基础理论
单层膜的反射
在膜层内E和H在边界a上的值为:
薄 膜 光 学——基础理论
单层膜的反射
在入射介质中看a界面上:
光学薄膜原理
E
r 0
)
N1(k0
E
t 1
)
N
0
E
i 0
N
0
E
r 0
N
1
E
t 1
N
0
(
E
i 0
E
r 0
)
N 1 E1t
(2)
(1)×N1-(2)得振幅反射系数:
r
E
r 0
E
i 0
N0 N1 , N0 N1
(1)×N0+(2)得振幅透射系数:
t
E
t 0
E
i 0
2N0 N0 N1
垂直入射时能量反射率和透射率:
12
1 2 E2
1
2 1 H 2
E
12
1 2
E2
1
2 1
H2
( e iδ1 = cosδ1+ i sinδ1, e -iδ1 = cos δ1 - i sin δ1 )
H0=YE0, H2=η2E2
E0
1 Y
cos 1
i
1
sin
1
i sin
1 cos
1
1
1
2
E
2
B
C
光学薄膜的基本原理
第一章:光学薄膜设计的理论基础
第一节: 电磁波及其传播 第二节: 单界面的反射和折射 第三节: 单层薄膜的传输矩阵 第四节: 多层薄膜的分析方法
第二章:典型薄膜系统的设计
第一节: 增透膜(减反射膜) 第二节: 分光膜 第三节: 高反射膜 第四节: 干涉截止滤光片 第五节: 带通滤光片
第一章
光学薄膜设计的理论基础
第一节 电磁波及其传播
薄膜原理与技术_02 光学薄膜普遍定理
0
in1
i n1
0
0 in2
i n2 0
n2 n1
0
0
n1 n2
以这双层膜为基本周期的多层膜,其特征矩阵
M
s
(M1M 2 )s
(
n2 n1
0
)s
0
(
n1 n2
)s
应用:
1、 p q p 结构 ① 改变p与q的相对厚度,改变E的大小可以获得折射率从np到nq之 间任意
折射率的等效膜层;“变折射率膜层”
② 对于通带附近等效的折射率具有较大的色散。改变E的位置“偏周期设计 法”
很容易证明,这个结果能够推广到由任意多 层膜组成的对称膜系。首先划定多层膜的中 心三层,它们独自形成一个对称组合,这样 便可以用一个单层膜来代换。然后这个等效 层连同两侧的两层膜,又被取作第二个对称 三层组合,依然用一个单层膜来代换。重复 这个过程直到所有膜层被替换,于是最终又 形成一个等效单层膜。
2
2 2 22 22 2 2 2
2、L H L H L H L E, Γ E’,Γ’ E”,Γ”
当对称膜系中各分层的厚度很小时(例如不 超过10nm),等效折射率E几乎是一常数,它介 于Np和Nq之间,取决于分层厚度的比值,同时 位相厚度和对称膜系实际的总的位相厚度成比例, 在大多数情况下其比例常数接近于1。 因此这种 基本周期的厚度很小的周期性对称膜系非常类似 于色散很小的单层均匀薄膜,可以用来替换那些 折射率无法实现的膜层, 它在减反膜的设计中, 得到了实际应用。
第一篇-第一章 薄膜光学的理论基础解读
对于可见光波段是透明的,而半导体锗对于 波长大于2μm的红外波段是透明的,等等。 图1-1给出的是一些常用光学介质的透光范围。
氟化镁(MgF2) 氟化钙(CaF2) 氟化钡(BaF2) 石英(SiO2) 紫外石英(SiO2) 熔石英(SiO2) 玻璃(BK-7) 硅(Si) 锗(Ge) 硫化锌(ZnS) 砷化镓(GaAs) 硒化锌(ZnSe) 碲化镉(CdTe) 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 10.0
薄膜光学与薄膜技术基础
合导电体。麦克斯韦方程是描述一切宏观电 磁现象的普遍规律,因而,薄膜光学中描述 光传播特性的光波动方程可以由麦克斯韦方 程导出。 考虑时谐电磁场,空间任一点的电场强 度和磁场强度随时间作正弦或余弦变化,场 量随时间变化的因子取ejωt,则有
E(r; t ) Re E r e jt D(r; t ) Re D r e jt jt H r e H(r; t ) Re jt B ( r ; t ) Re B r e
式中
(1-3)
薄膜光学与薄膜技术基础
在求解具体的薄膜光学问题时,麦克斯 韦方程还涉及反映介质特性的关系,即电磁 场量之间关系的物质方程
D 0 r E B 0 H J E
(1-4)
- 12 e 淮 8 . 85 10 式中 0 (F/m)为真空介电常数, r - 7 m = 4 p? 10 为复相对介电常数; 0 (H/m)为
真空磁导率;σ为电导率。 式(1-2)和式(1-4)构成麦克斯韦方程 的限定形式,当 r 和 σ 给定之后,就可以针
薄膜光学与薄膜技术基础
第四章 光学薄膜的设计理论
相继矢量之间的夹角
矢量图
有效界面法 单层介质薄膜的光学特性
由于上式第二项开始是无穷递减的等比数列,所以
这说明单层膜的两个界面可以用一个等效界面来表示, 因此可以用递推法或矩阵法把单层膜反射系数推广到任 意层膜的场合,这就是菲涅耳系数的递推法和矩阵法。
有效界面法或Smith方法,其基本思想是使选定的膜层从 膜系中分离出来,整个膜系组合可以用两个有效界面表 示,只要考虑一膜层中的多次反射,对多层膜特性就可 以分析,全部要求在于求出选定层两侧子膜系的反射系 数和透射系数。
缓冲层与虚设层的关系 虚设层是有效光学厚度等于半波长或其整数倍,在参 考波长处它对薄膜系统的特性没有影响,也即只要保持 光学厚度不变,折射率的任何变化不改变整个多层膜在 参考波长处的光学特性 缓冲层在保持R1=0或R2=0条件下,其厚度是可以任 意改变的。 他们都提供了一个额外的设计变量来满足其他波长或倾斜 入射是另一偏振分量的光学特性要求。
对称膜系的等效层 单层膜的特 征矩阵:
虽然对于无吸收的介质膜系,其矩阵元M11和M22为实数, M12和M21为纯虚数,而且行列式值为1,但一般来说,M11不 等于M22,因此不能和一个单层膜等效。 但对于以中间一层为中心,两边对称安置的多层膜,却具 有单层膜特征矩阵的所有特点,在数学上存在一个等效层。
此式的重要特点是 相位关系和振幅关 系可分别研究 在特定类型滤光片设计中有重要价值
缓冲层概念
从上式可以看出,当选定层任意一侧的反射率为零,即
R1 0或R2 0或R1 R2 0
T T2或T T1或T 1
与选定层的厚度无关,即选定层的厚度变化不影响整个多 层膜的反射率(或透射明数学上存在等效层的概念
特征矩阵为
光学薄膜基础知识
1 冕牌玻璃----K带头的玻璃 折射率n较小 色散系
数大 钡冕 等 可分为氟冕 FK 磷冕 PK 轻冕 QK BaK 重冕 ZK 镧冕 LaK 特冕 TK
数大 可分为冕火石 KF 轻火石 QF 钡火石 BaF 重火石 ZF 镧H火石 LaF 等
2 火石玻璃----F带头的玻璃 折射率n较大 色散系
00
2
7
10-4
0
3
10-4
3
10
10-4
1
5
10-4
4
20
10-4
玻璃的光学均匀性以一块玻璃中各部位间的折射率微差最大值 nmax表示时 按下表分为4类 类别 H1 H2 H3 H4 折射率最大微差 2 5 1 2 10-6 10-6 10-5 10-5 nmax
2
有色玻璃
它主要是滤光作用 有时候替代镀膜有时候和薄膜组 合 按照着色原理可以分为胶态着色和离子着色有色玻璃 两类 通过加入不同的吸收离子我们可以得到各种各样颜 色的玻璃 我们在用的蓝玻璃就是一种有色玻璃 HOYA叫 CM5000 肖特叫BG38 BG39等 国际 国内均有一些 专业的有色玻璃生产商
0——中心波长
Tmax——中心波长透射率
或 峰值透射率
2⊿
——透过率为峰值透过率 一半的波长宽度 也称通带半宽 度 有时也用2⊿ / 0表示相对 半宽度
四
带通滤光片
可分为
根据膜层的不同
金属滤光片 全介质滤光片 双半波 三半波全介质滤光片 金属诱导透射滤光片
100 80 % Transmittance 60 40 20 0 500
四
带通滤光片
从光学薄膜的角度来讲 最有意义的进 展是1899年出现的法布里-珀珞干涉仪 它是干涉带通滤光片的一种基本结构 而 自从1940年出现金属-介质滤光片以来 它已经在光学 光谱学 激光 天文物理 学等各个领域得到了广泛的应用
光学薄膜-基础知识
光学薄膜----基础知识介绍光是什么?光是一种电磁波,(在真空中的)可见光波长范围是700~400nm;红外光为约700到107nm量级;紫外光1-400nm;比紫外光短的还有X射线、γ射线(<0.001nm)等;而比红外长的就是我们熟悉的无线电波什么叫光的干涉?物理定义:当2个或多个光波(光束)在空间叠加时,在叠加区域内出现的各点强度稳定的强弱分布现象。
产生的条件:1、光波产生的相位差固定不变2、光波的振幅不能相互垂直3、光波的频率要一致什么叫做光学薄膜?所谓光学薄膜,首先它应该是薄的 然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢?定性的讲:它的厚度应该和入射光波长可以相比拟的物理意义上讲:能引起光的干涉现象的膜层与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR 幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜 车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域:DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域光学薄膜在光学系统中的作用提高光学效率、减少杂光。
如高效减反射膜、高反射膜。
实现光束的调整或再分配。
如分束膜、分色膜、偏振分光膜就是根据不同需要进行能量再分配的光学元件。
通过波长的选择性透过提高系统信噪比。
如窄带及带通滤光片、长波通、短波通滤光片。
实现某些特定功能。
如ITO透明导电膜、保护膜等当前最热门的应用领域1、数码相机用的IR-CUT2、投影显示光学系统----包括LCD、DLP、LCOS3、光通讯:DWDM (dense wavelengh divisionmultiplexer)滤光片4、减反射膜----永远的热门一、光学薄膜的类型我们根据其作用,可以简单的分为1、减反射膜或者叫增透膜2、分束膜3、反射膜4、滤光片5、其他特殊应用的膜一、减反膜1、减反膜的作用o增加光学系统透过率o减少杂散光o提高象质o增加作用距离一、减反膜2、减反膜按层数分类o单层减反膜o 双层减反膜一、减反膜012345400450500550600650700单层膜、λ/4-λ/4和λ/2-λ/2型双层增透膜理论曲线% R e f l e c t a n c eo 多层减反膜一、减反膜012345K 9基底上各种设计的增透膜理论曲线比较% R e f l e c t a n c e一、减反膜3、另一种分类单点减反宽波段减反(超宽波段) 双波段减反宽角度减反减反膜几个重要的技术指标•使用的波段•使用的角度或者角度范围•剩余反射率要求•使用环境•在激光领域还有激光阈值要求一般来讲,分束膜总是倾斜使用,常用的是45度。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
等效介质的等效光学导纳
i sin 1 1 1 cos 1 1 (k0 E0 ) (k0 E2 ) Y i sin 2 cos 1 1 1 i sin 1 1 B cos 1 1 令 , 则上式可改写为: C i sin 2 cos 1 1 1 1 B (k0 E0 ) (k0 E2 ) 解得 Y C B Y C i cos sin 1 1 1 矩阵 称为该膜层的特征矩阵,由薄层参数唯一确定, i1 sin 1 cos 1 它包含了薄膜的全部有用参数,其中 P 分量:1 2
1 k0 E12 2 写成矩阵形式: 1 k0 E12 2 1 21 k0 E2 1 H2 21
k E k E (4)综合( 2)和( 3),建立 0 0 与 0 2 的数值关系 H0 H2 1 1 k 0 E12 2 21 k 0 E 2 将(3)中的矩阵 1 1 k E H 2 12 0 21 2 i i k E e e k 0 E12 可得 带入(2)中的矩阵 0 0 i i 1e k 0 E12 H 0 1e 1 1 i i i k 0 E0 e e 2 21 k 0 E 2 cos 1 sin 1 k 0 E 2 1 i i 1 1 1e H 2 i sin H 0 1e cos 1 H 2 1 1 21 2 上式就把入射界面的 E0 和H 0的切向分量与透过最后 界面的E2 和H 2的切向分量 联系起来。
推导
等效介质的等效光学导纳
( 1)用E和H的切向分量在界面两侧连续的边界条件写出在界面1上:
E0 E11 , E0 E11 E0 E0 E0 E11 E11 E11 H0 H0 H0 H11 H11 H11 于是,可得: k0 E0 k0 ( E11 E11 ) H 0 H11 1 (k0 E11 ) 1 (k0 E11 ) 1 (k0 E11 k0 E11 )
0
图1 多层膜的等效界面
等效介质:薄膜系统和基底组合而成。 将入射介质和等效介质之间的界面称为等效界面,即等效界面两 侧分别是入射介质和等效介质。 入射介质的折射率仍旧是N0,等效介质具有等效光学导纳Y。因 此,整个薄膜系统的反射率就是等效界面的反射率,等效界面的 2 反射率计算公式为: Y R 0 0 Y
N1d1 cos 1;对于(TM 波)
N1 ,对于(TE波) S 分量:1 N1 cos 1。以后我们将 cos 1
会看到,在分析薄膜特性是,这一矩阵是非常有用的。
单层介质膜的光学特性
i cos sin B 1 1 1 矩阵 1 C 2 i sin cos 1 1 1 定义为基底和膜层组合的特征矩阵。 进而就可以求得单层介质膜的反射率。 我们把 2
Y C
B
故振幅反射系数为: 能量反射率为:
( 4)
B 由 C 矩阵的表达式可以知道,当薄膜的有效光学厚度为1/4波长的整数
倍时,即
或其位相厚度为
2
的整数倍时,即
单层介质膜的光学特性
在参考波长处会出现一系列的极值。(a)对于厚度为 0 4 的 奇数倍,即m=1,3,5….的情形,有:
( 3)
当膜层参数已知后,其矩阵元就确定了,便可以求出等效光学导纳Y, N1d1 cos 1叫做薄膜的有效位相厚度,把N1d1 cos 叫做
薄膜的有效光学厚度。
讨论
单层介质膜的光学特性
i B cos1 sin 1 1 1 C 2 i sin cos1 1 1
(2)在界面1, 2的内侧,不同纵坐标、相同横坐标的两点,只要改变波的位相因子, 就可确定它们在同一瞬时的状况。正向行进的波的位相因子应乘以 exp(i 1 ), 而负 向行进的波的位相因子应乘以 exp(i 1 ),其中
i i 即:E12 E11 e , E12 E11 e , 所以 k0 E0 k0 ( E11 E11 ) (k0 E12 )ei (k0 E12 )e i H 0 1 (k0 E11 k0 E11 ) (k0 E12 )1ei (k0 E12 )1e i
计算可得
这通常称为四分之一波长法则。此时,
(b)而对于厚度为0 4 的偶数倍,即m=2,4,6….的情形,有:
单层薄膜的等效界面
单层薄膜的两个界面在数学上可以用一个等效的界面来表示,如 图2。膜层和基底组合的导纳是Y。
根据边界条件,在等效 界面两侧的电场、磁场 强度的切向分量连续, 即:
/ E0 E 2 , / H0 H2 / / 等效介质的光学导纳定 义为Y H 2 E2 H 0 E(已将前两式代入)。 0
首先,根据界面1上的边界条件,建立E0、H0与E11+、 E11-的联系; 然后,根据平面电磁波传播规律,找出E11+、 E11-与E12+、 E12-的关 系,从而建立E0、H0与E12+、 E12- 的联系; 之后,再根据界面2上的边界条件,找出E12+、 E12-与E2、H2的关系, 从而建立E0、H0与E2、H2的联系(具体的数值关系与膜系和基底的 参数N1 、 N2、d1等有关); 最后,基于等效界面思想,结合等效介质的等效光学导纳Y和基底 光学导纳的定义式,最终建立Y与膜系和基底的参数的关系。
复习
光学导纳 修正导纳 菲涅尔公式
Y H k0 E N 0 / 0
r
N cos
N 0 / 0 Ny0
TE波: s N cos TM波: p
0 S 1S 0 S 1S 20S tS 0 S 1S
rS
单一界面的反射率和透射率
2
n1d1 cos 1。
等效介质的等效光学导纳
k0 E0 e i e i k0 E12 写成矩阵形式: i i e e H k E 1 0 12 0 1 (3)同理,根据E和H的切向分量在界面 2两侧连续可写出在界面 2上: E12 E12 E2 k0 ( E12 E12 ) k0 E12 k0 E12 k0 E2 H12 H12 H 2 1 (k0 E12 ) 1 ( k0 E12 ) 1 (k0 E12 ) 1 (k0 E12 )H0 H 2 1 1 于是,可得: k0 E12 (k0 E2 ) H2 2 21 1 1 k0 E12 (k0 E2 ) H2 2 21
2 2
Hale Waihona Puke 1s 2 401 t 2 0 s 0 1
第二章 光学薄膜理论基础
主要内容
等效界面思想 单层薄膜的等效界面 等效介质的等效光学导纳 单层介质膜的光学特性 多层介质膜的光学特性 吸收薄膜的光学特性
等效界面思想
等效界面思想:任意光学多层膜,无论是介质薄膜或是金 属薄膜组合,都可以用一虚拟的等效界面代替,而且等效 界面的导纳为 Y H 0 E ,如图1所示。
等效介质的等效光学导纳
等效介质的等效光学导纳
(5)运用等效界面思想, 建立Y与膜系和基底参数 的的关系 对于介质(基底)有: 2 H 2 2 (k 0 E 2 ); ' ' 又根据等效界面思想, 对于等效介质有: H 2 Y (k 0 E 2 ),根据边界条件(针对 ' ' 等效界面),有 H 2 H 0 , E 2 E0 , 将其带入上式可得: H 0 Y (k 0 E0 ); i k E cos 1 sin 1 k 0 E 2 将H 2 和H 0带入(4)的矩阵 0 0 1 ,即可得 H 0 i1 sin 1 cos 1 H 2 i k 0 E0 cos 1 sin 1 k 0 E 2 1 Y (k 0 E0 ) i1 sin 1 cos 1 2 (k 0 E 2 ) i 1 1 cos 1 sin 1 (k 0 E0 ) (k 0 E2 ) 1 2 Y i sin cos 1 1 1
2
0 P 1P 0 P 1P 20 P cos 0 tP 0 P 1P cos 1
rP
E I 2 R r r 2 r 0 1 0 1 Ii Ei 0 1 0 1 N cos 1 Et I T t 1 I i N 0 cos 0 Ei
式中
/ / H2 , E2
图2 单层薄膜的等效界面
根据边界条件可以知道:Y=H0/E0。于是如同单一界面的情形, 2 单层膜的反射率可表示为: 0 Y
R
0 Y
等效介质的等效光学导纳
只要确定了组合导纳Y,就可以方便地计算单层膜的反射和 透射特性。因此问题就归结为求取入射界面上的H0和E0的比 值。下面推导组合导纳的表达式。
图3 单层薄膜的电场
如图3在薄膜上下界面上都有无数次反射,为便于处理,我 们归并所有同方向的波,正方向取+号,负方向取–号。 E11 和E12 是指在界面 1和2上的E1,符号E11 和E12 ,H11 和H12 等具有