2016-第四章第一讲(1)解析

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VX 表示X原子占有的位置,在X原子移走后出现 的空位。
把离子化合物看作完全由离子构成(这里不考 虑化学键性质)
如在 NaCl晶体中,取走一个Na+ 晶格中多了一 个e, 因此VNa 必然和这个e/相联系,形成带电 的空位——
VNa 写作 VNa e VNa
同样,如果取出一个Cl- ,即相当于取走一个 Cl原子加一个e,那么氯空位上就留下一个空 穴(h. )即
晶格中的空位和间隙原子可以由不同机制产生
第四章 晶体缺陷
在晶格内部的原子可以因为热涨落由格点跳 进间隙位置,从而同时产生一个空位和一个 间隙原子。称为弗伦克尔缺陷
第四章 晶体缺陷
邻近表面的原子也可以由于热涨落跳到晶体的 表面,从而在晶体内留下一个空位。
称为肖脱基缺陷
第四章 晶体缺陷
上面两种过程也可以反向进行,使得晶格中的 空位和间隙原子杂质原子
按照其出现的位置可以分为:
替位杂质和填隙杂质,
由于它们改变了晶体的化学成分,因而也被 称为化学点缺陷。
第四章 晶体缺陷
点缺陷影响着晶体的许多物理性质:
通过对导电电子的散射影响了金属的电导率; 通过对声子的散射影响了晶体的导热性;
半导体晶体中杂质原子作为施主或受主显著地 影响着半导体的电学性质
晶体表面的原子也可以由于热涨落跳入晶格间 隙,形成间隙原子。
从效果上讲,也可以看作是一个弗伦克尔缺陷 和一个反向的肖脱基缺陷的组合过程,
弗伦克尔缺陷和肖脱基缺陷为两种基本的热缺 陷生成机制。
第四章 晶体缺陷
上述各种正过程及其逆过程的同时存在
晶体中的空位和间隙原子不断产生;
空位和间隙原子可以在晶体里不断地移动或 复合。
因此,在一定的温度下晶体里空位和间隙原 子的浓度必然会达到一个平衡状态。
第四章 晶体缺陷
考虑由一种原子组成的晶体中空位的统计平衡 问题
设晶体包含N个原子和n个空位,晶格的自由能 函数为
F (n ) U T(S 4.1)
第四章 晶体缺陷
空位浓度达到平衡时自由能F(n)取极小值,故 平衡时的空位数n:
第 四章 晶体缺陷
第四章 晶体缺陷
晶体的主要特征—结构基元作周期性的排列
实际晶体中的原子或离子总是或多或少地偏离 了严格的晶体周期性
有各种各样的结构缺陷,对晶体的各种物理性 质产生重要影响。
根据空间延伸的线度(维度),可分为:
点缺陷、线缺陷、面缺陷和体缺陷 根据产生缺陷的原因分
热 缺 陷(本征缺陷) 杂 质 缺 陷 (非本征缺陷
VCl
h•
V• Cl
(2) 填隙原子:用下标“i”表示 Mi 表示M原子进入间隙位置; Xi 表示X原子进入间隙位置。
(3)错放位置(错位原子): MX 表示M原子占据了应是X原子正常所处的平 衡位置,不表示占据了负离子位置上的正离子 。 XM 类似。
(4)溶质原子(杂质原子): LM 表示溶质L占据了M的位置。如:CaNa SX 表示S溶质占据了X位置。
(5)自由电子及电子空穴: 有些情况下,价电子并不一定属于某个特定位 置的原子,在光、电、热的作用下可以在晶体 中运动,原固定位置称次自由电子(符号e/ )。 同样可以出现缺少电子,而出现电子空穴(符 号h. ),它也不属于某个特定的原子位置
(6)带电缺陷
不同价离子之间取代如Ca2+取代Na+——Ca
KCl 晶体属NaCl结构类型,氯离子作面心 立方密堆积,钾离子占据所有的八面体空隙, 晶体结构中仅有四面体空隙。
从结晶学角度衡量,氯离子很难进入这些间隙 位置。
如果出现填隙钙离子和钾离子空位,钙离子的 半径较大,进入四面体间隙位置需要克服很高 的势垒。
因此从系统能量越低结构越稳定的观点考虑, 钙离子更有可能进入钾离子空位。
4.1.2 点缺陷化学反应方程 缺陷反应和化学反应一样,可以写成反应方 程式。
点缺陷方程式必须遵循以下基本规则: 1. 晶格位置平衡 2. 质量平衡 3. 电荷平衡
AgBr 晶体的弗伦克尔缺陷(银离子): 氯化钠晶体的肖特基缺陷:
CaCl2杂质溶入KCl晶体,可以写出三种缺 陷反应方程:
(1) (2) (3)
· Na
Ca2+取代Zr4+——Ca”Zr
(7) 缔合中心 在晶体中除了单个缺陷外,有可能出现邻近两 个缺陷互相缔合,把发生 缔合的缺陷用小括 号表示,也称复合缺陷。
在离子晶体中带相反电荷的点缺陷之间,存在 一种有利于缔合的库仑引力。
如:在NaCl晶体中
VN a VC•l (VN aVC•l )
空位和间隙原子
是点缺陷的典型例子,
它们是晶体中最小的、也是最基本的缺陷形式
第四章 晶体缺陷
空位就是在晶格中原本应该有原子的位置上缺 少了原子
间隙原子则是在原本不应该有原子的点阵间隙 位置上出现的原子,也称为填隙原子。
在热作用下完整晶体中会自发地出现空位和间 隙原子,这是一种本体性的结构缺陷,称为: 本征结构缺陷 (Intrinsic structure defection)。
) 非化学计量结构缺陷(电荷缺陷)
根据对理想晶体偏离的几何位置来分,有三类
空 位 正常结点位置没有被质点占据
填 隙 原 子 质点进入间隙位置成为填隙原子
杂质原子
杂质原子进入晶格(结晶过程 中混入或加入 )
§4.1 点缺陷
第四章 晶体缺陷
点缺陷,是指那些对晶体结构的干扰仅在几个 原子间距范围内的晶体缺陷
归纳上述分析,CaCl2杂质掺入KCl主晶格,方 程(1)的缺陷反应最为合理
第四章 晶体缺陷
4.1.3 热缺陷的形成与平衡浓度 当 晶 体 的 温 度 高 于 绝对零度时,由于晶格内原 子热运动,使一部分能量较大的原子离开平衡 位置产生空位或间隙原子,这样形成的点缺陷 称为热缺陷。
热缺陷是本征结构缺陷。
在 离子晶体中,由于在带隙中造成缺陷能级而 影响其光学性质;离子导电现象直接来源于点 缺陷的运动。
4.1.1 点缺陷表示法
Az 用一个主要符号表明缺陷的种类 b 用一个下标表示缺陷位置
用一个上标表示缺陷的有效电荷
“●”—有效正电荷; “ / ”—有效负电荷; “×”—有效零电荷。
以MX离子晶体为例( M2+ ;X2- ): (1)空位-V: VM 表示M原子占有的位置,在M原子移走后出 现的空位;
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