LENS的种类

LENS的种类1. 注塑LENS,基材为注塑成型之产品,主要材料有PMMA、PC两种。

2. 模切LENS,基材为平面塑料板材切割而成,主要材料有PMMA、PC两种。

二.LENS的表面加硬 1. 强化,把LENS浸泡在化学药水里使基材表面形成一层薄膜,PMMA硬度可达4H,PC达2～2.5H, 强化后LENS的透明度会更好。

强化工序需要LENS上有一特殊的手柄,在制做塑胶模具时要注意。

强化不同的塑料,使用不同的药水。

强化后的LENS,表面印刷也要使用特殊工艺才能保证附着力。

2. IMD透明膜表面加硬, 透明加硬膜置于注塑模内,成型时印在LENS表面上, 硬度可达3～4H。

3. IMD印刷膜表面加硬,与透明膜表面加硬不同的是,这种方式把图案、文字等表面装饰一并做在LENS的外表面,而透明膜表面加硬的LENS需要在背面另做印刷等加工。

4. 金刚石镀膜表面加硬,硬度可达9H。

5. 表面喷UV, 硬度可达3～4H。

三.注塑LENS: 1. 制作工艺流程模具制作---注塑成型---表面加硬---电镀(溅镀) ---丝印(移印)---蚀刻---贴镭标---背胶---包装注:此只为一大致流程,不同类型的LENS会有各自不同的加工流程 2. 设计注意事项 a. 考虑进胶口的位置,一般要设计一个能隐蔽进胶口的位置,如不能将会增加废品率、提高成本。

b. 厚度在0.8～2.0之间比较合适。

c. 注意表面R>160,防止把LENS做成放大镜 3.特点:可做各种3D形状, 四.模切LENS: 1. 制作工艺流程裁板---电镀---丝印---蚀刻---NC加工---贴镭标---背胶---包装2. 设计注意事项 a. 由于原料为标准板材,厚度有一定规格,常用有0.8、1.0mm,其它厚度要同供应商咨询。

b. 外形为机械加工,对形状有一定限制,内凹之R要6mm以上。

c. 由于弧度为弯曲加工而成,产品只允许平均厚度、单向弧度
DLC（類金鋼石）鍍膜要求高耐磨，高潤滑性現在粉末冶金模具，縫紉機零部件，柴油機發動機，空調壓縮機滑片用的最多。

切割有色金屬和容易拉毛金屬刀具，有色金屬軟金屬鍛造，磁性衝壓注塑模具最好的涂層選擇。

1cm=10^-2 M (1公分=10的負2次方公尺) cm ==> Centimeter
1mm=10^-3 M (1釐米(毫米)=10的負3次方公尺) mm==>Minimeter
1um=10^-6 M (1微米=10的負6次方公尺) um==>Micrometer
1nm=10^-9 M (1奈米=10的負9次方公尺) un ==>Nanometer
真空蒸着电镀，无污染低温塑料外壳不变形，镀膜金属表面经UV光固化处理后，耐磨(2H硬度，耐刮伤，附着佳(百格测试不脱落)，并且可以搭配各种色料，形成高亮度的颜色外观。

名词解释：
真空电镀，是电镀的一种，简称VM，是vacuum metalization的缩写。

它是把金属材料，运用真空，化学，物理等特定条件的的有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。

真空不导电电镀，又称NCVM,是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。

它的加工工艺缘于普通真空电镀，却又高于普通电镀，其加工制程比普通制程要复杂得多，所以它的良品率相对要低一些。

NCVM与VM的区别：
NCVM不但可以做普通电镀的外观效果,更可以做出不同颜色的金属效果来。

最主要的区别是普通电镀的电镀区域是导电的，而NCVM的电镀区域是不导电的。

它可以通过高压电表2万伏特的高压测试，而不导通或是击穿。

因为它的不导电性能，当手机或是蓝牙耳机收讯或是发射讯号时，产生的电磁场不被导电的镀层所屯积，从而不影响手机的RF性能以及ESD。

（简单说来，就是不会对手机，耳机的射频产生任何的影响，使我们的音影3G产品达到更好的收讯效果，比如无杂音杂色生等，它更不会对人体产生任何影响。

）所以现在3G产业中，最广为流传推广的表面处理工艺就是NCVM.。

1. PC-PMMA是複合材料,即PC和壓克力兩種材料的結合.真空加壓加溫製作...成本很高成本考量下客戶很難接受後並無再參與,當時已有
PET-PMMA,隨市場需求漸漸演化成更多種材料搭配,...
名稱
壓克力(PMMA) 聚碳酸酩(PC)
PC (Poly
Carbonate) PMMA (PolyMethyl MethAcrylate)
功能
透明耐衝擊
用途
保護片
視窗片
產品規格及光譜
ITEM NO: PMMA (polymethyl methacrylate) 光學特性:
Tave>89% @
420-700nm
Tave<1% @
200-290nm
可供應材
質、厚度及尺
寸:
PMMA: 0.65 ~
3mm
方形: 8*8 -
800*800mm
圓形: Dia8
-800mm
最高安全溫
度:
PMMA: 60℃
ITEM NO: PC (poly carbonateu)
光學特性:
论UV印刷技术的繁荣与发展
UV印刷对于促进印刷品的销售，扮演了越来越重要的角色。

在这
段时间里，应用UV技术的印刷厂的销售额增长了几乎两倍，令那
些传统胶印市场中的竞争者望尘莫及。

全世界对UV印刷的需求都
在攀升,而美国市场正处在发展的风头浪尖上……
UV小常识
UV是英文Ultraviolet Rays的缩写，即紫外光线。

紫外线(UV)是肉眼看不见的，是可见紫色光以外的
一段电磁辐射，波长在10~400nm的范围。

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·UV油墨的使用原理全面解析
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·光固化的主角——紫外线（UV）光源系统
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UV印刷新产品
今天，包装行业所启用的特殊的UV印刷工艺已经在商业、标签及特种印刷等领域得到了广泛的应用。

有关UV的新产品也层出不穷......
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·BYK化学推出2种改善UV涂料性能的新产品
UV印刷新技术
在1997、2001和2002年的印刷展上，用户们都可以感到UV技术发展之神速。

越来越多的企业涉足UV印刷技术的使用与研发......
由于辐射固化涂料的绿色环保与高效率，使得该技术在世界范围内获得了广泛重视和快速增长，其应用领域越来越广。

UV涂层具有极好的表面光洁度，很适合作为底漆用于真空金属镀膜技术领域，在塑料基材上可获得十分光亮的金属外观。

随着汽车工业的发展，许多金属替代工艺得到了应用，目前在汽车车灯反射罩应用领域，已经完全采用在PC、BMC等塑料表面通过真空镀铝膜来提高反射效果，用于这一领域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐温性(用于PC基材
要求120℃以上，BMC基材高达180℃以上)。

本文研究并探讨了在PC为基材的汽车车灯反射罩上应用的UV底漆的一些配方原则，分析了影响底漆性能的各种因素。

1、实验部分
1.1 原材料
Desmolux 2265(脂肪族聚氨酯丙烯酸低聚物，拜耳公司)、CN965(脂肪族聚氨酯丙烯酸低聚物，Sartomer公司)、环氧丙烯酸酯(自制)、氨基丙烯酸酯(自制)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、丙烯酸丁酯(BA)、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)、二缩三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)、RUNTECURE1103、RUNTECURE1107(光引发剂，常州华钛有限公司)、Irgacure184、甲基异丁基酮、甲苯、异丙醇，醋酸丁酯。

1.2 实验仪器
UV-102型光固化机(欧石曼科技发展有限公司)、UV-INTEGRATOR型UV能量计(德国)、730型傅立叶-红外光谱仪(Nicolet公司)、Q-100型差示扫描量热仪(TA Instruments公司)、1800×1950型全自动电阻蒸发真空镀膜机(佛山市艾特曼真空机器厂)。

1.3 UV涂料的配制
将配方量的活性低聚物、活性稀释剂、光引发剂、稀释剂等一并投入容器中，充分混合均匀即配得涂料。

1.4 实验方法
将UV涂料喷涂于PC基材上，在光固化机下照射固化，然后真空镀铝，采用国标方法测定涂层与基材、涂层与镀铝层的各项物理机械性能。

采用傅立叶-红外光谱仪，用KBr压片法测试涂料固化前后双键的变化情况。

用差示扫描量热仪(DSC)测试涂层在温度升高时的热流变化情况，判断涂层热稳定性的好坏。

2、结果与讨论
2.1 真空镀膜对UV底漆的要求
在真空镀膜前要在塑料基材表面进行UV涂装的主要原因有以下两点:第一，通过UV涂层来封闭基材，防止真空镀膜时或工件使用时基材中的挥发性杂质逸出，影响镀膜质量。

像在车灯反射罩应用时，由于在使用过程中温度会升到100℃以上，基材中如有挥发性杂质释放会使镀铝层发彩、变色、影响反射效果。

图1(略)为PC塑料的DSC曲线，此图显示出PC基材在温度为90℃左右时有明显的热流变化，可以认为有物质释放，其玻璃化转变温度Tg约为140℃，该材料的使用温度应该低于这一温度。

第二，提高基材表面平整度，确保获得镜面的镀膜效果。

一般来说塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空镀膜的厚度不超过0.2μm，无法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的镜面效果，UV涂层厚度达到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到
理想的镀膜效果。

适用于PC材料车灯反射罩的UV涂料必须具备以下基本特点:(1)流平状态好，漆膜丰满光亮，这样可以确保真空镀膜后有一个完整的反射膜。

(2)涂膜具有封闭作用，可以在120℃时保证PC基材的逸出物不会影响镀层。

(3)涂层自身有一定的耐热性，120℃不会有物质分解释放而对镀层产生影响。

注:1―流平性以5为最好，1为最差；2-DSC测试涂层有逸出物的温度；3―固化性以涂膜实干所需接受的UV辐照量为单位，数值越大，表明越难固化。

从表1可以看出:低聚物种类对涂层的流平性有着很大的影响，Desmolux2265这种低粘度活性低聚物流平性特别好，3.7的高官能度使得它的固化速度要大大快于其他二官能度的脂肪族聚氨酯丙烯酸低聚物。

上述实验还表明:在UV涂料实干后，其耐热性均可以达到PC车灯反射罩用UV底漆的要求，低聚物种类对耐热
性影响不大。

2.3 活性稀释剂对真空镀膜UV底漆性能的影响
改变活性稀释剂的种类和配比，考察其对UV涂层与基材间、镀膜与涂层间的附着力以及镀膜耐热性的影响。

结果如表2所示。

表2 活性稀释剂对UV涂料性能的影响
2.3.1 活性稀释剂对涂层附着力的影响
从表2可以看出:当TMPTA和HDDA的加量占配方总量的40%以上时，涂层对基材有着良好的附着力。

就影响UV涂料对塑料附着力的因素而言，活性稀释剂主要体现在它们对基材的侵蚀能力，活性稀释剂将塑料基材轻微溶胀或软化，这样固化后介面之间形成了互穿网络，可以提高附着力。

TMPTA和HDDA对PC 都有着很好的侵蚀性，BA也同样具有这种能力，以它们为主要活性稀释剂组分就可以保证附着力，相比较而言，TPGDA对PC的侵蚀能力较差，附着力就不好。

真空金属镀膜UV底漆的研制及影响因素
2007/12/27/10:08 来源：SpecialChem
2.3.2 活性稀释剂对镀膜附着力的影响
从表2来看:随着多官能度活性稀释剂用量的减少，镀膜与涂层间的附着力受到了较大的影响。

在真空镀膜过程中，处于蒸发态的铝很容易形成高能粒子，这些粒子可以轻易嵌入涂层浅表层，模糊相界，使镀膜与涂层紧密结合。

当UV涂料中双官能度和单官能度稀释剂增加时，涂膜交联密度下降，真空镀膜过程中基材中的一些逸出物、未反应的涂料组成物会在真空作用下到达涂层表面，削弱了高能粒子的作用，镀膜在这些未成膜物质上也不会有很好的附着作用，所以
表现出镀膜附着力下降。

2.3.3 活性稀释剂对镀膜耐热性能的影响
从表2来看:对镀膜耐热性产生影响的是活性稀释剂的官能度，主要原因还是因为在其他组分确定的情况下，活性稀释剂的官能度越高，涂层交联密度越大，对基材的封闭性也越好，在受热时，基材中的逸出物很难通过涂层与镀膜接触发生一些反应，导致镀膜外观变化。

从这个角度来说，在保证涂层其他性能的同
时，要尽量增加涂层的交联密度，这样才能获得更好的封闭效果。

2.4 UV涂料固化程度对镀膜性能的影响
UV涂料固化过程中双键的转化率不可能达到100%，通过涂料固化前后的红外光谱分析可以看出双键含量的变化情况。

碳碳双键的伸缩振动吸收峰在1635cm-1、809.2cm-1处非常明显。

而在固化后的谱图中，这两处的碳碳双键吸收峰大大减弱，但不会消失，我们将涂膜的曝光量从350mJ/cm2增加到2100mJ/cm2，这一吸收峰仍然存在。

因此，我们必须知道涂膜固化到什么程度才会对镀膜性能的影响最小。

随着UV涂料固化的不断完善，涂层的硬度会越来越好，图2是随着UV辐照剂量的增加涂层摆杆硬度的变化情况，所用配方为前面所述的配方2、配方5和配方6。

从图2(略)中可以看出:随着UV涂料固化时交联不断进行，涂层硬度在一定的固化情况下有一明显的拐点，在这点之后增加辐照能量，涂层硬度没有显著提高。

图3(略)是在拐点前后涂层的DSC曲线图。

图3中A是配方5在接受UV辐照量为230mJ/cm2后的涂层DSC测试结果，B是辐照量为260mJ/cm2的结果。

图3表明:UV涂层固化不完全的情况下，涂层在高温下会释放出低分子物质，这会导致镀膜发生变化。

实验结果也验证了这一点，在如A的底漆固化条件下，真空镀膜后，升温到110℃左右时，镀膜出现发彩现象。

通过上述实验，我们得出结论:只有当UV底涂固化完全的情况下，才能获得好的镀膜效果，这里所谓
的固化完全就是涂层硬度出现如图3所示的拐点位置。

2.5 光引发剂对镀膜性能的影响
在实验中我们发现:采用混合光引发剂体系得到的涂层，在真空镀膜后镀膜耐热性更好。

实验结果见表3。

表3 不同光引发剂体系对镀膜耐热性的影响
我们分析，影响镀膜耐热性的主要因素仍然是涂层的固化程度。

由于实验是在PC塑料基材上进行，它在UV波段300-340nm处有明显吸收，该吸收峰和RUNTECURE 1103、Irgacure 184的主要UV吸收波段重合，影响了涂层的固化，尤其在镀膜工件接受UV照射不充分的部位更是如此，因而在耐热测试时出现局部发彩现象。

而RUNTECURE 1107的最强UV吸收在300-340nm之外，可以确保涂层的完全固化。

3、结语
在设计PC车灯反射罩用UV底漆时，要注意提高涂层的交联密度来保证涂层有良好的封闭性，通过调整配方中活性稀释剂的配比来使涂层与基材、镀膜与涂层之间的附着力达到最佳，工件结构复杂时，要特别注意保证UV照射不充分的部位也能完全固化。

UV塗料是二十世紀末流行於歐美、日本等地的一個新型塗料品種。

最早應用於家具、地板、手機、隨身聽外殼的表面涂裝處理，其應用領域現進一步擴展到化妝品容器、電視機及電腦等家用電器領域和機車及罩光等其他領域。

UV塗料具有防止污染及節能效果，涂飾的化學性、物理性優秀、有快速固化的特性，正在多個領域被廣泛地採納使用。

上海長悅涂料有限公司作為UV涂料的專業企業，生產塑膠用、真空電鍍用、PVC地板用、蔭罩板用、汽車頭燈用、木地板用、櫥柜面板用等各種UV塗料，主導中國國內市場。

使用發展迅速，具有以下特點︰常溫固化，很適合於塑膠工件，不產生熱變形；節省能源，UV塗料靠紫外光固化，一般生產線能耗在50KW以內，與傳統熱固化型熱固化塗料相比，能量消耗約為其1/5；環境污染小，UV塗料VOC含量很低，是公認的綠色環保產品；涂層性能優異，UV涂料固化後的交聯密度大大高於熱固化型涂料，故涂層在硬度、耐磨、耐化學性、耐酸鹼、耐鹽霧、耐汽油等溶劑各方面的性能指標均很高；特別是其漆膜豐滿、透明度及光澤尤為突出；涂裝設備故障低，由於UV塗料沒有紫外線輻射不會固化，因而不會堵塞和腐蝕設
備，涂覆工具和管路清洗方便，設備故障率低；固化裝置簡單，故障率低，加上與之相關的設備總體比道統塗料設備佔用空間小，設備投資低。

電鍍的基本裝置是一電化學電池由陰極、陽極、電源供應器、電鍍液所組成。

1) 陰極－放置基板或欲電鍍物，隨工件之種類可區分為：
i) 連續帶狀電鍍：以移動帶狀物為陰極，如鋼捲。

ii) 大量小型工件電鍍：置於滾桶。

iii) 大型工件：此個別的工件掛置於陰極。

2)陽極
消耗性陽極：由欲鍍到基板上的鍍層金屬製成，此陽極會在
電鍍過程中溶解，以提供電鍍所需之金屬離子。

例如：
鍍錫使用之陽極塊或鍍鎳之鎳餅等。

非消耗性陽極：此種陽極只是單純作為電的通路並不會溶
解，如石墨、鉛及其合金，白金鈦網，鍍氧化物（如
氧化銠（RuO2），氧化銥（IrO2））之鈦網、不銹鋼。

電鍍所需的金屬離子是由電鍍液提供。

例如於電子元
件的導線架鍍錫、鍍鎳。

3) 電鍍液－提供電鍍時電的通路、金屬離子及添加劑以控制電鍍層性質。

電鍍液於電鍍操作時一般藉機械攪拌或氣泡攪拌。

4) 電源供應器—可提供直流電或脈衝電流。

濺鍍是利用氬離子轟擊靶材，擊出靶材原子變成氣相並析鍍於基材上。

濺鍍具有廣泛應用的特性，幾乎任何材料均可析鍍上。

1) 濺鍍的優點與限制
i) 優點
a) 無污染
b) 多用途
c) 附著性好
ii) 限制
a) 靶材的製造受限制
b) 靶材的受損，如陶瓷靶材，限制了使用能量的範圍
c) 析鍍速率低
2) 濺鍍系統
i) 分類
a) 平面兩極式：靶材為負極，基材為正極
b) 三極式：由陽極，陰極，外加電子源等三種電極所組成的系統。

外加
電子源產生電場加速正極離子化的氣體分子。

三極式系統不
能使用於反應性濺鍍，因為電子會影響反應氣體與污染燈
絲。

c) 磁控濺鍍：利用磁場作用提高濺鍍速率
d) 反應濺鍍：將反應性氣體導入真空腔中，並與金屬原子產生化合物以
鍍著。

ii) 電流的分類
a) 直流電濺鍍－應用於導電基材與鍍層
b) 交流（或射頻）電濺鍍－應用於導電或非導電基材與鍍層
3) 濺鍍系統組合
i) 靶材
在濺鍍時，經電漿中的正離子轟擊，而析鍍於基材的鍍層材料；靶材通常是陰極。

ii) 濺鍍的通量
濺鍍時的通量即為濺鍍原子的流量。

流量原子的組成與經冷卻，且未產生內擴散的靶材相同。

同一靶材的所有材料之濺鍍速率大致相同。

(然而，蒸鍍的蒸鍍速率並不同)。

iii) 接地屏蔽
將離子侷限於僅轟擊與濺鍍靶材；避免靶材夾治具被濺擊。

屏蔽與靶材之間的距離必須小於暗帶（dark space）的厚度，因此，在高頻（13.5MHz）或高壓使用時，此距離較近。

iv) 擋板
設置在兩個電極之間的活動板。

通常濺擊清潔靶材(靶材可能會在裝載或操作時受到大氣的污染)時移置於靶材與基材之間。

v) 靶材的冷卻
當外加能量輸入系統，會使靶材的溫度提高，並損壞靶材與夾治具的結合，因此必須冷卻。

一般靶材都是用水冷卻之。

vi) 基材溫度的控制
利用電阻與光源等加熱。

一般而言，基材的表面溫度會因輝光放電，而高於塊材。

4) 絕緣體的濺鍍
絕緣薄膜可利用射頻濺鍍或反應濺鍍。

若採用直流電濺鍍，將迅速造成表面電荷堆積而無法濺鍍。

i) 射頻電濺鍍（RF Sputtering）
使用頻率為13.56 MHz的射頻電源，使靶材與鍍層表面能被離子與電子交替的轟擊，以避免電荷的堆積。

ii) 射頻濺鍍的優點
a) 電子轟擊離子化的效率增高，且操作壓力比較低(<1mtorr)
b) 減少電弧（電弧的產生是由於粉塵或加熱蒸發的氣體）
iii) 反應濺鍍（Reactive spuutering）
將反應性氣體加入氬氣中，如Ar + H2S，而與濺鍍原子，如鎘形成硫化
鎘。

(例如，在氬氣加氮氣的環境下濺鍍鈦，會形成氮化鈦)。

其可為直
流電或射頻反應濺鍍。

5) 磁控濺鍍（Magnetron Sputtering）
"Magnetron"意指"磁化的電子"（Magnetical Electron）
i) 優點與缺點
磁控濺鍍雖會增加濺鍍速率，相對地，亦會加速靶材的損耗。

由於基材
與電漿間的距離較大，使基材較遠離電漿可在低的工作溫度進行濺鍍。

ii) 操作方法
由垂直的電場和磁場的結合組成。

由於電磁的交互作用，促進電子集中
於靶材附近，以提升離子化效應如下圖所示。

a) 磁場會使負極表面形成電子的聚集處，離子會因受限的電子源的靜電
效應而聚集。

b) 電子能有效聚集於靶材的表面，使離子化效率提高並提高濺鍍速率。

價格可能差上不是幾倍~是幾十倍
1.請問各位相關專家們，PECVD的原理與用途是什麼？
2.那在我們PVD-Sputtering設備中也有plasma system，那原理與用途是否與PECVD差
不多呢？
3.以往在濺鍍前會先plasma，之後再鍍膜，如果sputtering與Plasma同時進行會變得
如何？或是有其他情形發生？
1.
電漿輔助化學氣相沈積（PECVD）系統使用電漿的輔助能量，使得沈積反應的溫度得以降低。

通常會在二個電極板間外加一個射頻(radio frequency，縮寫RF)電壓，於是在二個電極之間的氣體會解離而產生電漿。

此電漿態的氣體有助於發生化學反應，使膜易沉積於基板上。

PECVD的沈積原理與一般的CVD之間並沒有太大的差異。

電漿中的反應物是化學活性較高的離子或自由基，而且基板表面受到離子的撞擊也會使得化學活性提高。

這兩項因素都可促進基板表面的化學反應速率，因此PECVD在較低的溫度即可沈積薄膜。

/question/question?qid=1607022810118(參考資料)
PECVD 一般使用在保護層（passivation）、隔離層（isolation）和介電絕緣層（dielectric）沉積等製程應用.
2.
濺鍍現象為在兩極間施加一直流電壓，因此又稱為直流濺鍍，通常是利用氣體的輝光放電效應，產生正離子束撞擊靶原子。

直流濺鍍不能用來濺鍍絕緣體，因為在直流濺鍍時，撞擊陰極靶材的離子所帶的電荷不能被中和而停留在靶面上，使靶材變成帶正電而阻止正電荷離子靠近，但用射頻（RF）濺鍍則可避免這個問題。

所謂的射頻濺鍍是在介電質靶材背面加一金屬電極且改用射頻交流電（13.56 MHz），因為電子比正離子跑得快，在射頻的正半週期已飛向靶面中和了負半週期所累積的正電荷，由於頻率相當快，正離子一直留在電漿區，對靶材（陰極）仍維持相當高的正電位，因此濺射得以繼續進行。

所以射頻濺鍍法不僅可以濺鍍金屬，也可以濺鍍絕緣體材料，其鍍膜速率較直流濺鍍快、成膜均勻、緻密度高、成分與靶材差異小且與基板附著性佳。

.tw/~wwwemo/instrument_manual/sputter.htm (參考資料)
PVD鍍膜的設備成本較低,控制較簡單,但會受到材料特性限制,並非每一種薄膜都適合,PECVD 鍍膜的特性與PVD不同,有些膜用CVD長出來的特性會比PVD 好且特性較佳,且變化性大.
3.
靶材放在不使用的狀態下,多多少少會有汙染物付著表面, ,濺鍍前先plasma是為先清潔靶材表面, 其實已經進濺鍍的狀態,為的是將材料表面汙染物濺鍍出來,再進行鍍膜.如果不做清潔直接進行濺鍍會使非預期的東西被濺鍍在你的被鍍物上
薄膜材料之濺鍍為其共通之核心技術，例如晶圓代工業所使用之超高純度鋁、鈦濺鍍材料；光碟產業中使用之銀、鋁合金及多元合金相變化濺鍍材料；TFT-LCD 製程中使用之透明導電層ITO、鋁合金電路層濺鍍材料等，在國內相關產業之產值逐步增加時，連帶的，這些濺鍍靶材料的使用量也勢必逐年增加。

然而，可惜的是，目前這些高單價及高附加價值的濺鍍靶材幾乎全數由國外進口，礙於其技術門檻極高，國內相關金屬產業目前並無法順利轉型進入此一行列。

濺鍍靶材之主要核心技術為A超高純度金屬之純化及冶煉技術、B極細晶粒控制技術及C超高緻密度粉末冶金技術等，其中任何一項技術都是各大濺鍍靶材製造商之核心技術或專利之所在，相對的，這也是國內傳統金屬產業要跨入濺鍍靶材製造行列所必須建立之技術。