LCD工艺知识解析
(完整版)LCD制作工艺资料
LCD 工艺流程简述一、前段工位:涂光刻胶（PR COA ）――前烘烤（PREBREAK 曝光（DEVELOP显影（MAIN CURE ——蚀刻（ETCHINGITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO 表面的杂质和油污洗净, 然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。
光刻技术（1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙（PEE ）6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查）C. 涂光刻胶： 在ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶, 过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理ITO 玻璃的投入（grading ）玻璃清洗与干燥（CLEANING去膜（STRIP CLEAN 【属于光科技术，详见百度百科】 图检（INSP ）――清洗干燥（CLEANTOP 涂布（TOPCOATUV 烘烤（UVCURE 固化（MAIN CURE ――清洗（CLEAN涂取向剂（PI PRINT ） ——固化（MAIN CURE 清洗（CLEAN ——丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING烘烤（CUPIN 孑URNACE ——喷衬垫料（SP ACES PRAY对位压合（ASSEMBLY —— 固化（SEAL MAIN CURIN ）讲解:1. ITO 图形的蚀刻：（ITO 玻璃的投入到图检完成）A. ITO 玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO 玻璃装入 传递篮具中，要求ITO 玻璃的规格型号符合产品要求,切记ITO 层面一定要向上插入篮具中。
B.玻璃的清洗与干燥： 将用清洗剂以及去离子水（ DI 水）等洗净D. 前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。
E. 曝光：用紫外光（UV 通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光 刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示）光致抗蚀剂y涂胶（成ffi ）紫外灯显形液漂洗液检谡9显彩t 以正胶为例》 图3光夏印工艺i 要流程F. 显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理G. 坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。
lcd工艺流程
lcd工艺流程LCD（Liquid Crystal Display，液晶显示器）是一种基于液晶技术制造的平面显示器，已广泛用于电视、计算机显示器和移动设备等领域。
下面将介绍LCD的工艺流程。
1. 制备玻璃基板：首先，将玻璃基板进行清洗和抛光处理，以去除表面的杂质和污垢。
然后，通过化学气相沉积（CVD）方法在玻璃基板上沉积一层透明导电膜，通常使用的是氧化铟锡（ITO）。
2. 制备基板对位：将两片处理好的玻璃基板对位放置在一起，中间用薄膜隔开。
然后，通过加热和压力将两片基板牢固地粘合在一起，形成一个类似于夹心饼干的结构。
3. 制备液晶材料：制备液晶材料需要合成液晶分子并进行纯化处理。
液晶分子通常通过有机合成方法制备，然后使用溶剂将其纯化。
4. 填充液晶材料：将制备好的液晶材料倒入夹在两片基板之间的空隙中。
液晶层的厚度通常是几微米，所以需要通过对基板施加电场或其他方式来调整液晶层的厚度。
5. 封装：将夹有液晶材料的两片基板进行封装处理，防止液晶材料蒸发或受到外界的干扰。
通常使用的封装方法是将基板放在真空环境中，并利用高温和高压将两片基板密封在一起。
6. 制备透明电极：在封装完成后，需要在液晶显示器的顶部和底部分别制备透明电极。
透明电极通常是通过化学蒸镀或物理镀膜方法在玻璃基板上沉积一层薄膜，通常使用的是氧化锡（SnO2）。
7. 制备像素结构：在液晶显示器中，每个像素都由液晶分子和透明电极构成。
通过制备像素结构，可以将每个像素与控制电路相连，并形成液晶显示的图像。
像素结构的制备通常包括光刻、沉积透明绝缘层、开口和填充色彩滤波器等步骤。
8. 封装和测试：在像素结构制备完成后，将液晶显示器进行封装和测试。
封装通常包括将显示器放入外壳中，并与驱动电路和其他部件连接起来。
测试则主要是通过对显示器进行电压和图像的测试，确保其正常工作。
以上就是LCD的主要工艺流程。
通过以上工艺步骤，可以制造出高质量的LCD显示器，并广泛应用于各个领域。
LCD制作工艺资料
LCD制作工艺资料LCD（液晶显示器）制作工艺是指生产液晶显示器的整个过程，包括液晶面板制作、封装和组装等环节。
下面是LCD制作工艺的详细介绍。
液晶面板制作是制造液晶显示器的核心环节之一、该工艺涉及到玻璃基板的处理、涂布、曝光和切割等多个步骤。
首先，将两块玻璃基板清洗干净，然后在一个玻璃基板上涂上透明导电层，这一层用于导电并控制液晶的电流。
接着，在导电层上涂布一层薄膜晶体管(TFT)的材料，这一层用于控制液晶的颜色和亮度。
此外，还需要用光刻技术将TFT的模式曝光到涂有光刻胶的基板上，并使用化学液品去除多余的胶层。
最后，使用激光或刀具将两块基板切割成适当的尺寸和形状。
封装是指将液晶面板和其他电子元件封装成一个完整的显示器模块的过程。
这一工艺步骤包括背光模组的制作、面板封装和测试等环节。
首先，背光模组用于提供背光照明，以确保显示器能够正常显示图像。
背光模组的制作主要涉及光源、反射板和光导板等元件的组装和安装。
接着，将液晶面板与背光模组组装在一起，并进行胶粘剂固化，以保证模块的稳定性和耐用性。
最后，对组装完成的模块进行电学和光学的测试，确保显示效果和质量达到标准要求。
组装是将封装好的液晶模块与电路板、外壳等其他部件组装在一起，形成最终的液晶显示器产品。
该工艺步骤包括电路板的组装、驱动芯片的焊接和整机测试等环节。
首先，将电路板组装到显示器壳体中，以实现信号和电源的连接。
然后，焊接驱动芯片和其他集成电路，以实现液晶显示的电流和信号控制。
最后，对整机进行严格的测试和质量检查，包括显示效果、驱动能力、输入输出等方面的测试，以确保产品的正常运行和质量的稳定性。
总结而言，液晶显示器制作工艺包括液晶面板制作、封装和组装等多个环节。
液晶面板制作是核心环节，包括玻璃基板处理、涂布、曝光和切割等步骤。
封装是将液晶面板和其他电子元件封装成模块的过程，包括背光模组的制作、面板的组装和测试。
组装是将封装好的液晶模块与电路板和外壳等其他部件组装成最终的产品。
lcd基本结构、原理及工艺流程
lcd基本结构、原理及工艺流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。
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LCD基础知识及制造工艺流程介绍
02
LCD制造工艺流程
玻璃基板加工
玻璃基板清洗
去除玻璃表面的杂质和 污垢，保证基板的洁净
度。
涂布光刻胶
在玻璃基板上涂布光刻 胶，用于保护下面的材
料。
曝光与显影
通过曝光和显影，将光 刻胶上的图案转移到玻
璃基板上。
去胶和蚀刻
去除多余的光刻胶，并 对玻璃基板进行蚀刻处
理，形成像素阵列。
彩色滤光片制作
后视镜
部分汽车后视镜采用LCD显示屏， 提高夜间或恶劣天气下的可视性。
LCD在其他领域的应用
医疗器械
工业控制
LCD技术在医疗设备中广泛应用，如 监护仪、超声波诊断仪等，提供高清 晰度的图像。
在工业自动化领域，LCD显示屏用于 各种控制面板和仪器仪表，方便操作 和维护。
航空航天
LCD显示屏在航空航天领域用于飞行 控制、导航系统等关键部位，确保安 全可靠。
LCD的工作原理
要点一
总结词
LCD的工作原理主要涉及到背光板、液晶层和偏振片等组 件的作用。当电流通过背光板时，会产生光线，光线经过 液晶层和偏振片调制后形成图像。不同的LCD类型和结构 在具体工作原理上略有差异。
要点二
详细描述
LCD的基本工作原理是利用液晶的物理特性进行光调制。 背光板负责提供均匀分布的光线，这些光线随后穿过液晶 层。液晶分子在电场的作用下发生排列变化，对光线进行 调制，最后通过偏振片，形成可以观察到的图像。不同的 LCD类型在具体结构和工作原理上略有差异，例如彩色 LCD需要额外的彩色滤光片来生成彩色图像。
像素密度
像素密度，也称为分辨率密度，是指每英寸屏幕中的像素数 ，它反映了屏幕的精细程度。像素密度越高，显示效果越细 腻。
LCD、PDP显示技术及工艺
1. LCD 液晶显示器LCD 和PDP 的显示技术与工艺介绍1.1LCD 的各种显示方式及其工作原理液晶分子在其某种排列状态下，通过施加电场，将向着其他排列方向状态变化，液晶盒的光学性质〔如旋光性、双折射率、二色性、光散射性等〕也随着转变。
这种通过光学方法，产生光变换的现象，称为液晶的电气光学效应〔electro-optic effect〕。
正是基于液晶的各种电气光学效应，LCD 显示才得以实现。
以以下出液晶的各种电气光学效应：电流效应型动态散射型〔DS〕介电各向异性型电场效应型反铁电型〔AFLC〕扭曲向列型〔TN〕宾-主型〔CH〕双折射掌握型〔ECB〕超扭曲向列双折射型〔SBE/STN〕高分子分散型〔PD〕相变型〔PC〕热效应型铁电型〔FLC〕层列型胆甾型单稳态性型双稳态性型下面将针对基于上述液晶各种电气光学效应的显示方式及原理加以介绍：⑴扭曲向列型〔TN〕 --- 旋光性在透亮电极基板间充入1-10μm厚的向列型液晶，构成三明治构造，使液晶分子的长轴在基板间发生90 度连续的扭曲，制成向列排列的液晶盒。
该液晶盒扭曲的螺距与可见波长相比要大得多，因此，垂直于电极基板入射的直线偏光的的偏光方向，在通过液晶的过程中，随液晶分子的扭曲发生90 度旋光。
这种TN 排列液晶盒具有使平行偏振片间的光遮断，而使垂直偏振片间的光透过的功能。
其次，当对这种TN 排列液晶盒施加电压时，从某一阈值电压Vth 起，液晶分子的长轴开头向电场方向倾斜。
而且，当施加电压约为Vth的2 倍时，大局部分子发生长轴与电场方向平行的再排列，90 度旋光性消逝。
在这种状态下，与没有施加电压的状况正好相反，使平行偏振片间的光透过，而使垂直偏振片间的光遮断。
目前广泛普及的LCD的一种就是基于这种TN方式〔偏振片平行或垂直设置〕，在白的背景下可以显示黑，而在黑的背景下可以显示白。
⑵超扭曲向列型〔SBE/STN〕 --- 光干预SBE/STN 型LCD 是在2 片偏振片间充入超扭曲向列液晶〔扭曲角为180°~360°〕盒构成三明治构造，是入射光直线偏光轴相对于入射光侧电极基板面的液晶分子长轴方位依次发生小的偏移，利用由液晶双折射性而产生的光干预现象而进展的显示。
lcd的工艺流程
lcd的工艺流程LCD（液晶显示）工艺流程是指将液晶分子和导电材料等通过一系列步骤制作成液晶显示器件的过程。
下面将以液晶面板的生产为例，简要介绍LCD的工艺流程。
首先，准备基板。
液晶显示器件的基板可以选择玻璃、塑料等材料，其中玻璃基板在大型液晶显示器件中较为常见。
基板准备通常包括清洁表面杂质、涂覆导电层和栅极层等步骤。
第二步是涂覆ITO（铟锡氧化物）膜。
ITO是一种具有良好导电性的材料，常用于液晶显示器件的导电层。
通过将ITO溶液倒在基板上，并经过烘烤等工艺步骤，可以形成均匀的ITO 膜。
然后，进行涂覆栅极。
栅极是控制和驱动液晶分子的电极，常用的材料有Aluminum或者柔性导电材料。
将栅极材料提供的溶液施加在导电层上，并经过烘烤等步骤，可以形成薄膜栅极。
接下来是涂覆液晶层。
液晶层是液晶显示器件的核心部分，其通过栅极电场的调制来控制液晶分子的取向。
将液晶材料溶液倒在栅极膜上，并经过静电作用或者液晶取向层等辅助调制方法，可以形成均匀的液晶层。
然后进行封装。
将两片涂覆了液晶的基板通过加热封接，同时在其中加入适量的液晶物质，形成一个封闭的液晶显示单元。
封装是确保液晶显示器件能够正常工作的重要步骤。
接下来是分割。
将封装好的液晶显示单元分割成多个小区域，每个小区域对应一个像素。
分割方式通常包括物理分割或者化学裁剪等方法。
然后进行退火处理。
由于液晶显示器件的制备过程中存在较多的热处理步骤，因此退火处理是为了消除由于热处理引起的应力而进行的。
在高温下对液晶显示器件进行一定时间的退火，可以提高产品的稳定性和可靠性。
最后，进行组装和封装。
将液晶显示器件与背光源、驱动电路等进行组装封装，形成最终的液晶显示器。
组装和封装过程包括背光模组的安装、驱动电路的连接和封盖等步骤。
总而言之，液晶显示器件的制备过程包括基板准备、ITO膜涂覆、栅极涂覆、液晶层涂覆、封装、分割、退火处理以及最后的组装和封装。
每个步骤都需要严格的控制和精确的操作，以确保液晶显示器件的质量和性能。
LCD制程工艺知识培训
LCD制程工艺知识培训概述液晶显示器（Liquid Crystal Display，简称LCD）是一种普遍应用于电子设备中的显示技术。
它由多个液晶分子组成，利用电场的作用来控制光的透过和阻挡，从而实现图像的显示。
LCD制程工艺是指将液晶显示器的各个组件制造和组装到一起的过程。
本文将介绍LCD制程工艺的一些基本知识，包括液晶材料的选择、液晶分子的排列与控制、背光源的制备以及最终的组装过程。
液晶材料的选择液晶材料是制作液晶显示器的关键之一。
根据不同的需求，液晶材料可以分为两种类型：向列型液晶和向行型液晶。
向列型液晶是指液晶分子在电场作用下，沿着电场的方向排列。
这种液晶材料适合于较小的液晶显示器，具有较高的亮度和对比度。
向行型液晶是指液晶分子在电场作用下，垂直于电场的方向排列。
这种液晶材料适用于较大尺寸的液晶显示器，具有更好的视角和更快的响应速度。
根据具体的设计要求和应用场景，制程工艺人员需要选择合适的液晶材料来满足产品的要求。
液晶分子的排列与控制液晶分子的排列和控制是液晶显示器的核心技术之一。
液晶分子的排列状态决定了显示器的图像效果和显示性能。
液晶分子有两种基本的排列状态：平行排列和垂直排列。
在制程过程中，可以通过设计电场的作用方式和液晶分子的配方来控制液晶分子的排列状态，从而达到不同的显示效果。
液晶的排列状态可以通过电极的设计和制备来控制。
通常情况下，液晶显示器需要两组电极，其中一组为透明电极，另一组为反射电极。
电场的作用下，液晶分子在两组电极之间排列，从而实现图像的显示。
背光源的制备LCD显示器的背光源是显示器的另一个重要组成部分。
背光源可以提供显示器所需的光源，使得图像在不同环境下都能够清晰可见。
常见的背光源有冷阴极管（CCFL）和LED背光源。
CCFL是一种传统的背光源技术，使用气态冷阴极管产生的光来提供背光。
LED背光源则是一种新型的背光源技术，使用发光二极管（LED）来提供背光。
制作背光源需要注意功耗和光效的均衡。
LCD基础知识及制造工艺流程介绍
LCD基础知识及制造工艺流程介绍LCD（液晶显示器）是一种运用液晶技术显示图像的平面显示设备。
它由一系列的液晶层、玻璃基板、导线及亮度调节膜等组成，能够实现高清晰度和低功耗的图像显示。
下面将介绍LCD的基础知识以及制造工艺流程。
一、LCD的基础知识1.液晶层：液晶是一种类似于液体的物质，具有一定的流动性。
液晶分为向列型液晶和向量型液晶两种。
其中，向列型液晶具有电流传输性能，可用于显示器制造。
液晶层通常由两块玻璃基板夹层组成。
2.基板：LCD的基板通常由玻璃或塑料材料制成。
它是液晶显示器的结构支撑物，上面附着有液晶材料，起到固定液晶和导线的作用。
3.导线：液晶显示器中的导线用于传输电信号，驱动液晶层完成图像的显示。
导线通常由透明导电材料（如铟锡氧化物）制成，通过在基板上形成通道和窗口的方法实现。
4.亮度调节膜：亮度调节膜用于控制液晶层的透光度，实现图像亮度的调节。
它通常由聚合物、薄膜材料或金属制成。
二、LCD的制造工艺流程1.基板生产：使用特制的玻璃或塑料材料制造基板，通过磨削、抛光和清洗等步骤形成平整的表面。
2.导线制作：将透明导电材料（如铟锡氧化物）涂布在基板上，然后通过光刻技术制作出导线的图案。
这包括涂覆光刻胶、曝光、显影和洗涤等步骤。
3.形成储存电容：在导线制作完成后，在基板上制作出储存电容的结构。
这通常通过在导线上涂覆并定位特定的电介质材料，然后用导线封装住这种材料。
4.液晶层制作：将液晶材料涂布在基板上，并进行取向处理。
液晶材料的涂布可以通过刮板涂布或滚涂等方法完成。
5.封装背光模块：将背光源（通常是冷阴极荧光灯或LED）和光学片封装在一起，形成背光模块。
6.封装前端制程：在液晶层基板中制造出色彩滤光片、液晶层与色彩滤光板的层间空气封闭结构，同时加工出液晶层之间分隔固体极板和液晶层封装胶。
7.封装：将两块形成互相关系的液晶层基板合并在一起，使用封装剂将其密封。
8.后端制程：液晶显示器的后端制程包括模组组装、封装测试、调试和包装等步骤。
TFTLCD模组工艺介绍
TFTLCD模组工艺介绍TFT LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display）是一种主动矩阵液晶显示技术，被广泛应用于电子设备的显示屏中。
TFT LCD模组工艺是指将液晶显示屏及相关元器件，如驱动电路、背光源等组装到一个整体的模组中的制造过程。
以下是TFT LCD模组工艺的介绍。
1.玻璃基板切割：TFTLCD的制造过程从玻璃基板切割开始。
玻璃基板根据显示屏尺寸进行切割，通常采用大块玻璃进行切割，随后经过精密的加工和打磨，形成规定尺寸的玻璃基板。
2.玻璃基板预处理：切割后的玻璃基板需要进行一系列的预处理工艺，包括玻璃基板清洗、光刻涂覆、烘干等。
这些步骤旨在去除基板表面的杂质、改善基板表面的平整度，并为后续的生产步骤做好准备。
3.光刻：在玻璃基板上进行光刻工艺是制造TFTLCD关键的一步。
光刻将光敏材料，如光刻胶，涂覆在玻璃基板上，并通过光刻机进行曝光、显影等步骤，形成光刻图案。
这些图案将被用于制造TFT（薄膜晶体管）。
4.涂布TFT膜：在光刻完成后，需要将TFT膜沉积在基板上。
这一步骤通常采用物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）的方式进行。
TFT薄膜的组成包括导电层、绝缘层和半导体层，这些层的顺序和厚度对TFTLCD的性能有较大的影响。
5.激活和切割TFT膜：经过涂布TFT膜之后，需要进行激活和切割工艺。
激活是将TFT膜中的导电层和半导体层结合起来，形成可用的晶体管。
切割则是将基板切割成适当尺寸的小块，每块即成为一个TFT液晶显示单元。
6.液晶填充：切割好的基板需要进行液晶的填充。
液晶是一种特殊的有机化合物，在涂布到基板上之前需要经过一系列的净化和控制工艺。
液晶填充是整个工艺中最关键的一步，它决定了液晶显示屏的品质和性能。
7.封装：液晶填充后，需要将两块基板用密封胶水封装在一起，形成液晶显示屏的最终结构。
封装过程需要控制温度和压力，确保液晶层均匀分布，并排除气泡等问题。
LCD制程工艺知识简介
感光树脂膜针孔、干版针孔、ITO异物
间纸摆放不正、治具气囊异常
研磨布贴附不良、研磨压入量不适
R、G、B膜残缺
金属异物
干版异物
治具压力异常、导通剂搅拌后时间超时
貼偏光片.終檢包裝.入庫
最後將偏光片貼在LCD板 的上下兩面，如此完成了 LCD液晶顯示器的成品。
电学原理进行短路测试，同时得到 激光修复所需要的数据。
2020/8/7
• 激光修复（LASER REPAIR ）
工序作用: 对所查找到的短路缺陷进行 修复。
2020/8/7
成盒段主要工序
❖PI、TOP印刷 ❖摩擦 ❖SEAL、TR印刷 ❖喷洒 ❖对盒 ❖热压
2020/8/7
TOP\PI工序的作用
2020/8/7
抽真空 口
N2入口
封口.固化
灌入液晶後在其開口處加上封 口以防止液晶外漏 加圧
上Glass基板
下Glass基板
2020/8/7
封止治具 注射器
清洗.目檢.電測.清洗
LCD封口後在此利用 偏光板目檢LCD板是否 厚薄不均，或是內部液 晶散佈不均，
電檢利用液晶板上
之PIN腳加以導電，觀
• TOP工序:一般的TN 与STN 产品不要求此步骤，TOP 膜的涂布工艺 是在 光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间 的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能有 效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等等， 因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布
）作脱膜液，将玻璃上余下的 光刻胶剥离掉，从而使ITO 玻 璃上形成与光刻掩模版完全一 致的ITO 图形
2020/8/7
Glass基板
lcd基本知识及制造流程简介.ppt
一般物质
固态
液态
气态
液晶物質
固态
液晶态 液态
氣态
2
1.2 液晶的发现及命名
1888年奥地利植物学家 F.Reinitzer 在加热胆甾醇苯甲酸酯 结晶试验时发现：
结晶 酯
加热 冷却
乳白色 加热 浑浊液体 冷却
透明 液体
德 国 物 理 学 家 O.Lehmann 将 其 称 为 ： Fliessende Krystalle(德语)
13
(5) 曝光
用紫外光通过预先制作好的菲林照射到光刻胶表面（选择性 照射）,使被紫外光照射部分的光刻胶层发生反应. 在紫外光 灯下对光刻胶进行选择性曝光,如下图所示.
UV光
光刻胶
曝光示意图
注意：涂感光胶至曝光区域为黄灯区 曝光光积量，UV光强均匀性，间隙，异物，位置等
ITO膜 玻璃基板
14
(6) 显影 用显影液处理玻璃表面,将经过光照分解的光刻胶层(正性 胶)除去,保留未曝光部分的光刻胶层,用使受UV光照射部 分的光刻溶于显影液中.显影后的玻玻要经过一定温度的 坚膜处理,如下图所示.
(7) 坚膜 由于显影时光刻胶膜发生软化、膨胀、影响胶膜的抗蚀能力，因 此显影后必须用适当温度烘焙玻璃以除水分，增强胶膜与玻璃的 粘附性，这个过程称坚膜。 坚膜有用烤箱和红外线两种。坚膜的条件：一是温度，另一是时 间（拉速），一般情况下坚膜条件高于前烘条件
15
(8) 蚀刻 用一定配比的酸把玻璃上未受到光刻胶保护的ITO膜去掉，而 将有光刻胶保护的ITO留下来，最终形成所需的图案。如图所 示，选用的刻蚀液一般要能把ITO刻掉，同时又不会损伤玻璃 表面的光刻胶，一般选用一定比例的HCl、HNO3（或FeCl3）、 水的混合液。蚀刻的温度和时间对蚀刻的效果影响很大。
lcd工艺技术
lcd工艺技术LCD（液晶显示器）是现代电子产品中常见的一种显示技术，主要应用于电视机、计算机显示器、手机等等。
它的工艺技术经过多年的发展和改进，现在已经非常成熟。
在这篇文章中，我们将介绍一下LCD的工艺技术。
首先，LCD的制造过程涉及到多个步骤。
首先是基板制备，通常采用玻璃作为基板材料。
然后在玻璃上涂覆一层导电物质，用于制作电极。
接下来是玻璃衬底上的彩色滤光片制作，用于产生RGB（红绿蓝）三原色。
之后是液晶层的制作，通常是将液晶材料注入两片玻璃之间，并通过一系列的工艺步骤将其固定在一起。
最后是封装和封装，将组装好的液晶屏幕装入外壳中。
其次，LCD的工艺技术关键在于液晶层的制作。
液晶层是LCD的核心部分，它由液晶分子组成。
这些分子有一个特殊的性质，即当电场作用于其上时，它们会改变排列方式，从而控制光的透过程度。
利用这个特性，可以实现液晶屏幕的显示功能。
在制作液晶层时，要确保液晶分子在两片玻璃之间均匀分布，并且能够受到电场的控制，这需要精细的配方和工艺控制。
另外，LCD的工艺技术还包括了背光模块的制作。
由于液晶分子本身是无法发光的，所以需要通过背后的光源来实现显示效果。
常见的背光源包括冷阴极管和LED。
冷阴极管是一种较早使用的背光模块，它通过高电压激发气体产生的紫外线来激发荧光粉发出可见光。
LED则是一种较新的背光模块，它通过电流直接激发发光二极管来发出光线。
背光模块的制作要求有良好的均匀度和高亮度，以保证LCD显示的效果。
最后，LCD的工艺技术还包括了屏幕的封装和组装。
这一步骤主要是将制作好的液晶屏幕封装到外壳中，并连接驱动电路和背光模块。
封装和组装过程需要注意保护屏幕不受损，在封装过程中还需要考虑散热和电磁屏蔽等问题。
总之，LCD的工艺技术是一项复杂而精细的工程。
通过对基板制备、液晶层制作、背光模块制作和封装组装等多个步骤的控制，可以得到高质量的LCD显示器。
随着科技的不断进步，LCD的工艺技术也在不断改进和创新，未来我们有理由相信，LCD将会在更多的领域发挥巨大的作用。
LCD工艺知识共83页文档
ITO导电层
SIO2阻挡层厚度：
200～500埃
ITO导电层
ITO导电层厚度：250～
2000埃
ITO导电层
SIO2绝缘层厚度：
500～1000埃
ITO导电玻璃 按类型分为:TN和STN
IT电O导阻电较层高(60-120欧)
ITO电导阻电较层低(30-80欧) 基板平整度高
玻璃基板按厚度分:0.4\0.55\0.7\1.1mm
固化的作用，是为了坚固 光刻胶与玻璃的附着力。 因为经过显影液浸泡后， 光刻胶与玻璃之间的粘附 力已下降。如果不经过固 化就流到下一工序，产品 的图案会残缺，断路（缺 画）。
蚀刻
蚀刻是将一定比例的酸液把玻璃上未受保护的ITO膜腐蚀掉，将有光刻胶保护的 ITO图形保存下来，最终形成ITO图案。选用的酸液必须是能腐蚀掉ITO，但又 不能损伤玻璃表面和光刻胶的。一般选用盐酸、硝酸和水的混合液。
胶
涂
胶
• 涂胶质量要求：1、胶与玻璃之间粘附 良好，不能有胶脱落现象；2、涂层厚 度均匀一致，不能有厚有薄，不然在显 影和酸刻时会出现图形缺陷；3、涂层 表面不能有条纹、针孔、脏点、突起等 缺陷。
• 一片玻璃胶层有效区表面不允许0.2mm 的点超过3粒存在。
• 脏点或针孔在玻璃 3mm以外可放行。
液晶的热光学效应：是指因温度的变化而导致液晶分子排列改变的一种光学效应， 加热到清亮点以上呈各向同性液体，在急冷后液晶盒呈白浊态，渐冷后，液晶 盒呈透明态。
LCD工艺流程简要介绍
LCD工艺流程简要介绍首先，基板制备是LCD工艺流程的第一步，主要包括对玻璃基板的清洗、切割和形状加工等工序。
接着，薄膜沉积是液晶显示屏制作中的一个关键步骤，该过程涉及将不同功能的材料通过物理或化学方法沉积到基板上，并形成各种薄膜结构，如ITO膜、铝膜等。
光刻是一种通过光刻胶模板进行图案转移的工艺，其利用紫外线对光刻胶进行曝光和显影，以形成所需的图案结构。
蒸镀是通过真空蒸镀技术，在基板表面沉积金属或其他材料，以实现导电、反射或光学功能。
涂布是将光刻胶等物质均匀涂布到基板上，以用于后续的图案化处理。
刻蚀是利用化学蚀刻或物理蚀刻技术，去除光刻胶模板外多余的材料，形成所需的图案结构。
最后，装配是将薄膜基板与液晶、偏光片等组件进行组装，形成液晶显示屏的最终产品。
总的来说，LCD工艺流程是一个复杂的过程，涉及多种材料和加工工艺，需要高精度的设备和严格的工艺控制。
LCD（液晶显示器）作为目前最为常见的电子产品显示技术之一，广泛应用于手机、平板电脑、电视等各类电子设备中。
其制造过程复杂，需要依靠一系列先进的工艺流程来完成。
在接下来的内容中，我们将进一步深入探讨LCD工艺流程的各个环节。
针对液晶显示屏的制作，首先要进行基板的制备。
基板的制备是整个工艺流程的起始阶段，其质量直接影响着后续工艺步骤的进行。
基板主要以玻璃材料为主，在制备过程中需要进行清洗、切割和形状加工等步骤。
通过精密的切割和形状加工，可以确保基板的尺寸和平整度达到生产要求，以便后续工艺步骤能够顺利进行。
接下来是薄膜沉积阶段，该阶段是制作液晶显示器中至关重要的一大步。
在这一步骤中，不同功能的材料通过物理或化学方法沉积到基板上，并形成各种薄膜结构。
例如，ITO（氧化铟锡）薄膜用于制作透明导电层，Al（铝）薄膜用于反射层，SiO2（二氧化硅）薄膜用于保护层等。
这些薄膜层的特性和性能直接影响到LCD显示效果的品质和稳定性。
光刻是液晶显示器制作中的又一个关键步骤。
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脱 膜
脱膜是将蚀刻后留在ITO玻璃表面上的 光刻胶去除掉。脱膜液普遍采用碱液 （氢氧化钠和水的混合液体），相对 浓度比显影液高出许多，在脱膜过程 中，要加以一定的温度才能取得较好 的效果。
PI前清洗
清洗 是用一定量的清洗剂和DI水（高纯水）将玻璃表面的残胶、杂质、碱液冲 洗，并加以毛刷进行刷洗掉。
固 化
PI导向膜原液的组份是聚酰亚胺和DMA、
NMP或BC溶剂。 TN型液晶显示器的固化温度一般在250度左 右，STN型液晶显示器要在300度左右。PI导 向膜涂覆厚度，TN-LCD推荐在400~600埃左 右，STN-LCD推荐在800~1000埃左右。
涂黑膜（BLANK MASK）
丝印黑膜是比较原始的黑膜制作工艺，成本 相对较低，对工艺控制也不复杂，但与“旋涂黑 膜”工艺相比，精度和效果就比不上了。 用丝印的方法涂黑膜目前是一些小厂家比较 常用的方法，其原理如图所示，是采用普通丝网 挤压而形成。 丝印黑膜工艺，是在PI固化后进行操作，涂 完黑膜后再进行固化，之后再涂一层低温PI，再 固化，之后的就是正常流程了。LCD 是由两片玻 璃组合而成，黑膜材料只涂在其中一面上，另一 面则是正常流程制作的。至于涂在哪一面是没作 具体要求的。 “旋涂黑膜”工艺的流程是不一样，下一页 会作介绍。
LCD显示原理
上下玻璃基板摩擦呈90度，液晶在整齐排列的情况下，也呈90度旋转，光线也随 之呈90度旋转。通电后，液晶分子发生转变，棒状分子呈竖状排列，光线直接 通过，不发生旋转。
ITO是一种氧化铟或氧化锡的导电金属层，和酸发生强烈反应，在强碱 环境中易被腐蚀。 常见的ITO玻璃分以下三种刻胶溶除掉，留下未感光部分的胶膜，从而显示出
所需的图形。显影液一般采用浓度较低的碱液（氢氧化钠或氢氧化钾）。显 影时必须控制好显影液的温度、浓度和显影时间。显影温度过高，浓度较大， 或时间过长，显影液容易从未曝光的光刻胶边缘浸入图形，使图形边缘变差、 变细或光刻胶大片脱落。
200～500埃
ITO导电层厚度：250～
2000埃
SIO2绝缘层厚度：
500～1000埃
前清洗
1、将B、C两槽各加清洗剂2-3杯，主要根据涂胶效果作适当微调。 2、加热控制：“加热温度控制器”温度保持在40-45℃。
3、清洗白玻璃，首先必须用测试笔判断正反面，正面朝上，原边靠右。
4、为使机器正常工作，必须周期性检查和保养 。
前清洗
技术要求：玻璃干净,明亮,无水渍,无污物。
涂
涂胶是光刻的首道工序，是在ITO玻璃表面涂一 层光刻胶，光刻胶应在低温下避光保存。在使 用前要对其粘度进行测试，因为粘度过高，涂 层抗蚀性虽然提高，但其分辩率下降；而胶粘 度低时分辩率提高，抗蚀能力又较差。所以之 前我们要加入一定量的稀释剂，在充分搅拌后 静止一段时间测量其粘度，使之达到要求后才 使用。
涂定向层(PI)
涂PI是为液晶分子的排列作准备，PI也就是我们所说的导向膜或定向层。LCD使用的 PI导向膜固含成份在原液中是小分子化合物，它在高温下产生聚合反应，形成带很多支链 的长链大分子固体聚合物聚酰胺。聚合物分子中支链与主链的夹角就是所谓的导向层预倾 角。这些聚合物的支链基团与液晶分子间的作用力比较强，对液晶分子有锚定的作用，可 以使液晶按预倾角方向排列。PI按预倾角的大小分为：1~3度的低预倾角TN型PI和4~9度 的高预倾角STN型PI。
丝 印
丝印的原理比较简单，主要是将配制 好的框胶、油墨，倒入预先做好的图案丝 网上，再用一定硬度的刮板将框胶或油墨 挤压到承印物上。
喷 粉
喷粉工序所用材料主要是 塑料球，它在液晶显示中起 着支撑的作用，保持显示器 间隙（盒厚）均一，如果 LCD中没有塑料球作支撑， LCD的中间部分的盒厚，也 就是两片玻璃之间的距离会 比边缘的距离小很多，最终 造成盒厚不一，底色差异较 大。底色：是指在灌液晶后， 通过上下偏光片观察到的颜 色。
打 粒
一整对大玻璃可以 排列很多个单粒产品。 之前的工序都是一整对 大玻璃作业流程，而以 下的所有工序就要单粒 作业了。经过切割后， 排列的单粒玻璃并不能 分开，还需要用一定压 力，通过工具分粒开来。
灌液晶
灌液晶是个很重要 的工序,其主要原理,是 将空盒玻璃置放在一个 封闭的容器内,然后将 里面的空气抽出达到真 空状,再将空盒玻璃与 液晶槽里的液晶充分接 触,最后打开进气开关, 这样就通过气压将液晶 灌注到空盒内。
检
验
显影完之后的检验直接影响到成品的合格率,涂胶、曝光、显影都是光刻工序的 重要环节，影响到产品的质量。 图缺（白点）：1、涂胶时出现脏点或针孔；2、所用菲林有针孔。 短路：1、原菲林制作时有误；2、菲林或菲林基板较脏；3、生产过程中出现脏 物；4、显影不足；5菲林扎伤。
检
验
固 化(坚膜)
固化的作用，是为了坚固 光刻胶与玻璃的附着力。 因为经过显影液浸泡后， 光刻胶与玻璃之间的粘附 力已下降。如果不经过固 化就流到下一工序，产品 的图案会残缺，断路（缺 画）。
蚀 刻
蚀刻是将一定比例的酸液把玻璃上未受保护的ITO膜腐蚀掉，将有光刻胶保护的 ITO图形保存下来，最终形成ITO图案。选用的酸液必须是能腐蚀掉ITO，但又 不能损伤玻璃表面和光刻胶的。一般选用盐酸、硝酸和水的混合液。
蚀 刻
蚀刻时，酸液的浓度和酸刻时间的
长短，对刻蚀效果影响很大，浓度 过大或温度过高，ITO图形变细或 走线刻断；酸液浓度过小，温度过 低，造成ITO图案刻蚀不完整，图 形之间相互连接，造成短路。当然 ITO的厚度也会影响酸刻时间的长 短，ITO电阻越小，ITO膜越厚， 所需酸刻时间越长。
贴 合
热 压
热压的目的是为了 使边框胶完全固化， 使上下两片玻璃粘 接牢固。在热压过 程中，要施加一定 的压力和温度。
切割（划片）
切割是将一整对大玻 璃，按照其排版分割成 单粒的每个产品，当然 经过刀轮切割后不会立 即断裂成每个单粒，只 是切割出一定深度的线 痕，还要后续的打粒操 作才能分开成每个单独 体。 切割设备基本有两种， 一种是单刀机，单刀机 调试简单，但批量运作 较慢；另一种是多刀机， 调试复杂，但批量生产 效率高。 切割的精度和操作控 制，会直接影响到客户 的装机，和生产厂家的 良率。
• • •
曝
光
曝光就是在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖菲林（掩
模版），通过紫外光进行选择性照射，使受光 照部分的光刻胶发生光化反应，改变了这部分 胶膜在显影液（碱液）中的溶解度。在显影过 程中，显影液与光化反应后的光刻胶发生反应， 不与菲林挡住的光刻胶发生反应，从而得到与 菲林相同的图案。
曝
光
曝光之前：1、要先准备好将要使用的菲林，检查菲林是否完好，有无划伤，脏 点，药膜面有无做反，视角标识是否正确等；2、曝光机的紫外光灯打开预热， 待电源稳定；3、将准备好的菲林装在曝光机架上，调好菲林与平台的相应位 置。 曝光过程：曝光过程中要控制好曝光时间和曝光机紫外光的光线强度。曝光时间 过长或紫外光强度太高，图案很容易变细，图案走线显影后容易断开。曝光 时间太短或紫外光强度不足，会使紫外光与光刻胶的光化反应不充分，显影 后会留有底膜或造成短路。 注意事项：1、曝光机开机时，要先开风扇，再点亮灯管；关机时，要先关灯管， 待几分钟后再关风扇；2、贴菲林时，图案要居中；3、作业过程中要控制好 曝光位置，以便后面工序加工；4、未曝光之前的涂胶玻璃不能被白日光灯照 射，以免光刻胶失效；5、长时间没有用的涂胶玻璃不要用于生产。
摩 擦
摩擦是在PI上按一定方向磨出沟槽，使 液晶按磨出的方向一致性排列。普通TN产品 摩擦角度为45度；HTN产品为110度—150度； STN产品为180度—270度。这里所说的角度， 是指上下两片玻璃重叠后所形成的夹角，夹 角越大，生产出来的产品视角越宽。视角： 我们看显示图形的角度。 在这里，摩擦平台的速度、滚筒的转速、 滚筒压入量的大小，对产品摩擦效果的影响 很大，所以在工艺上要好好控制。
旋涂黑膜（BLANK MASK）
“旋涂黑膜”的工艺如图所示,先在一个会旋 转的平台上放置好一面玻璃，在滴入适量的黑 膜液材料，之后启动旋转平台，在旋转的作用 下，黑膜液材料会均匀的涂附在玻璃上。 涂好黑膜材料后，紧接着进行加热烘烤， 然后进行显影，把不需要的部份去掉。去掉的 部分是显示图案的部份，也就是说把显示的部 份空出来，其它非显示区就是全黑的了。 旋涂黑膜的工艺流程与丝印黑膜工艺流程 的顺序是不一样的，旋涂黑膜工艺是在玻璃脱 膜清洗（第25页）后进行的，也是只涂在一面 玻璃就行了。
就是在PI上摩擦出沟糟，让LCD中的液晶分子按照摩擦的方向排列，如果没 有摩擦，液晶分子也就是杂乱无章的排列了，当然也就起不到显示的效果。
LCD显示原理
ITO导电玻璃，是一种导电的特殊性材料，在LCD中，主要是为了刻蚀成所需显
示的图案，在两片ITO导电层之间，通电后，重叠部分形成电场，没有ITO导 电层的部分不会形成电场，液晶在电场的作用下，发生转变，使光线可以直 接通过。
丝 印
在丝印工序中，分两个 步骤同时进行，一是印银点 （导通点）；二是印边框胶 （环氧树脂）。导通点的作 用：使上下玻璃的电极相互 连接，因为LCD的电角都在 一片玻璃上（便于装机）， 所以要用方法使一片玻璃的 导电图案通过导电物质引接 到另一片玻璃上。边框胶的 作用：主要是起封闭和支撑 作用，使之形成一个玻璃盒 子，用于液晶的注入。
LCD工艺知识
编制:罗万林
LCD的结构（侧面图）
LCD的结构（侧面图）
LCD显示原理
我们在了解LCD的显示原理之前，要首对它的结构和材料特性有所认识。
偏光片，也叫偏振片，它有一个很重要的特性，就是当它们的偏光轴相互平行时，
光线不能通过，当它们的偏光轴相互垂直时，光线可以通过。
LCD显示原理
定向层（PI），PI是一种高绝缘材料，在LCD中，主要是起到定向的作用，也