分布反馈式半导体激光器
半导体分布反馈激光器-DFB
半导体分布反馈激光器半导体分布反馈激光器是采用折射率周期变化的结构实现谐振腔反馈功能的半导体激光器。
这种激光器不仅使半导体激光器的某些性能(如模式、温度系数等)获得改善,而且由于它采用平面工艺,在集成光路中便于与其他元件耦合和集成。
GaAs-GaAlAs分布反馈激光器已实现室温连续工作,阈值3.4×103安/厘米2(320K)。
282K下得到的最大连续输出功率为40毫瓦。
半导体分布反馈激光器- 简介采用折射率周期变化的结构实现谐振腔反馈功能的半导体激光器。
这种激光器不仅使半导体激光器的某些性能(如模式、温度系数等)获得改善,而且由于它采用平面工艺,在集成光路中便于与其他元件耦合和集成。
1970年采用双异质结的GaAs-GaAlAs注入式半导体激光器实现了室温连续工作。
与此同时,贝尔实验室H.利戈尼克等发现在周期结构中可由反向布喇格散射提供反馈,可以代替解理面。
在实验中,最初是把这种结构用于染料激光器,1973年开始用于半导体激光器,1975年GaAs分布反馈激光器已实现室温连续工作。
半导体分布反馈激光器- 原理半导体分布反馈激光器的反馈结构是一种周期结构,反馈靠反向布喇格散射提供(见图)。
为了使正向波与反向波之间发生有效的布喇格耦合,要求光栅周期满足布喇格条件:半导体分布反馈激光器,式中λ0是激射波长,Ng是有效折射率,m=1、2、3、…(相当于耦合级次)。
对于GaAs材料,一级耦合:Λ=0.115微米。
在实验中,使用3250埃He-Cd激光和高折射率棱镜(nP=1.539),已制出Λ=0.11微米的周期结构(见半导体激光二极管)。
1.结构及工作机理DFB激光器的激光振荡不是靠F—P腔来实现,而是依靠沿纵向等间隔分布的光栅所形成的光耦合,如图2—81所示。
图中光栅的周期为A,称为栅距。
当电流注入激光器后,有源区内电子——空穴复合,辐射出能量相应的光子,这些光子将受到有源层表面每一条光栅的反射。
分布反馈布拉格半导体激光器(DFB-LD)
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7.4 激光切割
二、激光切割分类及其机理
※ 汽化切割:工件在激光作用下快速加热至沸点,部分材料化作蒸汽逸去,部分 材料为喷出物从切割缝底部吹走。这种切割机制所需激光功率密度一般为108W /cm2左右,是无熔化材料的切割方式 ※ 熔化切割: 激光将工件加热至熔化状态,与光束同轴的氩、氦、氮等辅助气流 将熔化材料从切缝中吹掉。熔化切割所需的激光功率密度一般为107W/cm2左右 ※ 氧助熔化切割: 金属被激光迅速加热至燃点以上,与氧发生剧烈的氧化反应 (即燃烧),放出大量的热,又加热下一层金属,金属被继续氧化,并借助气体 压力将氧化物从切缝中吹掉。
五、激光焊的优点
图7-21 深熔焊小孔示意图
7
7.3 激光打孔
一、激光打孔原理
激光打孔机的基本结构包括激光器、加工头、冷却系统、数控装置和操作面盘 (图7-13)。
图7-13
激光打孔机的基本结构示意图
二、激光打孔工艺参数的影响
※ 脉冲宽度对打孔的影响 :脉冲宽度对打孔深度、孔径、孔形的影响较大。窄 脉冲能够得到较深而且较大的孔;宽脉冲不仅使孔深度、孔径变小,而且使孔的 表面粗糙度变大,尺寸精度下降。
和损伤,于是又提出了图9-2所示的DFB-LD结构
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9.1.1 半导体激光器
2. 作为通信光源的半导体激光器 (3)分布布拉格反射半导体激光器 考虑到布拉格光栅反射性好的特点,将光栅置于激光器谐振腔的两侧或一侧, 增益区没有光栅,光栅只相当于一个反射率随波长变化的反射镜,这样就构成 了 DBR-LD 。其中,三电极 DBR-LD 是最典型的基于 DBR-LD 的单模波长可调谐半导 体激光器,其原理性结构如图9-3。
图9-5 光纤激光器原理示意图
dfb半导体激光器温度波长漂移方向
DFB(Distributed Feedback,分布反馈)半导体激光器的温度与波长漂移之间存在确定的关系。
在大多数情况下,随着温度的升高,半导体激光器的输出波长会向长波方向漂移。
这是因为半导体材料的折射率随温度上升而减小,导致谐振腔的有效长度增加,根据光的波长和有效腔长之间的关系(λ = 2nL,其中λ是波长,n是有效折射率,L是有效腔长),波长会相应增长。
具体来说,对于基于InGaAsP/InP等材料体系的DFB激光器,在室温附近每升高1摄氏度,其工作波长通常会以大约0.001 nm/°C至0.01 nm/°C的比例红移(即波长变长)。
这一现象称为热致波长漂移,是激光器设计和使用时必须考虑的重要因素之一,特别是在需要稳定波长输出的应用场合,例如光纤通信系统中,通常会采用温度控制或温度补偿技术来抑制这种漂移。
分布反馈式半导体激光器
分布反馈式半导体激光器
分布反馈式半导体激光器(DFB激光器)是一种高性能半导体激光器,具有独特的结构和工作原理。
DFB激光器主要由一个具有周期性折射率的光栅和一段活性区域组成,其中光栅用于选择性地调制激光器的输出波长,从而实现单一波长的激光输出。
DFB激光器具有高度的稳定性和精度,非常适用于通讯、光纤传输、生物医学、光学测量和一些高速数据传输等领域。
其波长范围广泛,可以覆盖从850nm到1600nm的波段,因此在多个领域中广泛应用。
DFB激光器不仅具有高效、稳定的单频输出和低噪声特性,而且还可以通过调整光栅的周期、深度、宽度等参数来控制输出波长,从而适应不同的应用需求。
它的稳定性和可靠性高,寿命长,使得它成为现代光电子器件中不可或缺的一部分。
分布反馈式半导体激光器
半导体激光器及其应用调研报告课程题目分布反馈式半导体激光器在实际工程系统中的应用学院光电技术学院班级电科一班姓名李俊锋学号 **********任课教师张翔2013年 5 月 15 日分布反馈式半导体激光器在实际工程系统中的应用李俊锋2010031029摘要:DFB (Distributed Feed Back) DFB型光发射机,分布反馈(激光器)半导体激光器因其波长的扩展、高功率激光阵列的出现以及可兼容的激光导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展、半导体激光器体积小、重量轻、成本低、波长可选择,其应用范围遍及的领域越来越宽广,其的出现带来了巨大的变化,使科技更发达,人们生活更加丰富多彩,应用范围遍及医学、科技、航天交通,通信等各个领域。
自从1962 年世界上第一台半导体激光器(Diode Laser)发明问世以来, 由于其体积小、重量轻、易于调制、效率高以及价格低廉等优点, 被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一. 四十几年来半导体激光器逐步应用在激光唱机、光存储器、激光打印机、条形码解读器、光纤电信以及激光光谱学中, 不断扩大应用范围, 进入了一些其它类型激光器难以进入的新的应用领域。
关键字: DFB、工作波长、边模抑制比、阈值电流、输出光功率一、分布反馈式半导体激光器简介1、分布反馈式半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带之间,或者半导体物质的能带与杂质能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式.电注入式半导体激光器,一般是由GaAS,InAS,Insb等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射.光泵式半导体激光器,一般用N型或P型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励.在半导体激光器件中,目前性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器。
敏芯半导体_分布反馈(dfb)半导体_概述说明
敏芯半导体分布反馈(dfb)半导体概述说明1. 引言1.1 概述:本文旨在对敏芯半导体分布反馈(DFB)半导体进行概述说明。
DFB半导体是一种应用广泛的电子器件,具有独特的原理和优势。
通过深入了解敏芯半导体和DFB 技术,我们可以更好地理解其应用领域和发展历程。
1.2 文章结构:本文将按照以下结构来进行介绍:首先,我们将从敏芯半导体的定义和特点开始,探讨其作为DFB半导体的基础知识。
接下来,我们将详细介绍DFB的原理、作用以及相关的结构和工艺技术。
紧接着,我们还将探究DFB技术的优势和局限性,以及其在通信领域、光电子器件和高速数据传输等方面的实际应用案例。
最后,在总结重点内容之后,我们将对敏芯半导体分布反馈技术未来发展进行展望。
1.3 目的:本文旨在深入了解敏芯半导体分布反馈技术,并提供一个全面而清晰的概述。
通过此篇文章,读者可以对DFB半导体有一个整体的了解,同时也能对其在各个应用领域中的发展和前景进行展望。
2. 敏芯半导体2.1 定义和特点敏芯半导体是一种新型的半导体材料,具有以下特点:- 高效能蓝光发射:敏芯半导体在发射蓝光方面表现出色,具有高亮度和高能效的特点。
其材料结构使得它能够产生纯净的蓝光。
- 超短波长:相比于其他传统材料,敏芯半导体的波长更短,使得它在高分辨率显示器和激光器等领域有广泛应用。
- 优秀电特性:敏芯半导体具有良好的电子传输特性,低载流子密度和短寿命使得其响应速度快、功耗低。
2.2 应用领域敏芯半导体在众多领域中都有广泛的应用,包括但不限于以下几个方面:- 光电子器件:由于敏芯半导体发射蓝光且波长较短,在制造显示器、激光打印机以及汽车前灯等光电子设备中得到了广泛运用。
- 光通信:由于敏芯半导体具有高效率的蓝光发射能力,使得其成为光纤通信中的重要组成部分。
敏芯半导体在光通信领域中被广泛应用于激光器、放大器和调制器等设备。
- 生物医学:敏芯半导体在生物医学领域也有一定的应用。
《半导体光电子学课件》下集4.7分布反馈(dfb)半导体激光器课件
DFB激光器的结构
光学结构
DFB激光器的光学结构采用分布反馈方式,通过周期 性的光栅结构实现激光光束的反馈反射。
与其他半导体激光器的比较
DFB激光器相较于其他半导体激光器具有更高的频率 稳定性和较窄的光谱线宽。
DFB激光的性能
典型性能指标
DFB激光器具有较低的阈值电流、高的光电转换效率和稳定的输出功率。
相关效应及措施
DFB激光器存在温度效应和光学增益效应等问题,可通过温度控制和结构优化来解决。
DFB激光器的应用
Hale Waihona Puke 通信领域DFB激光器在光纤通信中作为光 源广泛应用,具有高速传输和 稳定性好的特点。
军事领域
DFB激光器用于军事激光雷达、 激光测距仪等领域,具有高精 度和高可靠性。
医疗领域
DFB激光器在医疗仪器中用于激 光治疗、激光手术等应用,帮 助实现精确和非侵入性治疗。
总结
1 优缺点
DFB激光器具备频率稳定性高和光谱线宽窄的优点,但也存在成本较高和制造工艺复杂等 缺点。
2 未来发展方向
未来,DFB激光器的发展方向将着重在提高功率输出、降低成本和改善制造技术等方面。
《半导体光电子学课件》 下集4.7分布反馈(dfb)半 导体激光器课件
本课件介绍分布反馈(dfb)半导体激光器的原理、结构、性能、应用等方面, 旨在向大家分享关于半导体光电子学领域中的重要知识。
什么是分布反馈(dfb)半导体激光器?
分布反馈(dfb)半导体激光器是一种光电子元件,其工作原理是通过在材料中引入反馈结构,使得激光输出更为 稳定和单色。
分布反馈式半导体激光器
分布反馈式半导体激光器半导体激光器及其应用调研报告课程题目分布反馈式半导体激光器在实际工程系统中的应用学院光电技术学院班级电科一班姓名李俊锋学号2010031029 任课教师张翔2013年 5 月15 日分布反馈式半导体激光器在实际工程系统中的应用李俊锋2010031029 摘要:DFB (Distributed Feed Back) DFB型光发射机,分布反馈半导体激光器因其波长的扩展、高功率激光阵列的出现以及可兼容的激光导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展、半导体激光器体积小、重量轻、成本低、波长可选择,其应用范围遍及的领域越来越宽广,其的出现带来了巨大的变化,使科技更发达,人们生活更加丰富多彩,应用范围遍及医学、科技、航天交通,通信等各个领域。
自从1962 年世界上第一台半导体激光器(Diode Laser)发明问世以来, 于其体积小、重量轻、易于调制、效率高以及价格低廉等优点, 被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一. 四十几年来半导体激光器逐步应用在激光唱机、光存储器、激光打印机、条形码解读器、光纤电信以及激光光谱学中, 不断扩大应用范围, 进入了一些其它类型激光器难以进入的新的应用领域。
关键字:DFB、工作波长、边模抑制比、阈值电流、输出光功率一、分布反馈式半导体激光器简介1、分布反馈式半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带之间,或者半导体物质的能带与杂质能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式.电注入式半导体激光器,一般是GaAS,InAS,Insb等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射.光泵式半导体激光器,一般用N型或P型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过外部注入高能电子束进行激励.在半导体激光器件中,目前性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器。
分布反馈布拉格半导体激光器DFBLD课件
无人驾驶
在无人驾驶系统中,激光雷达通 过DFB LD生成稳定的激光信号
,实现车辆导航和避障。
显示与照明领域的实际应用
高亮度显示
DFB LD用于生成高亮度的可见光,推动高亮度显 示技术的发展。
投影显示
作为投影显示系统的光源,DFB LD提供高质量、 高亮度的图像。
照明艺术
在照明艺术领域,DFB LD用于创造动态、多彩的 视觉效果。
以满足各种复杂应用需求。
多波段、多模式的研究
03
开展多波段、多模式DFB LD的研究,拓展其在通信、光谱分析
等领域的应用范围。
05
DFB LD的实际应用案例
光纤通信领域的实际应用
高速数据传输
DFB LD在光纤通信中用于 生成稳定、低噪声的光信 号,实现高速数据传输。
长距离通信
由于其低噪声和窄线宽特 性,DFB LD在长距离光纤 通信中表现出色,能够减 小信号衰减和干扰。
04
光栅刻写
利用干涉仪和反应离子束刻蚀等手段 ,在DFB LD芯片上刻写光栅结构, 控制好刻写的深度和周期性。
06
芯片切割与测试
将制造好的芯片进行切割、打标和测试,确保 其性能符合要求。
制造中的关键技术
01
02
03
外延生长技术
控制外延层的晶体质量和 厚度,是制造DFB LD的 关键技术之一。
光栅刻写技术
在光纤通信中,DFB LD用作发射器,将信息调制到激光光束上,通过光纤传输,实 现高速、大容量的数据传输。
DFB LD具有低噪声、高稳定性和长寿命等优点,能够提高光纤通信系统的性能和稳 定性。
激光雷达
激光雷达是利用激光束探测目标 并获取其位置、速度和形状等信 息的一种技术。DFB LD在激光
分布反馈式半导体激光器相移光栅特性的研究
分布反馈式半导体激光器相移光栅特性的研究本文基于国家高新技术发展计划项目“高线性激光器和高饱和功率光探测器阵列芯片”(项目编号:2015AA016901),为研制适用于长距离光通信的1310nm四通道半导体激光器芯片,用ALDS仿真软件对分布反馈式半导体激光器(Distributed feedback semiconductor laser diode,DFB LD)的光栅类型、刻蚀位置、分布耦合系数、多相移等进行分析优化。
并与武汉光迅科技公司、中科院半导体研究所合作,对设计出的激光芯片进行生产与测试。
本论文主要包括以下几方面的研究内容:1、通过对AlGaInAs/InP材料体系与InGaAsP/InP材料体系进行分析对比,最终选用AlGaInAs/InP材料体系制备DFB LD。
2、在大量ALDS仿真实验基础上,通过对仿真结果进行分析对比,发现为了改善激光器的光场聚集,优化空间烧孔效应,决定采用折射率耦合型的非对称相移光栅,并且将光栅生长在有源层的上层。
在实际的制备过程中,用低损伤ICP干蚀法和E-beam曝光法对光栅的占空比、高度等进行精确刻蚀,有助于优化空间烧孔效应,使驰豫振荡频率得到提高,有助于芯片高速调制。
3、用MOCVD法对芯片进行外延生长,并且根据实际需要,改变生长条件,确定生长方案,得到优质的外延片,进而制备出能实现高线性大功率直接调制的1310nm四通道DFB LD。
4、借助LD结构设计和激光材料仿真软件ALDS,对激光芯片的材料体系进行对比,器件结构进行设计分析,并对芯片的各项性能进行优化,最终得到阈值电流、波长、SMSR等技术参数,为后续的分析过程提供基础。
最终成功研制出1310nm(高频响应覆盖12GHz以下频率范围)四通道,单信道芯片出光功率大于10dBm的激光阵列芯片样品。
而且,样品芯片测试结果表明,所研制的激光芯片各项技术指标均达到了项目要求,且多数优于项目要求。
长波长内含吸收光栅的增益耦合型分布反馈式半导体激光器二次外延技术的研究
长波长内含吸收光栅的增益耦合型分布反馈式半导体激光器二
次外延技术的研究
长波长内含吸收光栅的增益耦合型分布反馈式半导体激光器(DFB-SOA)是一种用于光纤通信系统中的光源器件。
它结合了半导体光放大器(SOA)和分布反馈式激光器(DFB)的特点,具有高增益、窄谱线、低噪声等优点。
DFB-SOA的二次外延技术研究主要包括以下几个方面:
1. 材料生长:DFB-SOA的性能主要受材料的质量和结晶度影响。
二次外延技术可通过在已有的衬底上生长二次外延层,使得DFB-SOA的材料质量更好,提高器件性能。
2. 光栅制作:DFB-SOA内含吸收光栅,光栅的制作对器件性能至关重要。
二次外延技术可以使用光刻、干蚀刻等工艺制作精细的光栅结构,提高耦合效率和光学性能。
3. 结构设计:DFB-SOA的结构设计涉及到材料的选择、层次结构和尺寸等参数的优化。
通过二次外延技术可以控制和调节这些参数,提高DFB-SOA的光学性能和稳定性。
4. 纳米加工技术:DFB-SOA的纳米加工技术主要用于光栅的纳米级制作和调谐等。
二次外延技术可以结合纳米加工技术,实现纳米级的结构调控,提高DFB-SOA的性能和功能。
总之,二次外延技术的研究可改善长波长内含吸收光栅的增益耦合型分布反馈式半导体激光器的性能,提高其在光纤通信系
统中的应用价值。
这项技术的研究对于推动光通信技术的发展具有重要意义。
(完整版)分布式反馈激光器
DFB分布式反馈激光器091041A 谢伟超DFB( Distributed Feedback Laser),即分布式反馈激光器,其不同之处是内置了布拉格光栅(Bragg Grating),属于侧面发射的半导体激光器。
DFB激光器将布拉格光栅集成到激光器内部的有源层中(也就是增益介质中),在谐振腔内即形成选模结构,可以实现完全单模工作。
目前,DFB激光器主要以半导体材料为介质,包括锑化镓(GaSb)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。
DFB激光器最大特点是具有非常好的单色性(即光谱纯度),它的线宽普遍可以做到1MHz以内,以及具有非常高的边摸抑制比(SMSR),目前可高达40-50dB以上。
设计和制作在高速调制下仍能保持单纵模工作的激光器是十分重要的,这类激光器统称动态单模半导体激光器。
实现动态单纵模工作的最有效的方法之一,就是在半导体激光器内部建立一个布拉格光栅,靠光栅的反馈来实现纵模选择。
这种结构还能够在更宽的工作温度和工作电流范围内抑制模式跳变,实现动态单模。
分布反馈半导体激光器(DFB-LD),在DFB-LD中,光栅分布在整个谐振腔中,所以称为分布反馈。
因为采用了内部布拉格光栅选择波长,所以DFB-LD的谐振腔损耗有明显的波长依存性,这一点决定了它在单色性和稳定性方面优于一般的F-P腔激光器。
结构及工作机理DFB激光器的激光振荡不是靠F—P腔来实现,而是依靠沿纵向等间隔分布的光栅所形成的光耦合,如图2—81所示。
图中光栅的周期为A,称为栅距。
当电流注入激光器后,有源区内电子——空穴复合,辐射出能量相应的光子,这些光子将受到有源层表面每一条光栅的反射。
在DFB激光器的分布反馈中,此时的反射是布拉格发射,光栅的栅条间入射光和反射光的方向恰好相反。
满足上式的那些特定波长的光才会受到强烈反射,从而实现动态单纵模工作。
式也称为分布反馈条件(一般m取1)。
DFB-LD的光栅是完全均匀对称的,使得其发光出现了两个主模同时振荡的现象。
敏芯半导体 分布反馈(dfb)半导体
敏芯半导体分布反馈(dfb)半导体
敏芯半导体是一家专注于半导体领域的企业,其研发和生产的分布反馈(dfb)半导体在通信行业起到了重要的作用。
分布反馈半导体是一种在光通信中广泛应用的器件,它结合了分布反馈技术和半导体材料的优势。
该器件利用半导体材料的特性,通过电流和电压的控制来操纵光信号的放大和调制,实现高效的光通信传输。
与传统的半导体器件相比,分布反馈半导体具有更高的稳定性和更大的输出功率。
它采用了特殊的分布反馈结构,可以有效地抑制激光器的纵模振荡,提高输出光的单模性能。
同时,它还具有较低的插入损耗和较高的线性度,能够在光通信系统中实现更长的传输距离和更高的数据传输速率。
分布反馈半导体的应用范围非常广泛。
在光纤通信中,它可以用作光放大器、光调制器和光源等关键器件,提供稳定可靠的信号传输。
在激光雷达和光学传感器等领域,它可以实现高精度的测量和探测,为各种应用提供可靠的解决方案。
敏芯半导体作为分布反馈半导体的领先企业,致力于推动光通信技术的发展和应用。
公司拥有一支专业的研发团队,不断创新和优化分布反馈器件的设计和制造工艺,以满足不同应用领域的需求。
敏芯半导体的分布反馈半导体产品已在国内外市场上得到广泛应用
和认可。
公司始终坚持以客户为中心,为客户提供高质量的产品和优质的服务。
未来,敏芯半导体将继续致力于研发和创新,推动分布反馈半导体技术在光通信领域的应用,为推动信息社会的发展做出更大的贡献。
分布反馈式半导体激光器相移光栅特性的研究
分布反馈式半导体激光器相移光栅特性的研究分布反馈式半导体激光器是一种由反馈光栅结构控制工作波长和增益特性的激光器。
相移光栅是一种特殊的反馈光栅,它通过引入相位差来调控光场的干涉效应,进而改变激光器的波长和增益特性。
在分布反馈式半导体激光器中,相移光栅的特性对激光波长的确定以及光场的模式控制起着重要作用,因此研究相移光栅特性对于优化激光器性能具有重要意义。
首先,相移光栅的特性决定了激光器的工作波长。
相移光栅通过引入相位差,在光场的传播过程中进行干涉,产生衍射效应。
这种干涉效应使得光场在光栅中形成周期性的增强和衰减区域,从而形成了工作波长。
相移光栅特性的研究可以通过数值模拟和实验测试来进行。
数值模拟方法通常采用光场传输方程和Maxwell方程组对相移光栅中的光场进行模拟计算,得到光场的分布情况和衍射效应,从而确定激光器的工作波长。
实验方法通常采用双光栅干涉法或波长调谐法来测量相移光栅的波长特性。
这些研究方法可以帮助设计和优化分布反馈式半导体激光器的工作波长。
其次,相移光栅的特性还可以用于控制激光器的模式。
在分布反馈式半导体激光器中,相移光栅引入的相位差会改变光场的干涉条件,从而调控激光器的模式。
具体而言,相移光栅可以通过改变光场的传播路径和干涉效应,实现单模和多模的切换,或者实现特定模式的选择。
这种模式控制可以通过调整相移光栅的深度、周期和相位差来实现。
研究相移光栅特性可以帮助优化激光器的模式控制,提高激光器的输出功率和光谱纯度。
最后,相移光栅的特性还与激光器的稳定性密切相关。
分布反馈式半导体激光器在一定条件下可以实现单模运行。
相移光栅的特性决定了光场在光栅中的传播方式,进而影响激光器的相位和增益特性。
研究相移光栅特性可以帮助优化激光器的稳定性,减小光场的波动和不稳定因素,提高激光器的性能。
总之,研究分布反馈式半导体激光器相移光栅特性对于优化激光器的工作波长、模式控制和稳定性具有重要意义。
通过数值模拟和实验测试可以得到相移光栅的波长特性,并通过调整相移光栅的深度、周期和相位差来实现激光器的工作波长、模式控制和稳定性优化,从而提高激光器的性能和应用效果。
《半导体光电子学课件》下集4.7分布反馈半导体激光器课件
传感领域的应用
01
02
03
气体传感
DFB激光器用于气体传感 ,通过检测气体对光的吸 收光谱实现气体浓度的测 量。
生物传感
DFB激光器用于生物传感 ,通过检测生物分子对光 的吸收或荧光光谱实现生 物分子检测。
光学陀螺
DFB激光器用于光学陀螺 中,通过检测激光束的偏 振状态变化实现角速度的 测量。
激光雷达领域的应用
干涉效应使得DFB激光器能够产生单波长输出, 并且具有较高的光谱纯度。
DFB半导体激光器的结构特点
DFB半导体激光器的结构 通常包括有源区、反射镜 和光限制层等部分。
有源区是产生光增益的区 域,通常由掺杂的半导体 材料组成。
反射镜通常由DBR结构构 成,其周期性折射率变化 使得光在反射镜表面发生 相干反射。
03
DFB半导体激光器的应用
光通信领域的应用
光纤通信系统
相干光通信
DFB半导体激光器作为光源,用于产 生稳定、单色的光信号,通过光纤传 输实现高速、大容量的信息传输。
DFB激光器用于产生相干光信号,通 过相干检测技术提高通信系统的性能 和可靠性。
波分复用技术
DFB激光器作为光源,用于实现波分 复用技术,提高光纤通信系统的传输 容量和效率。
此外,DFB激光器的制造成本也较高 ,这限制了其在某些领域的应用。
DFB半导体激光器的制造工
02
艺
材料的选择与制备
01 半导体材料
选择合适的半导体材料,如GaAs、InP等,以满 足DFB激光器的性能要求。
02 衬底制备
对衬底进行清洗、研磨、抛光等处理,确保其表 面质量和晶体取向的准确性。
03 外延生长
阈值电流与输出功率测试
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半导体激光器及其应用调研报告课程题目分布反馈式半导体激光器在实际工程系统中的应用学院光电技术学院班级电科一班姓名李俊锋学号 **********任课教师张翔2013年 5 月 15 日分布反馈式半导体激光器在实际工程系统中的应用李俊锋2010031029摘要:DFB (Distributed Feed Back) DFB型光发射机,分布反馈(激光器)半导体激光器因其波长的扩展、高功率激光阵列的出现以及可兼容的激光导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展、半导体激光器体积小、重量轻、成本低、波长可选择,其应用范围遍及的领域越来越宽广,其的出现带来了巨大的变化,使科技更发达,人们生活更加丰富多彩,应用范围遍及医学、科技、航天交通,通信等各个领域。
自从1962 年世界上第一台半导体激光器(Diode Laser)发明问世以来, 由于其体积小、重量轻、易于调制、效率高以及价格低廉等优点, 被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一. 四十几年来半导体激光器逐步应用在激光唱机、光存储器、激光打印机、条形码解读器、光纤电信以及激光光谱学中, 不断扩大应用范围, 进入了一些其它类型激光器难以进入的新的应用领域。
关键字: DFB、工作波长、边模抑制比、阈值电流、输出光功率一、分布反馈式半导体激光器简介1、分布反馈式半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带之间,或者半导体物质的能带与杂质能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式.电注入式半导体激光器,一般是由GaAS,InAS,Insb等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射.光泵式半导体激光器,一般用N型或P型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励.在半导体激光器件中,目前性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器。
DFB( Distributed Feedback Laser),即分布式反馈激光器,其不同之处是内置了布拉格光栅(Bragg Grating),属于侧面发射的半导体激光器。
目前,DFB激光器主要以半导体材料为介质,包括锑化镓、砷化镓、磷化铟、硫化锌等。
DFB激光器最大特点是具有非常好的单色性(即光谱纯度),它的线宽普遍可以做到1MHz以内,以及具有非常高的边摸抑制比(SMSR),目前可高达40-50dB以上。
2、分布反馈式半导体激光器的主要参数:a.工作波长:激光器发出光谱的中心波长。
b.边模抑制比:激光器工作主模与最大边模的功率比。
c.-20dB光谱宽度:由激光器输出光谱的最高点降低20dB处光谱宽度。
d.阈值电流:当器件工作电流超过阈值电流时激光器发出相干性很好的激光。
e.输出光功率:激光器输出端口发出的光功率。
二、分布反馈式半导体激光器原理分布反馈式半导体的能带结构。
半导体材料多是晶体结构。
当大量原子规则而紧密地结合成晶体时,晶体中那些价电子都处在晶体能带上。
价电子所处的能带称价带(对应较低能量)。
与价带最近的高能带称导带,能带之间的空域称为禁带。
当加外电场时,价带中电子跃迁到导带中去,在导带中可以自由运动而起导电作用。
同时,价带中失掉一个电子,则相当于出现一个带正电的空穴,这种空穴在外电场的作用下,也能起导电作用。
因此,价带中空穴和导带中的电子都有导电作用,统称为载流子。
掺杂半导体与p-n结。
没有杂质的纯净半导体,称为本征半导体。
如果在本征半导体中掺入杂质原子,则在导带之下和价带之上形成了杂质能级,分别称为施主能级和受主能级。
有施主能级的半导体称为n型半导体;有受主能级的半导体称这p型半导体。
在常温下,热能使n型半导体的大部分施主原子被离化,其中电子被激发到导带上,成为自由电子。
而p型半导体的大部分受主原子则俘获了价带中的电子,在价带中形成空穴。
因此,n型半导体主要由导带中的电子导电;p型半导体主要由价带中的空穴导电。
半导体激光器中所用半导体材料,掺杂浓度较大,n型杂质原子数一般为(2-5)×1018cm-1;p型为(1-3)×1019cm-1。
在一块半导体材料中,从p 型区到n型区突然变化的区域称为p-n结。
其交界面处将形成一空间电荷区。
n型半导体带中电子要向p区扩散,而p型半导体价带中的空穴要向n 区扩散。
这样一来,结构附近的n型区由于是施主而带正电,结区附近的p 型区由于是受主而带负电。
在交界面处形成一个由n区指向p区的电场,称为自建电场。
此电场会阻止电子和空穴的继续扩散。
p-n结电注入激发机理。
若在形成了p-n结的半导体材料上加上正向偏压,p区接正极,n区接负极。
显然,正向电压的电场与p-n结的自建电场方向相反,它削弱了自建电场对晶体中电子扩散运动的阻碍作用,使n区中的自由电子在正向电压的作用下,又源源不断地通过p-n结向p区扩散,在结区内同时存在着大量导带中的电子和价带中的空穴时,它们将在注入区产生复合,当导带中的电子跃迁到价带时,多余的能量就以光的形式发射出来。
这就是半导体场致发光的机理,这种自发复合的发光称为自发辐射。
图中光栅的周期为A,称为栅距。
当电流注入激光器后,有源区内电子—空穴复合,辐射出能量相应的光子,这些光子将受到有源层表面每一条光栅的反射。
在DFB激光器的分布反馈中,此时的反射是布拉格发射,光栅的栅条间入射光和反射光的方向恰好相反。
满足上式的那些特定波长的光才会受到强烈反射,从而实现动态单纵模工作。
式也称为分布反馈条件(一般m取1)。
三、分布反馈半导体激光器反馈方式普通结构的分布反馈半导体激光器(DFB-LD),在高速调制状态下会发生多模工作现象,从而限制了传输速率。
因此,设计和制作在高速调制下仍能保持单纵模工作的激光器是十分重要的,这类激光器统称为动态单模(DSM)半导体激光器。
实现动态单纵模工作的最有效的方法之一,就是在半导体激光器内部建立一个布拉格光栅,依靠光栅的选频原理来实现纵模选择。
分布反馈半导体激光器的特点在于光栅分布在整个谐振腔中,光波在反馈的同时获得增益。
因为DFB-LD的谐振腔具有明显的波长选择性,从而决定了它们的单色性优于一般的FP-LD。
在DFB-LD中存在两种基本的反馈方式,一种是折射率周期性变化引起的布拉格反射,即折射率耦合(Index-Coupling),另一种为增益周期性变化引起的分布反馈,即增益耦合(Gain-Coupling)。
与依靠两个反射端面来形成谐振腔的FP-LD相比,DFB-LD可能激射的波长所对应的谐振腔损耗是不同的,也就是说DFB-LD的谐振腔本身具有选择模式的能力。
在端面反射为零的理想情况下,理论分析指出:折射率耦合DFB-LD在与布拉格波长相对称的位置上存在两个谐振腔损耗相同且最低的模式,而增益耦合DFB-LD 恰好在布拉格波长上存在着一个谐振腔损耗最低的模式。
也就是说,折射率耦合DFB-LD原理上是双模激射的,而增益耦合DFB-LD是单模激射的。
四、分布式反馈激光器的制造技术DFB激光器的光栅结构通常在波导表面掩膜,刻蚀形成。
但是,在制造过程中产生的晶格损伤会降低量子效率,增大阈值电流。
避免晶格损伤产生的影响:将光栅和激光器有源层分开。
主要提供了三种方法。
方法1:利用扩散方法➢ 1.在衬底GaAs上利用离子束刻蚀形成三阶光栅➢ 2.P区掺杂Zn➢ 3.在交界面1um下产生p-n结方法2:利用separate confinement heterojunction 结构➢ 1.注入的电子被p-Ga0.83Al0.17As➢2限制在有源层➢ 3.光子传播到p-Ga0.93Al0.07As的交界面➢ 4.有源区不受晶格损伤的影响方法3:利用水平耦合结构➢ 1.光通过横向和水平方向消逝场的重叠部分来提供光反馈➢ 2.耦合系数k与脊的深度有关➢ 3.发射波长为9217埃,阈值电流为11mA五、分布式反馈激光器特点与一般F—P腔激光器相比,DFB激光器具有以下两大优点,因而在目前的光纤通信系统中得到广泛应用。
(1)动态单纵模窄线宽输出1、线宽窄:发射谱线宽定义为激光增益曲线和激光器的模式选择特性的卷积,由于光栅具有很好的波长选择特性,因此,发射谱宽较窄。
2、典型的端面反射型激光器的单模线宽为1到2埃,约 50 GHz,而带有光栅结构的DFB的线宽约为50–100 kHz。
3、目前商用的DFB激光器在1.55μm处的线宽小于25埃。
由于DFB激光器中光栅的栅距(A)很小,形成一个微型谐振腔,对波长具有良好的选择性,使主模和边模的阈值增益相对较大,从而得到比F—P腔激光器窄很多的线宽,并能保持动态单纵模输出。
(2)波长稳定性好1、传统的端面反射激光器的发射波长很容易受到温度的影响。
2、DFB激光器波长的稳定性较好,因为光栅能够锁定激光器输出给定的波长。
3、分析:(1)波长漂移:4、端面反射激光器:3.7埃/摄氏度5、DFB激光器:0.8埃/摄氏度(3)阈值电流:在m=0时,J端=JDFB1、但J1=3J0,并且在模式转换处阈值电2、流急剧增加(由增益曲线和激光模式3、在此温度下不匹配导致的)由于DFB激光器内的光栅有助于锁定给定的波长,其温度漂移约为0.8Å/℃,比F—P腔激光器要好得多。
在端面激光器中,光的发射波长是由增益曲线和激光器的模式特性决定的,当达到阈值电流时,激光器通常会激发许多纵模4、在DFB激光器中,发射波长会受到增益曲线的影响,但主要由光栅周期决定。
5、当 l 阶模和 l±1阶模的间距和增益曲线的线宽相比足够大时,只有一个模式有足够的增益产生激光。
尽管DFB激光器有很多优点,但并非尽善尽美。
例如,为了制作光栅,DFB激光器需要复杂的二次外延生长工艺,在制造出光栅沟槽之后由于二次外延的回熔,可能吃掉已形成的光栅,致使光栅变得残缺不全,导致谐振腔内的散射损耗增加,从而使激光器的内量子效率降低。
此外,DFB激光器的震荡频率偏离Bragg频率,故其阈值增益较高。
DFB激光器的发展方向是,更宽的谐调范围和更窄的线宽,在一个DFB激光器集成两个独立的光栅,实现更宽的波长谐调范围,比如达到100nm谐调范围,以及更窄的光谱线宽。
六、分布式反馈激光器实际工程系统中的应用分布反馈式半导体激光器是成熟较早、进展较快的一类激光器,由于它的波长范围宽,制作简单、成本低、易于大量生产,并且由于体积小、重量轻、寿命长,因此,品种发展快,应用范围广,目前已超过300种,半导体激光器的最主要应用领域是Gb局域网,850nm波长的半导体激光器适用于)1Gh/。