说一说光刻机的那些事儿

说一说光刻机的那些事儿

 面对四月份美国对中兴芯片禁运事件，我们体会到被别人拿住软肋、受制于人的痛楚，而生产高性能芯片必须的关键设备就是光刻机，今天我们就来说一说光刻机的那些事儿。

 光刻机（Mask Aligner），又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，其中掩模对准光刻法是比较常用的光刻机，本文搜集整理的资料和例证主要以掩模对准光刻机为主。

 光刻机的分类

 高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称是世界上最精密的仪器，高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度大，目前全球只有少数几家公司能够制造。

 国外品牌的光刻机主要以荷兰ASML（光刻机镜头来自德国）、日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。国内的光刻机主要是上海微电子装备股份有限公司SMEE研制的具有自主知识产权的投影式中端光刻机，目前该公司的光刻机已经初步形成产品系列，开始在海内外销售。