半导体激光器简介
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
(2)工作物质(激活物质),实现粒子数反转。
谐振腔
• 腔内受激发射的光子,沿轴来回反射、强度增大,凡传播方向偏离轴方 向的逸出而淘汰。
• 反射镜镀有多层膜,适当选择其厚度,使所需波长得到“相长干涉” 后, 反射加强,光强度得到放大。
• 精心设计腔长,使所需频率的波形成驻波(两端为波), 形成稳定的振荡 得到加强。
• (2)要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内得到多 次反馈而形成激光振荡,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自然解理 面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜, 而出光面镀上减反膜。对F-P腔(法布里一玻罗腔)半导体激光器可以很 方便地利用晶体的与P一n结平面相垂直的自然解理面构成F一P腔.
(2)绝缘体的禁带很宽,满带中的电子很难进入导带,导电性很差。 (3)金属导体没有禁带,可显示很强的导电性。
半导体的分类
(1)本征半导体 纯净的半导体,如硅、锗等。
半导体禁带宽度窄、在外场的作用下, 导带中的电子、满 带中的空穴都可参与导电。(本征导电性。见下图)
外
导带
场
满带
E
本征半导体材料 Si
• 两端装有布儒斯特窗,得到所需的偏振态。 谐振腔的作用:产生与维持光的振荡加强;使激光有极好的方向性、
单色性。即对光放大实行 选择、控制、增强 的作用。
光学谐振腔:法布里-珀罗 (F-P) 谐振腔
1. 将工作物质置于光学谐振腔 (F-P腔) 2. 光的产生及方向选择
1) 少数载流子的自发辐射产生光子 2) 偏离轴向的光子产生后穿出有源区,得不到放大 3) 轴向传播的光子引发受激辐射,产生大量相干光子 3. 通过来回反射,特定波长的光最终得到放大,并被输出
• 半导体激光器的模式特性
LD的模式特性首先取决于光腔的三个线度(横向、侧向、纵向的尺寸) 及介质特性。通常腔内能存在许多模式,但只有获得净增益(满足阈 值条件)的那些模式才能被激励,它的频率才会出现在输出光中。在 实际应用中,模式的稳定性和线宽是对系统性能影响较大的两个参量。
LD工作在基横模时,相干性最好,因此要求LD在设计和结构上保证基横 模工作。根据基横模的条件通过对光载流子的横向以及垂直向限制、 减小有源区宽度和厚度等措施可以实现LD的基横模工作。
100%
90%
法布里-珀罗 (F-P) 谐振腔
• 半导体激光器的通用结构
光反馈装置
有源区
输出光
频率选择元件
光波导
LD的通用结构 • 如图所示,一个典型的半导体激光器应当由下面几部分组成: • 有源区(又称为增益区) 有源区是实现粒子数反转分布、有光增益的区域。有源区通常由一个或
多个垂直方向的PN结构成。 • 光反馈装置 在光学谐振腔内提供必要的正反馈以促进激光振荡。 • 频率选择元件 用来选择由光反馈装置决定的所有纵模中的一个模式。 • 光束的方向选择元件 光反馈装置可以选择激光器光束的方向。 • 光波导 用于对所产生的光波在器件内部进行引导。
半导体激光器简介
目录
• 半导体激光器分类 • 半导体发光机理 • 半导体的分类 • 半导体激光器的原理和结构 • 半导体激光器性质 • 几种典型半导体激光器 • 半导体激光器应用及举例
• 半导体激光器分类
半导体激光器的种类很多,下图进行了简单示意。半导体激光器可 以根据有源层材料、发射波长、器件结构、输出功率和应用领域等不 同方式进行划分,分类方式灵活,相互交错。
一般温度下,杂质的价电子很容 易 被激发跃迁至导带,成为导电电子, 使导带中的电子浓度大大增加。 n 型 半导体以电子导电为主。
E
导带 施主能级
满带
n 型半导体
外场
非本征半导体材料:n型
施主杂质
AAss+54
掺入第V族元素(如磷P, 砷As, 锑Sb)后,某些电子受到很弱的束 缚,只要很少的能量ED (0.04~0.05eV)就能让它成为自由电子。 这个电离过程称为杂质电离。
半导体激光器不同种类示意图
一、半导体异质结发光机理
物质原子结构的图象:
半导体固体能带结构
(由多个原子的能级组成):
固体的能带理论
固体由原子组成,原子具有量子化的能级。由于化学环境及物理的 原因,原子的能级要发生变化——
• 每个原子核外电子的能级叠合成彼此相差很小的一组能带:原子内层 能级被电子填满,由它们形成的能带也被电子占满,称为满带(价带); 外层能级未被电子填满,它们形成的能带亦未被填满,称为导带。两者 间的能量距离g,称为禁带。
(3)与半导体材料结型有关,异质结阈值电流比同质结低得多。
目前,室温下同质结的阈值电流大于30000A/cm2;单异质结约为
8000A/cm2;双异质结约为1600A/cm2。现在已用双异质结制成在室
温下能连续输出几十毫瓦的半导体激光器。
(4)温度愈高,阈值越高。100K以上,阈值随T的三次方增加。
• 半导体激光器的工作原理
•
半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具
备三个基本条件:
• (1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布。在半导 体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因 此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高 能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同 质结或异质结加正向偏压,向有源层内注人必要的载流子来实现,将 电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反 转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。
E
导电为主。
附:几个3、4、5价的元素
In3 Al 3 B 3 Ga 3 Si 4 Ge 4 P 5 As5 Sb5
非本征半导体材料:p型
B 受主杂质
掺入第III族元素(如铟In,镓Ga,铝Al),晶体只需要很少的能量 EA < Eg 就可以产生自由空穴
P-N结:
(1)形成:P与N密切接触
P型材料中的空穴将向N型材料扩散;N型材料 中的电子将向P型材料扩散。
典型的V-I曲线和相应的dV/dI曲线
• 2、P-I特性
•
P-I 特性揭示了激光器输出光功率与注入电流之间的变化规律,
因此是激光器最重要的特性之一。
典型的激光器P-I曲线
• 由P-I曲线可知,半导体激光器是阈值型器件,随注入电流的不同而 经历了几个典型阶段。
• 当注入电流较小时,有源区里不能实现粒子数反转,自发辐射占主导 地位,半导体激光器发射普通的荧光,光谱很宽,其工作状态类似于 一般的发光二极管。
• 半导体激光器的性质
• 1、伏安特性
•
伏安特性描述的是半导体激光器的纯电学性质,通常用V-I曲线表
示。V-I曲线的变化反映了激光器结特性的优劣。与伏安特性相关联的
一个参数是LD的串联电阻。对V-I曲线进行一次微商即可确定工作电
流(I)处的串联电阻(dV/dI)。对LD而言总是希望存在较小的串联
电阻。
1. 粒子数反转 产生大量的受激辐射 2. 光反馈 光放大 (增益 > 损耗) 3. 相位条件 波长选择
粒子的正常玻尔兹曼分布:
E
N Ae KT (E , N )
要得到激光,必须实现粒子数反转,使受激辐射占优势,为保证实 现粒子数反转必须有:
(1)激励能源(泵浦)—电、光、气体放电、化学、核能等。
• (3)为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐 振腔引起的光损耗及激光从腔面输出等引起的损耗,不断增加腔内的 光场。这就必须要有足够强的电流注入,即有足够的粒子数反转,粒 子数反转程度越高,得到的增益就越大,即要求必须满足一定的电流 阈值条件。当激光器达到阈值,具有特定波长的光就能在腔内谐振并 被放大,最后形成激光而连续地输出。可见在半导体激光器中,电子 和空穴的偶极子跃迁是基本的光发射和光放大过程。
半导体激光器的工作原理
简单的半导体激光器由带隙能量较高的P型和N型半导体材料和 一层很薄的有源层构成。在PN结加上正向偏置电压后,电子从N区向 P区流动,空穴从P区向N区流动,在作用区内,电子和空穴复合产生 光子。当注入电流较小时,注入结区的电子和空穴数目较少,此时只 能自发辐射(荧光),光向四面八方传播;当注入电流大到一定程度 时,便向外输出激光。
E2 - E1 = hv E2
E1 (a) 受激跃迁
E2 hv
E1 (b) 自ຫໍສະໝຸດ Baidu辐射:非相干光
E2 hv
hv
hv
E1
(c) 受激辐射:相干光
LD的原理和结构
激光,英文LASER是Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation (受激辐射的光放大)的缩写。激光器产生激光的条 件是:
因此,半导体激光器最好在低温和室温下工作。
• 2.方向性。由于半导体激光器的谐振腔短小,激光方向性较差,在 结的垂直平面内,发散角最大,可达20°--30°;在结的水平面内约 为10°左右(见下图)。
• 3.效率 量子效率 η=每秒发射的光子数/每秒到达结区的电子空穴对数 77K时,GaAs激光器量子效率达70%-80%;300K时,降到30
硅的晶格结构 (平面图)
硅的晶格结构
E 电子和空穴是成对出现的
Si电子受到激励跃迁到导带,导致电子和空穴成对出现 此时外加电场,发生电子/空穴移动导电
(2)杂质半导体
* n 型半导体
当四价的元素中 掺入少量五价元 素时形成n 型半导体。如:硅中掺入 杂质磷后,磷原子在硅中形成局部能 级位于导带底附近(称为施主能级)。
* P 型半导体
外场
导带
四价的元素中掺入
少量三价元素时形成 P 型半导体,如: 受主能级
在硅中掺入三价的杂质硼,杂质原子
的局部能级位于价带顶附近(称为受
主能级)。
满带
一般温度下,满带中的电子很容
易被激发跃迁至杂质能级上,满带中 留下的空穴也将因此而大大增加,而 成为多数载流子。P 型半导体以空穴
P 型半导体
结果:交界处出现正、负电偶层,阻挡继续扩散达到
平衡,形成P-N结。
(2)作用:
PN
PN 结 具 有 单 向 导
电作用,是制造整流器和集
正向连接
成电路的基本结构。
P N
P N
反向连接
正向连接时,P中的空穴和N中的电子都易于通过P-N 结, 形成P N的 正向宏观电流。
反向连接时,P中的空穴和N中的电子都难以通过P-N 结。故 P-N结具有单 向导电的性能。
半导体异质结的发光与吸收
自发辐射与受激辐射:
导带的电子不稳定,向价带 跃 迁 与 空 穴 复 合 而 放 出 光 子 —— 光辐射。如果跃迁是自发的,则 光子具有随机的方向、相位及偏 振态,称为自发辐射;
如果受到入射光子的激励, 辐射的光子与入射光子有相同的 方向、相位及偏振态,称为受激 辐射。
光作用下的跃迁和辐射 hv
•
P-I 特性曲线决定了一系列半导体激光器参数与特性:
C B
A O
• 半导体激光器的工作特性
•
1.阈值电流。当注入p-n结的电流较低时,只有自发辐射产生,
随电流值的增大增益也增大,达阈值电流时,p-n结产生激光。影响
阈值的几个因素:
(1)晶体的掺杂浓度越大,阈值越小。
(2)谐振腔的损耗小,如增大反射率,阈值就低。
%左右。 功率效率η1=辐射的光功率/加在激光器上的电功率 由于各种损耗,目前的双异质结器件,室温时的η1最高10%,只
有在低温下才能达到30%-40%。
• 4.光谱特性。由于半导体材料的特殊电子结构,受激复合辐射发生 在能带(导带与价带)之间,所以激光线宽较宽,GaAs激光器,室 温下谱线宽度约为几纳米,可见其单色性较差。输出激光的峰值波长: 77K时为840nm;300K时为902nm。
• 随着注入电流的加大,有源区里实现了粒子数反转,受激辐射开始占 主导地位,但当注入电流仍小于阈值电流时,谐振腔里的增益还不足 以克服损耗,不能在腔内建立起一定模式的振荡,半导体激光器发射 的仅仅是较强的荧光,称为“超辐射”状态。
• 只有当注入电流达到阈值以后,才能发射谱线尖锐、模式明确的激光, 光谱突然变窄并出现单峰(或多峰)。
• 下图简略表示出半导体、绝缘体、及金属的能带,这里仅画出了导带 和满带。从能带角度看,半导体和绝缘体的差别仅在于两者的禁带不同, 前者较窄,后者很宽,而金属的 g =0 。
外
外
E
场E
导带
场
E
Eg 10eV
导带
Eg 1eV
禁带
满带 (1)半导体
禁带
满带 (2) 绝缘体
导带 满带 (3)金属
(1)半导体的禁带很窄,满带中的电子较易进入导带。导带中的电子在外场 作用下运动而参与导电。