稀土抛光粉的发展与应用

稀土抛光粉的发展现状及应用

铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如Fe2O3 红粉）的使用效果佳，而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛增，发展前景看好。铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如Fe2O3 红粉）的使用效果佳，而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛增，发展前景看好。

我国具有丰富的铈资源，据测算，其工业储量约为1800 万吨（以CeO2 计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

1、稀土抛光粉的发展过程红粉（氧化铁）是历史上最早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且

铁锈色的污染也无法消

除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30 年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中，一个在伊利诺斯州罗克福德的W F 和Barnes J 公司工作的雇员，于1943 年提出了一种叫做巴林士粉（Barnesite ）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点，激起了美国等国家的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。

国外于60 年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪90 年代已形成各种标准化、系列化的产品达30 多种规格牌号。

目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15 家（年生产能力为200 吨以上者）。其中，法国罗

地亚公司年生产能力为2200 多吨。是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500 吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968 年，我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。随后西北光学仪器厂、云南光学仪器厂相继采用独居石为原料，研制成功不同类型稀土抛光粉。北京有色金属研究总院、北京工业学院等单位于1976 年研制并推广了739 型稀土抛光粉，1977 年又研制成功了771 型稀土抛光粉。1979 年甘肃稀土公司研制成功了797 型稀土抛光粉。目前国内已有14 个稀土抛光粉生产厂家（年生产能力达30 吨以上者），最大的一家年生产能力为2220 吨（包头天骄清美稀土抛光粉有限公司）。但与国外相比仍有较大差距，主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定，未能达到标准化、系列化，还不能完全满足各种工业领域的抛光要求，因此必须迎头赶上。

2 稀土抛光粉的种类

2.1 以稀土抛光粉中Ｃe Ｏ2 量来划分

稀土抛光粉的主要成分是CeO2 ，据其CeO2 量的高低可将铈抛光粉分为两大类: 一类是CeO2 含量高的价高质优的高铈抛光粉，一般CeO2/TREO≥ 80% ，另一类是CeO2 含量低的廉价的低铈抛光粉，其铈含量在50% 左右，或者低于50% ，其余由La2O3 ，Nd2O3 ，Pr6O11 组成。

对于高铈抛光粉来讲，氧化铈的品位越高，抛光能力越大，使用寿命也增加，特别是硬质玻璃长时间循环抛光时( 石英、光学镜头等) ，以使用高品位的铈抛光粉为宜。

低铈抛光粉一般含有50% 左右的CeO2 ，其余50% 为La2O3?SO3 ，Nd2O3?SO3 ，Pr6O11?SO3 等碱性无水硫酸盐或LaOF 、NdOF 、PrOF 等碱性氟化物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高铈抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高铈抛光粉低。

2.2 以稀土抛光粉的大小及粒度分布来划分

稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。对于一定组分和加工工艺的抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下，颗粒尺寸约为4µm 的抛光粉磨削速度最大。相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度较小，则磨削量减少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3 种：纳米级(1nm ～100nm); 亚微米级( 100nm ～1µｍ) ; 微米级( 1µm ～100µｍ) ，据此分类方法，稀土抛光粉可以分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3 类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在1µｍ～10µｍ之间，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的最后工序，进行精磨，因此其粒度分布一般不大于10µｍ，粒度大于10µｍ的抛光粉( 包括稀土抛光粉) 大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1µｍ的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。

3、稀土抛光粉生产工艺概述

3.1 生产原料

目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种:(1) 氧化铈(CeO2) ，由混合稀土盐类经分离后所得(w(CeO2)=99%); (2) 混合稀土氢氧化物(RE(OH)3) ，为稀土精矿(w(REO)≥50%)化学处理后的中间原料(w(REO)=65% ，w(CeO2)≥48%);(3)混合氯化稀土(RECl3) ，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土( 主要含La ，Ce ，Pr 和Nd ，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%); (4) 高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的