稀土抛光粉产业概述

三、稀土抛光粉生产工艺
从制备工艺来看，可分为两大类，一是以稀土精矿或铈富集物为原料 的固相反应法；二是以稀土可溶盐为原料的合成法。由稀土精矿或铈 富集物直接制备稀土抛光粉可省去繁杂的化学提取过程，而使生产成 本大大降低。如以氟碳铈精矿为原料制取稀土抛光粉，用REO＞68％ 的稀土精矿 ,经预处理、900℃以上煅烧、湿法分级、过滤烘干得到产 品。这种方法制得的粉可以利用矿中的氟起到提高抛光效果的作用， 但产品中的杂质含量高，只能用于光洁度要求不高的场合使得应用受 到限制。以稀土可溶盐为原料的合成法中，可以有多种途径，也可以 通过调配化学组成来提高产品的抛光性能，还可以通过控制技术条件 来达到控制产品粒度的目的。如以氯化稀土为原料制取稀土抛光粉， 经加入沉淀剂合成中间体等化学处理、烘干、煅烧、分级、加工得到 产品。
2.3.3.2原理：RE（CO3）3〃nH2O =RE2（CO3）3＋nH2O
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.3.4煅烧岗位 2.3.4.1 目的 ：将合成所得中间体经干燥赶去水份，在一定温度下煅烧 分解转型，确定抛光粉的晶型、颜色、切削力等物理性能。
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.3.4.2反应原理 2R(OH)CO3=R2O3 +2CO2↑ +H2O↑ 4Ce(OH)CO3+O2=4CeO2 +4CO2↑+2H2O RFCO3=ROF +CO2↑ R2(SO4)3〃(NH4)2SO4〃XH2O=R2(SO4)3〃(NH4)2SO4 +XH2O
三、稀土抛光粉生产工艺
我公司抛光粉共四个系列： 739系列抛光粉 797系列抛光粉 877系列抛光粉 081系列抛光粉
三、稀土抛光粉生产工艺
1、工艺流程图
2、739系列抛光粉产品工艺流程图
富铈氯化稀土溶液
加氨水调PH值、加水调稀土含量
配 压 合
用60~70℃沙滤水水洗三次至上清液 氯化铵含量小于8g/L
一、稀土抛光粉的发展历程
1985年，在公司认真分析市场的基础上，引进新设备，扩 产改造抛光粉生产线，建成年产400吨抛光粉生产线。与此 同时长虹与日本松下公司进行合作，开始建设我国第一条 自动化彩电生产线。甘肃稀土集团公司生产的彩色显像管 专用抛光粉已经进入了市场，取代了进口产品，大大降低 了彩色电视机的生产成本。
由于氧化铝抛光后的产品成品率 不高，效率低且容易影响成品的品 级，随着稀土抛光粉的价格大幅度 下降，在2013年以来稀土抛光粉在 玻璃工艺品的应用方面需求非常旺 盛。
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二、抛光粉应用领域
我国稀土抛光粉的年需求量约为 1.5-2万吨。其中饰品和建 材用抛光粉的价格相对较低，需求量变化也不大，年需求 量维持在5000-6000吨的水平。
Fe3++3OH-=Fe(OH)3↓
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.3.2合成岗位 2.3.2.1目的: 用富铈（或少钕）氯化稀土溶液为原料，合成各种用途的 稀土抛光粉中间体。
2.3.2.2原理
RCl3+3H2SiF6＝R2(SiF6)3↓ +6HCl R2(SiF6)3 +2NH4HCO3 +2NH4OH＝2RFCO3↓ +3SiF4 +4NH4F +H2O 2RCl3 +4(NH4)2SO4 R2(SO4)3〃(NH4)2SO4〃XH2O↓+6NH4Cl +XH2O ＝
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.2大宗材料质量标准 2.2.1硫酸铵：N≥20% 工业级 2.2.2硅氟酸:含量≥40% HF/H2SiF6≤30% 2.2.3硫酸：≥98% 工业级 2.2.4氨水：浓度≥6mol/L 2.2.5碳酸氢铵：N≥16%，H2O≤3.5%。
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.3 稀土抛光粉生产各岗位操作目的及其生产原理 2.3.1配制岗位 2.3.1.1目的:为合成岗位配制碳酸氢铵溶液、硫酸铵溶液及稀土料液。 2.3.1.2原理 NH4HCO3 +NH3〃H2O＝（NH4）2CO3 + H2O
1.光信号传输转换领域,如数码照摄 像机、液晶投影电视、影像扫 描器等。 2.光储存领域,如DVD-ROM和MDPLAYER等光读取头计算机硬盘 玻璃基板等; 3.在光电显示器领域,包括背投电视 投影管镜头和LCD投影机光学 引擎等。
光电行业
光电行业的技术革新突飞 猛进，技术更新换代的时间越 来越短，智能手机，平板电脑， 超薄电视的普及，影响着各行 各业的发展。
2008年开始研制081系列抛光粉，2009年抛光粉生产线结 合升级改造整体搬迁到高新区，2011年建成年产1000吨的 高性能稀土液晶抛光粉生产线。
二、稀土抛光粉主要应用领域
传统光学
光电
玻璃工艺品
光学行业
传统光学玻璃虽在生产上 的增长开始减缓 , 但在医学、航 天、航空和常规武器装备等领 域依然呈增长态势。在光电信 息领域 , 需求量仍然巨大 , 主要 体现在三大领域:
2RCl3+3NH4HCO3 +3NH4OH＝R2(CO3) 3 +6NH4CL+H2O R2(CO3)3 +2H2O=2R(OH)CO3↓+CO2↑+H2↑
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.3.3烘干岗位 2.3.3.1 目的： 在适合的温度下，除去合成所得中间体中的水份，获得 干燥松散的抛光粉中间体。
中国稀土抛光粉起步较晚，要比较早用氧化铈做玻璃抛光 剂的欧洲晚了三十多年，可追溯到1958年，当时仅限于研 究院所和几个光学厂，采用独居石和氧化铈为原料，研制 出了主要用于光学镜头的稀土氧化物抛光粉。上世纪60年 代中期，开展了较多的分别用稀土氟碳铈矿、混合稀土和 较纯氧化铈为原料生产各种规格的稀土抛光粉研究工作， 取得了一些成果，为今后稀土抛光粉规模化生产和应用奠 定了基础。
R2(SO4)3〃(NH4)2SO4=R2(SO4)3 +(NH4)2SO4
2R2(SO4)3=2R2O3+6SO2↑+3O2↑
一、稀土抛光粉的发展历程
甘肃稀土集团公司从1977年开始生产抛光粉，是我国最早 生产抛光粉的专业厂家。70年代初期，我国开始研制生产 黑白电视机，电视显像管抛光成为抛光粉的主要应用市场。 公司从北京有色金属研究总院转让稀土抛光粉的生产技术， 成功开发出了 739型、771型抛光粉。在占领国内市场的同 时，为将产品打入国际市场，根据国外客商的要求，开发 出了797型、877型系列抛光粉，用于彩电显像用高质量的 抛光粉，在国内外市场占据了主导地位。
由于LCD平板显示行业的快速发展，在2013年ITO玻璃依然是抛光粉的主要应用方向之 一，ITO玻璃对于抛光粉的精度与稳定性要求较高。
玻璃工艺品
玻璃饰品（灯饰球、水晶、水钻） 加工行业是稀土抛光粉的另一大应 用领域。 2011 年稀土抛光粉价格大 幅度上涨，工厂开始更改工艺用氧 化铝替代稀土抛光粉，这些都导致 抛光粉在玻璃工艺品应用上的数量 在近两年持续下降。
制 滤 成 洗
在常温下按配比加入硅氟酸和 硫酸铵溶液的混合液，并搅拌30分钟
升温至90~94℃加入碳酸氢铵溶液进行沉淀 终止PH 值7.0，并保温煮沸30分钟
水
吸滤盘过滤
恒温段 950-1000℃煅烧 恒温8-10h
四孔窑焙烧 分 级
2、公司稀土抛光粉生产工艺
2.1、原料质量标准： 2.1.1 富 铈 氯 化 稀 土 原 料 : REO≥200 g/L, La2O3/REO=20 ～ 25% ， CeO2/REO=75 ～ 80% ， Pr6O11/REO≤0.01% ， Na2O≤0.026 g/L ， CaO≤0.4g/L ,Fe2O3≤0.01%，MnO2≤0.01%，PH＝1.0～2.5。 (注：非 稀土杂质按REO 200g/L折算。其它稀土氧化物均≤0.01% ，溶液清亮， 无固体颗粒物，无有机夹带。) 2.1.2氯化鐠稀土溶液： REO≥250 g/L,Pr6O11/REO≤99.5% ,Na2O≤0.026 g/L，CaO≤0.4g/L , Fe2O3≤0.01%，MnO2≤0.01%，PH＝1.0～2.5。(注：非稀土杂质按 REO 200g/L折算。其它稀土氧化物均≤0.01% ，溶液清亮，无固体颗粒物，无 有机夹带。)
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单击此处编辑母版副标题样式 205车间 李虎平
2015年7月13日
2015/12/16
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稀土抛光粉在应用型产品占比
稀土抛光粉概述
一、稀土抛光粉的发展历程 二、稀土抛光粉的主要应用领域 三、稀土抛光粉生产工艺 四、产业发展趋势
一、稀土抛光粉的发展历程
一、稀土抛光粉的发展历程
70年代，稀土抛光粉开始取代氧化铁（即铁红）用于玻璃 抛光，成为玻璃抛光加工过程中的关键工艺材料之一。与 传统抛光粉——铁红粉相比，稀土抛光粉具有抛光速度快、 光洁度高、不污染环境和使用寿命长的优点。用稀土抛光 粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，用氧化铁抛光粉则需 要30～60分钟。稀土抛光粉因其独特的化学机械作用原理 而带来的高抛光效率，成为玻璃抛光材料的首选，被广泛 用于镜片、光学元件（透镜、棱镜）、彩电玻壳、平板显 示器用电子玻璃、硅片、磁盘玻璃基片等产品的抛光加工。
目前的平板显示行业尤其是国内厂家的快速发展，使得稀土抛光粉在 平板显示领域应用量将会大幅度增加。目前在TFT—LCD方面，抛光粉 主要用于减薄。
光电行业
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ITO玻璃
触控面板技术，过去一直由G+G（cover glass+ ITO glass sensor ）与 GFF（cover glass +ITO薄膜sensor）垄断，在成本上G+G具有略有优势，故中端与中小尺寸的触控面板多 采用G+G。随着新型ITO薄膜大举导入以及薄膜ITO sensor价格的下滑，更重要的是由于 OGS与in-cell技术的快速发展，减少的正是ITO glass sensor，ITO sensor玻璃的用量势必 下降。