(2)镀多层镍
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一般半光亮镍层与全光亮镍层的厚度比为 3:1
电位差与含硫量关系?
•11
腐蚀机理
双镍镀层(30-10)-0.25um
铬 光亮镍
半光镍 •S<0.005%
基材
三镍镀层 (30-1-9)-0.25um
高硫镍
铬
光亮镍
0.04%<S<0.15%
半光镍 基材
一般半光亮镍与光亮镍层间的电位差应达到120~130mV之间,才有 较好的抗腐蚀效果;或者说,两层镍之间能保持这一电位差,这种双层 镍镀层的抗腐蚀性一定是不会差的。但因为半光亮镀镍槽极其“娇气”, 极少量的含硫化合物的污染就可使电位发生负移。
第三章 镀 镍
多层镍体系
2012.10
电镀多层镍
目前生产上普遍应用的电镀多层镍工艺主要有 (1)电镀双层镍。
电镀双层镍的结构为:钢铁/半光亮镍/光亮镍/铬 (2)电镀三层镍。
电镀三层镍的结构为:钢铁/半光亮镍/高硫镍/光亮镍/铬 (3)电镀四层镍。
钢铁/半光亮镍/高硫镍/光亮镍/镍封/铬
在镍层上镀覆的一薄层铬 ——既能提高耐磨性又能改善防护性能。
改正措施
活性炭处理以及小电流电解 调整硼酸至最佳水平 调整润湿剂含量
问题及解决-pH 对光亮镍镀层的影响
pH太高 • 延展性降低 • 应力增加 • 整平性提高 • 覆盖能力增强 • 镀层粗糙
pH太低 • 延展性提高 • 应力降低 • 对金属杂质的容
纳范围更大
• 烧焦可能性降低 • 光剂消耗降低
镀缎面镍
四层镍
CHROMIUM
CORROSION SITES
PARTICLE NICKEL SEMI
COPPER
BRIGHT NICKEL
BRIGHT NICKEL
ABS/PC LAYER
HIGH SULFUR
LAYER
Cu-LINK LAYER
Pd/Sn LAYER
QUADRUPLE SYSTEM
微孔个数的影响
化学活性
• 与半光镍镀层相比,光亮镍层硬度较大,延展性较低 • 一般来说,对于双镍镀层厚度,2/3为半光镍, 1/3为光
亮镍
一、电镀双层镍
电镀双层镍的外层是全光亮镍,含硫量大:腐蚀电位越低; 原电池
底层是半光亮镍,含硫量小:腐蚀电位越高。 △Ф>120mV时,腐蚀一旦发生,半光表层全光亮镍层将成为阳极而优 先腐蚀,使腐蚀在全光亮镍层中横向发展,从而保证了电镀双层镍 具有优良的耐蚀性。
• 当有水或者其它电解质存在时,形成腐蚀原电 池,镍为阳极,铬为阴极
– 很多这样的腐蚀原电池会迅速扩展开 – 不连续的微孔颗粒可以充分减小腐蚀点的面积 – 从而减慢镍层的被腐蚀
• 空气搅拌是微孔镍工艺成功与否的关键因素
– 微孔镍工艺上的问题几乎都和空气搅拌不良有关系
NICKEL CORROSION ON PLASTIC
氯化钠NaCl
/ g·L-1
酒石酸钠KNaC4H4O6·4H2O /g·L-1 pH值
温度
/℃
阴极电流密度
/A·dm-2
1 75 30 30 15
5.0 24~32 0.15
2(滚镀) 67.5 67.5 11.25
22.5 11.25 6.0~6.3 24~38 0.1~0.2
镀黑镍后,浸油或涂保护漆之前为防止镀层变色(工序间变色) 可进行钝化;CrO3 2.5g/L~5g/L;pH值1.5~5.0(用H2S04或 Na2CO3调);温度10℃~30℃;时间10s~20s。
•27
微孔镍 (镍封)
镍封镀液的组成及操作条件
成分及操作条件
1
硫酸镍NiSO4·6H2O 氧化镍NiCl2·6H2O 硼酸H3BO3 糖精
/g·L-1 /g·L -1 /g·L -1 /g·L -1
乙二胺四乙酸二钠盐
/g·L -1
硫酸钡BaSO4(0.2~0.4 μ m) /g·L-1 二氧化硅SiO2(0.02 μ m) /g·L -1 pH值
微孔数与CASS
微孔数
CASS测试16H后显微镜放大的腐蚀点
多层镍体系-光亮镍镀层问题及解决
• 半光镍 • 高硫镍 • 光亮镍 • 微孔镍
1. 结合力差
可能原因 电流问题 污染 光亮剂太多
改正措施 检查接触电以及电流供应 活性碳处理或者小电流电解 减少添加
压应力和张应力
压应力的镀层使工件将趋向背离镀层的方向弯曲
•36
• 镀黑镍
黑镍镀层其实是Ni-Zn、Ni-Mo等的合金镀层,具有装饰性 和可观赏性,主要用于光学工业、武器制造业和各种铭牌, 也可以利用其对太阳能的高吸收率来制备太阳能集热板。
一般黑镍镀层的耐蚀性及耐磨性均较差,与基体的结合力也 不好
所以,在镀黑镍前——需先在钢铁件或铜及铜合金上预镀 暗镍、锌、铜等底层,之后再镀黑镍以改善与基体的结合力。 镀后——往往还要将镀层进行浸油或涂漆等后处理,以改善 其耐蚀性和耐磨性
含硫化合物在镍结晶过层中会夹杂在晶格之间,使镍镀层的防腐蚀 能力降低
半光亮镍S<0.005%
光亮镍0.04%<S<0.15%
盐雾加速腐蚀实验方法
要提高镀层的防腐性能,
对镍封微孔数的控制也非常重 要!!
四层镍---微孔镍 (镍封)
微孔镍是在普通的光亮镀镍液中,加入某些非导体微粒(粒 径控制在0.0l μ m~0.5 μ m),通过搅拌,使这些微粒悬浮在 镀液中,在电流作用下,将这些微粒与金属镍发生共沉积, 形成镍与微粒组成的复合镀层
•39
(3)钼酸铵类 配方及操作条件
钼酸铵类镀黑镍工艺规范
成分及操作条件
1
硫酸镍 NiSO4·6H2O 钼酸铵(NH4)4Mo7O24·4H2O 硼酸H3BO3 pH值 温度
/g·L-1 /g·L -1 /g·L -1 /g·L -1
/℃
/A·dm-2
/min
300~350 45~90 40~45 20~80
适量 适量 55~65 3.5~4.5 4~7 强烈空气搅拌 5~10
乳浊液法 300~350 25~35 35~40
50~60 4.4~5.2
3~5 阴极移动 10~20
近年来,新开发的缎面镍工艺是在基础液中加入适当的 表面活性剂,在规定的浊点温度上,形成均匀的乳浊液, 从而和微粒作用类似,镀取表面细致的缎面镍层。
•35
2.镀缎面镍镀液的组成及操作条件
镀液的组成及操作条件
组成及操作条件
复合微粒法
硫酸镍NiS04·6H2O 氯化镍NiCl2·6H2O 硼酸H3BO3 微粒 促进剂 光亮剂 温度 pH值 阴极电流密度 搅拌 时间
温度
/℃
阴极电流密度
/A·dm-2
时间
(min)
搅拌
280~320 40~60 35~45 1.2~2.5 10~15
10~20
4~4.5 55~60
4~5 3~5 空气搅拌
镍封工艺采用的固体微粒有二氧化硅、在氧化二铝、硫酸钡等。早期镍
封工艺采用硫酸钡微粒较多,现在则采用二氧化硅较多,并加入一定量的 共沉积促进剂。
240~280 35~40 35~40 0.1~0.2 适量
45~60 4.2~4.8
3~5 需要
280~300 35~40 35~40 0.1~0.2
适量 45~60 3~3.5 3~5
需要
厚度/µm
>总厚度的 60%
1um(高硫+光亮 总厚度40%)
•19
CASS测试腐蚀状态
——含硫量越高,镀层耐腐蚀能力越差。
COPPER ABS/PC PLASTIC
Pd/Sn LAYER
BRIGHT NICKEL
Cu-Link
为什么要电镀双层 镍/三层镍??
腐蚀机理
单镍镀层
铬 半光镍
基材 铬 光亮镍
基材
腐蚀机理
双镍镀层
铬 光亮镍
半光镍
基材
优点
- Ni-Cr之间无需抛光 - 底材被保护
缺点
光镍层快速腐蚀
双层镍是在钢铁基体上先镀一层低硫(S<0.005%)的半光亮镍,再在 半光亮镍上镀一层含硫(0.04%<S<0.15%)的光亮镍,表面再镀铬。
多层镍工艺与其防腐性能
厚度仅是其中一项关键因素,
还有……
双层镍/三层镍的防腐性能受哪 些因素的影响?
镀层的物理性能
镀层之物理性能主要有
延展性
应力
含硫量
STEP(电位连续测定,STEP)
如若所有物理性能均不合乎标准将引起
因热膨胀导致裂纹 外观加速变差 加速腐蚀
冷热循环后之失败个案 ——镀层应力太大
半光镍
铬 微孔镍 光亮镍 高硫镍
底材
在电化学腐蚀过程中,铬是阴极,镍是阳极,当铬层表面微孔大量 增加时,阳极镍的腐蚀电流密度大为降低,也即减慢了镍层的腐蚀 速度,使镀层体系的耐蚀性明显提高。镍封层的微孔数在2~4万个 /cm2最为理想,微孔数过少,耐蚀性提高不明显;微孔数过多(如达 8万个/cm2),铬层出现倒光现象,影响装饰性。
•为了保证镀层的抗腐蚀性能,采用三层镍自然要保险得多。因高硫 镍与半光亮镍层间的层间电位差要达到150mV以上,这样电化学保 护半光亮镍层的性能就提高了
多层镍体系
• 半光镍 • 高硫镍 • 光亮镍 • 微孔镍
• 置于半光镍(无硫)和光亮镍镀层之间
• 是一层很薄的镍冲镀层,它的活性远超过其它两层
• 高硫镍和光亮镍之间的电位差至少提高了20 mV – 镀层硫含量直接决定镀层的活性 – 低pH可以提高硫含量
腐蚀机理
双镍镀层
铬 光亮镍
半光镍
基材
• 腐蚀攻击是首先作用在光亮镍层上 – 当腐蚀到基材时,光亮镍镀层大部分会被腐蚀 掉 – 所以在使用时,多采用双层镍镀层,这样比单 层镍防腐效果有明显提高
光亮镍
• 为后续的镀铬产生一层高整平、光亮的镀层 • 光亮镍镀液包含有机添加剂:
– 有机添加剂与金属同沉积在镀层上 – 硫也将会共沉积,并使得镀层比半光镍镀层更具电
各因素对镍层机械性能的影响
二、多层镍镀液的组成及操作条件
半亮镍,高硫镍镀液组成及操作条件
成分及操作条件
配 半光亮
方 高硫镍
硫酸镍NiSO4·6H2O/g·L-1 氯化镍NiCl2·6H2O/g·L-1 硼酸H3BO3/g·L-1 十二烷基硫酸钠/g·L-1 半光亮镍添加剂①/mL.L-1 高硫镍添加剂② /mL.L-1 温度/t pH值 阴极电流密度/A·dm-2 搅拌
张应力的镀层使工件将趋向朝着镀层的方向弯曲 镀层
第
一
类
光
压
亮
应
剂
力
产
生
的
源自文库
第
不二
张 应 力
良
影
响
较 大
类 光 亮 剂 产 生
的
问题及解决
2. 镀层粗糙
可能原因 阳极袋破裂 过滤不适当 硼酸过多 pH太高
3. 针孔
可能原因
污染 硼酸过多或过少 润湿剂太低
改正措施 更换阳极袋 改进过滤 降低硼酸至最佳水平 降低pH
4.5~5.5 30℃~36 ℃ 0.1A/dm2~4A/dm2
镀黑镍时要带电下槽,中途不能断电。
镍:40-60% 锌:20-30% 有机物:10%
(2)氯化物类 配方及操作条件
氯化物镀黑镍工艺规范
成分及操作条件
氯化镍NiCl2·6H2O 氯化铵NH4Cl 氯化锌ZnCl2 硫氰化钠NaCNS
/g·L-1 /g·L -1 /g·L-1 /g·L-1
•0.25μ m~0.5 μ m •0.1μ m •9μ m
•>40μ m •0.1μ m
•30μ m
半光镍
铬 微孔镍 光亮镍 •20mV 高硫镍
底材
底材半光亮镍/高硫镍/光亮镍/镍封/铬
•常用的微粒有硫酸盐、硅酸盐、氧化物、氮化物及碳化物等
微孔镍 (镍封)
• 用于在铬镀层中产生微孔
– 可以大幅度地提高镍层的抗腐效果
1.概述 从外观来看,缎面镍的光泽既不像光亮镍层那样镜面光
亮,也不像暗镍层那样暗然无光,而是色泽柔和。 缎面镍不仅外表美观,并具有良好的防腐性能,可直接
作为防护装饰性镀层的表层。 缎面镍应用范围很广,如汽车内部装饰件,摩托车零部
件,光学仪器零件,家用电器装饰件,室内装饰件等。
•34
镀缎面镍
缎面镍的电镀工艺与镀镍封层相同,仅在于选用微粒 的直径比镀镍封(粒径控制在0.0l μ m~0.5 μ m)的要大一 些,一般为0.03μm~3/μm之间,基础液可以选用镀光亮 镍或半亮镍的镀液。
2.镀液的类型及工艺规范
(1)硫氰酸盐类 其配方及操作条件为:
硫氰酸盐类镀黑镍工艺规范
成分及操作条件
1
硫酸镍 NiSO4·6H2O 硫酸锌ZnSO4·7H2O 硫酸镍铵NiSO4(NH4)2SO4·6H2O 硫氰酸铵NH4CNS 硼酸H3BO3 pH值
温度
阴极电流密度
80g/L~110g/L 40g/L~60g/L 40g/L~50g/L 40g/L~50g/L 25g/L~35g/L
双层镍
CHROMIUM
SEMI BRIGHT NICKEL
CORROSION SITE
BRIGHT NICKEL
STEEL/(COPPER)
钢铁/半光亮镍/光亮镍/铬
NICKEL CORROSION ON PLASTIC
双层镍
CHROMIUM
CORROSION SITE
SEMI BRIGHT NICKEL
电位差与含硫量关系?
•11
腐蚀机理
双镍镀层(30-10)-0.25um
铬 光亮镍
半光镍 •S<0.005%
基材
三镍镀层 (30-1-9)-0.25um
高硫镍
铬
光亮镍
0.04%<S<0.15%
半光镍 基材
一般半光亮镍与光亮镍层间的电位差应达到120~130mV之间,才有 较好的抗腐蚀效果;或者说,两层镍之间能保持这一电位差,这种双层 镍镀层的抗腐蚀性一定是不会差的。但因为半光亮镀镍槽极其“娇气”, 极少量的含硫化合物的污染就可使电位发生负移。
第三章 镀 镍
多层镍体系
2012.10
电镀多层镍
目前生产上普遍应用的电镀多层镍工艺主要有 (1)电镀双层镍。
电镀双层镍的结构为:钢铁/半光亮镍/光亮镍/铬 (2)电镀三层镍。
电镀三层镍的结构为:钢铁/半光亮镍/高硫镍/光亮镍/铬 (3)电镀四层镍。
钢铁/半光亮镍/高硫镍/光亮镍/镍封/铬
在镍层上镀覆的一薄层铬 ——既能提高耐磨性又能改善防护性能。
改正措施
活性炭处理以及小电流电解 调整硼酸至最佳水平 调整润湿剂含量
问题及解决-pH 对光亮镍镀层的影响
pH太高 • 延展性降低 • 应力增加 • 整平性提高 • 覆盖能力增强 • 镀层粗糙
pH太低 • 延展性提高 • 应力降低 • 对金属杂质的容
纳范围更大
• 烧焦可能性降低 • 光剂消耗降低
镀缎面镍
四层镍
CHROMIUM
CORROSION SITES
PARTICLE NICKEL SEMI
COPPER
BRIGHT NICKEL
BRIGHT NICKEL
ABS/PC LAYER
HIGH SULFUR
LAYER
Cu-LINK LAYER
Pd/Sn LAYER
QUADRUPLE SYSTEM
微孔个数的影响
化学活性
• 与半光镍镀层相比,光亮镍层硬度较大,延展性较低 • 一般来说,对于双镍镀层厚度,2/3为半光镍, 1/3为光
亮镍
一、电镀双层镍
电镀双层镍的外层是全光亮镍,含硫量大:腐蚀电位越低; 原电池
底层是半光亮镍,含硫量小:腐蚀电位越高。 △Ф>120mV时,腐蚀一旦发生,半光表层全光亮镍层将成为阳极而优 先腐蚀,使腐蚀在全光亮镍层中横向发展,从而保证了电镀双层镍 具有优良的耐蚀性。
• 当有水或者其它电解质存在时,形成腐蚀原电 池,镍为阳极,铬为阴极
– 很多这样的腐蚀原电池会迅速扩展开 – 不连续的微孔颗粒可以充分减小腐蚀点的面积 – 从而减慢镍层的被腐蚀
• 空气搅拌是微孔镍工艺成功与否的关键因素
– 微孔镍工艺上的问题几乎都和空气搅拌不良有关系
NICKEL CORROSION ON PLASTIC
氯化钠NaCl
/ g·L-1
酒石酸钠KNaC4H4O6·4H2O /g·L-1 pH值
温度
/℃
阴极电流密度
/A·dm-2
1 75 30 30 15
5.0 24~32 0.15
2(滚镀) 67.5 67.5 11.25
22.5 11.25 6.0~6.3 24~38 0.1~0.2
镀黑镍后,浸油或涂保护漆之前为防止镀层变色(工序间变色) 可进行钝化;CrO3 2.5g/L~5g/L;pH值1.5~5.0(用H2S04或 Na2CO3调);温度10℃~30℃;时间10s~20s。
•27
微孔镍 (镍封)
镍封镀液的组成及操作条件
成分及操作条件
1
硫酸镍NiSO4·6H2O 氧化镍NiCl2·6H2O 硼酸H3BO3 糖精
/g·L-1 /g·L -1 /g·L -1 /g·L -1
乙二胺四乙酸二钠盐
/g·L -1
硫酸钡BaSO4(0.2~0.4 μ m) /g·L-1 二氧化硅SiO2(0.02 μ m) /g·L -1 pH值
微孔数与CASS
微孔数
CASS测试16H后显微镜放大的腐蚀点
多层镍体系-光亮镍镀层问题及解决
• 半光镍 • 高硫镍 • 光亮镍 • 微孔镍
1. 结合力差
可能原因 电流问题 污染 光亮剂太多
改正措施 检查接触电以及电流供应 活性碳处理或者小电流电解 减少添加
压应力和张应力
压应力的镀层使工件将趋向背离镀层的方向弯曲
•36
• 镀黑镍
黑镍镀层其实是Ni-Zn、Ni-Mo等的合金镀层,具有装饰性 和可观赏性,主要用于光学工业、武器制造业和各种铭牌, 也可以利用其对太阳能的高吸收率来制备太阳能集热板。
一般黑镍镀层的耐蚀性及耐磨性均较差,与基体的结合力也 不好
所以,在镀黑镍前——需先在钢铁件或铜及铜合金上预镀 暗镍、锌、铜等底层,之后再镀黑镍以改善与基体的结合力。 镀后——往往还要将镀层进行浸油或涂漆等后处理,以改善 其耐蚀性和耐磨性
含硫化合物在镍结晶过层中会夹杂在晶格之间,使镍镀层的防腐蚀 能力降低
半光亮镍S<0.005%
光亮镍0.04%<S<0.15%
盐雾加速腐蚀实验方法
要提高镀层的防腐性能,
对镍封微孔数的控制也非常重 要!!
四层镍---微孔镍 (镍封)
微孔镍是在普通的光亮镀镍液中,加入某些非导体微粒(粒 径控制在0.0l μ m~0.5 μ m),通过搅拌,使这些微粒悬浮在 镀液中,在电流作用下,将这些微粒与金属镍发生共沉积, 形成镍与微粒组成的复合镀层
•39
(3)钼酸铵类 配方及操作条件
钼酸铵类镀黑镍工艺规范
成分及操作条件
1
硫酸镍 NiSO4·6H2O 钼酸铵(NH4)4Mo7O24·4H2O 硼酸H3BO3 pH值 温度
/g·L-1 /g·L -1 /g·L -1 /g·L -1
/℃
/A·dm-2
/min
300~350 45~90 40~45 20~80
适量 适量 55~65 3.5~4.5 4~7 强烈空气搅拌 5~10
乳浊液法 300~350 25~35 35~40
50~60 4.4~5.2
3~5 阴极移动 10~20
近年来,新开发的缎面镍工艺是在基础液中加入适当的 表面活性剂,在规定的浊点温度上,形成均匀的乳浊液, 从而和微粒作用类似,镀取表面细致的缎面镍层。
•35
2.镀缎面镍镀液的组成及操作条件
镀液的组成及操作条件
组成及操作条件
复合微粒法
硫酸镍NiS04·6H2O 氯化镍NiCl2·6H2O 硼酸H3BO3 微粒 促进剂 光亮剂 温度 pH值 阴极电流密度 搅拌 时间
温度
/℃
阴极电流密度
/A·dm-2
时间
(min)
搅拌
280~320 40~60 35~45 1.2~2.5 10~15
10~20
4~4.5 55~60
4~5 3~5 空气搅拌
镍封工艺采用的固体微粒有二氧化硅、在氧化二铝、硫酸钡等。早期镍
封工艺采用硫酸钡微粒较多,现在则采用二氧化硅较多,并加入一定量的 共沉积促进剂。
240~280 35~40 35~40 0.1~0.2 适量
45~60 4.2~4.8
3~5 需要
280~300 35~40 35~40 0.1~0.2
适量 45~60 3~3.5 3~5
需要
厚度/µm
>总厚度的 60%
1um(高硫+光亮 总厚度40%)
•19
CASS测试腐蚀状态
——含硫量越高,镀层耐腐蚀能力越差。
COPPER ABS/PC PLASTIC
Pd/Sn LAYER
BRIGHT NICKEL
Cu-Link
为什么要电镀双层 镍/三层镍??
腐蚀机理
单镍镀层
铬 半光镍
基材 铬 光亮镍
基材
腐蚀机理
双镍镀层
铬 光亮镍
半光镍
基材
优点
- Ni-Cr之间无需抛光 - 底材被保护
缺点
光镍层快速腐蚀
双层镍是在钢铁基体上先镀一层低硫(S<0.005%)的半光亮镍,再在 半光亮镍上镀一层含硫(0.04%<S<0.15%)的光亮镍,表面再镀铬。
多层镍工艺与其防腐性能
厚度仅是其中一项关键因素,
还有……
双层镍/三层镍的防腐性能受哪 些因素的影响?
镀层的物理性能
镀层之物理性能主要有
延展性
应力
含硫量
STEP(电位连续测定,STEP)
如若所有物理性能均不合乎标准将引起
因热膨胀导致裂纹 外观加速变差 加速腐蚀
冷热循环后之失败个案 ——镀层应力太大
半光镍
铬 微孔镍 光亮镍 高硫镍
底材
在电化学腐蚀过程中,铬是阴极,镍是阳极,当铬层表面微孔大量 增加时,阳极镍的腐蚀电流密度大为降低,也即减慢了镍层的腐蚀 速度,使镀层体系的耐蚀性明显提高。镍封层的微孔数在2~4万个 /cm2最为理想,微孔数过少,耐蚀性提高不明显;微孔数过多(如达 8万个/cm2),铬层出现倒光现象,影响装饰性。
•为了保证镀层的抗腐蚀性能,采用三层镍自然要保险得多。因高硫 镍与半光亮镍层间的层间电位差要达到150mV以上,这样电化学保 护半光亮镍层的性能就提高了
多层镍体系
• 半光镍 • 高硫镍 • 光亮镍 • 微孔镍
• 置于半光镍(无硫)和光亮镍镀层之间
• 是一层很薄的镍冲镀层,它的活性远超过其它两层
• 高硫镍和光亮镍之间的电位差至少提高了20 mV – 镀层硫含量直接决定镀层的活性 – 低pH可以提高硫含量
腐蚀机理
双镍镀层
铬 光亮镍
半光镍
基材
• 腐蚀攻击是首先作用在光亮镍层上 – 当腐蚀到基材时,光亮镍镀层大部分会被腐蚀 掉 – 所以在使用时,多采用双层镍镀层,这样比单 层镍防腐效果有明显提高
光亮镍
• 为后续的镀铬产生一层高整平、光亮的镀层 • 光亮镍镀液包含有机添加剂:
– 有机添加剂与金属同沉积在镀层上 – 硫也将会共沉积,并使得镀层比半光镍镀层更具电
各因素对镍层机械性能的影响
二、多层镍镀液的组成及操作条件
半亮镍,高硫镍镀液组成及操作条件
成分及操作条件
配 半光亮
方 高硫镍
硫酸镍NiSO4·6H2O/g·L-1 氯化镍NiCl2·6H2O/g·L-1 硼酸H3BO3/g·L-1 十二烷基硫酸钠/g·L-1 半光亮镍添加剂①/mL.L-1 高硫镍添加剂② /mL.L-1 温度/t pH值 阴极电流密度/A·dm-2 搅拌
张应力的镀层使工件将趋向朝着镀层的方向弯曲 镀层
第
一
类
光
压
亮
应
剂
力
产
生
的
源自文库
第
不二
张 应 力
良
影
响
较 大
类 光 亮 剂 产 生
的
问题及解决
2. 镀层粗糙
可能原因 阳极袋破裂 过滤不适当 硼酸过多 pH太高
3. 针孔
可能原因
污染 硼酸过多或过少 润湿剂太低
改正措施 更换阳极袋 改进过滤 降低硼酸至最佳水平 降低pH
4.5~5.5 30℃~36 ℃ 0.1A/dm2~4A/dm2
镀黑镍时要带电下槽,中途不能断电。
镍:40-60% 锌:20-30% 有机物:10%
(2)氯化物类 配方及操作条件
氯化物镀黑镍工艺规范
成分及操作条件
氯化镍NiCl2·6H2O 氯化铵NH4Cl 氯化锌ZnCl2 硫氰化钠NaCNS
/g·L-1 /g·L -1 /g·L-1 /g·L-1
•0.25μ m~0.5 μ m •0.1μ m •9μ m
•>40μ m •0.1μ m
•30μ m
半光镍
铬 微孔镍 光亮镍 •20mV 高硫镍
底材
底材半光亮镍/高硫镍/光亮镍/镍封/铬
•常用的微粒有硫酸盐、硅酸盐、氧化物、氮化物及碳化物等
微孔镍 (镍封)
• 用于在铬镀层中产生微孔
– 可以大幅度地提高镍层的抗腐效果
1.概述 从外观来看,缎面镍的光泽既不像光亮镍层那样镜面光
亮,也不像暗镍层那样暗然无光,而是色泽柔和。 缎面镍不仅外表美观,并具有良好的防腐性能,可直接
作为防护装饰性镀层的表层。 缎面镍应用范围很广,如汽车内部装饰件,摩托车零部
件,光学仪器零件,家用电器装饰件,室内装饰件等。
•34
镀缎面镍
缎面镍的电镀工艺与镀镍封层相同,仅在于选用微粒 的直径比镀镍封(粒径控制在0.0l μ m~0.5 μ m)的要大一 些,一般为0.03μm~3/μm之间,基础液可以选用镀光亮 镍或半亮镍的镀液。
2.镀液的类型及工艺规范
(1)硫氰酸盐类 其配方及操作条件为:
硫氰酸盐类镀黑镍工艺规范
成分及操作条件
1
硫酸镍 NiSO4·6H2O 硫酸锌ZnSO4·7H2O 硫酸镍铵NiSO4(NH4)2SO4·6H2O 硫氰酸铵NH4CNS 硼酸H3BO3 pH值
温度
阴极电流密度
80g/L~110g/L 40g/L~60g/L 40g/L~50g/L 40g/L~50g/L 25g/L~35g/L
双层镍
CHROMIUM
SEMI BRIGHT NICKEL
CORROSION SITE
BRIGHT NICKEL
STEEL/(COPPER)
钢铁/半光亮镍/光亮镍/铬
NICKEL CORROSION ON PLASTIC
双层镍
CHROMIUM
CORROSION SITE
SEMI BRIGHT NICKEL